一种真空等离子清洗腔体制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空等离子清洗腔体，包括滚筒、电极组件、气体管道、腔壳以及用于封闭所述腔壳的腔体门；所述滚筒转动安装于所述腔壳内；所述气体管道固设于所述滚筒的一端；所述电极组件贯穿所述腔壳的侧壁并伸入所述滚筒内；所述腔壳的侧壁上还开设有真空吸孔。本真空等离子清洗腔体通过真空吸孔进行抽真空，随后令气体管道向腔壳内注入工艺气体，并利用电极组件与滚筒内壁面放电产生等离子体即可清洗滚筒内部的材料；腔壳内的滚筒在转动过程中可带动滚筒内部的材料翻滚，令材料表面的清洗效果更均匀，尤其对粉末状和颗粒状的材料表面的清洗效果提升更明显。材料表面的清洗效果提升更明显。材料表面的清洗效果提升更明显。

【技术实现步骤摘要】
一种真空等离子清洗腔体


[0001]本技术涉及等离子清洗设备
，尤其涉及一种真空等离子清洗腔体。

技术介绍

[0002]目前市面上主流真空等离子清洗设备的清洗腔主要由射频或中频激励，一般在真空清洗腔内设有多层平行的水平电极或者垂直电极，将被处理产品放置在电极之间，通过两个平行电极放电产生等离子体对产品的表面进行处理。此种方式适用于处理市面上大多数常规产品的处理，但是对于颗粒状或粉末状的材料处理不便且处理效果不均匀。

技术实现思路

[0003]本技术所要解决的技术问题是：提供一种方便处理颗粒状或粉末状产品的真空等离子清洗腔体。
[0004]为了解决上述技术问题，本技术采用的技术方案为：一种真空等离子清洗腔体，包括滚筒、电极组件、气体管道、腔壳以及用于封闭所述腔壳的腔体门；所述滚筒转动安装于所述腔壳内；所述气体管道固设于所述滚筒的一端；所述电极组件贯穿所述腔壳的侧壁并伸入所述滚筒内；所述腔壳的侧壁上还开设有真空吸孔。
[0005]进一步的，所述气体管道围成圆环状，且所述气体管道靠近所述滚筒的一侧间隔地设有多个出气孔。
[0006]进一步的，所述滚筒的内周面上设有多个筋条，多个筋条围绕所述滚筒的周向均布。
[0007]进一步的，所述电极组件包括陶瓷柱、电极板和电极馈入轴；所述电极板设于所述滚筒内，所述陶瓷柱和所述电极馈入轴均与所述电极板的一端连接，且所述陶瓷柱远离所述电极板的一端固定连接于所述腔壳的侧壁上，所述腔壳的侧壁上设有供所述电极馈入轴伸出的安装孔。
[0008]进一步的，所述电极板上开设有多个通孔，多个所述通孔阵列设置。
[0009]进一步的，还包括多个滚轴，多个所述滚轴平行安装于所述腔壳内，所述滚筒架设于所述多个所述滚轴上，且所述滚筒的轴向与所述滚轴的轴向平行。
[0010]进一步的，还包括动力组件，所述动力组件包括驱动件、安装于所述滚筒上的第一传动件以及与所述第一传动件相配合的第二传动件，所述第二传动件设置于所述驱动件的输出端。
[0011]进一步的，还包括挡板和绝缘垫，所述挡板固定连接于所述腔壳的内壁面上并跨设于所述真空吸孔的一端，所述绝缘垫设于所述挡板与所述腔壳的内壁面之间。
[0012]进一步的，还包括视窗玻璃，所述腔体门上开设有观察窗，所述视窗玻璃封闭所述观察窗。
[0013]进一步的，所述腔壳和所述腔体门的接触面上设有密封圈。
[0014]本技术的有益效果在于：本真空等离子清洗腔体通过真空吸孔进行抽真空，
随后令气体管道向腔壳内注入工艺气体，并利用电极组件与滚筒内壁面放电产生等离子体即可清洗滚筒内部的材料；腔壳内的滚筒在转动过程中可带动滚筒内部的材料翻滚，令材料表面的清洗效果更均匀，尤其对粉末状和颗粒状的材料表面的清洗效果提升更明显。
附图说明
[0015]图1为本技术实施例一的真空等离子清洗腔体的整体结构示意图一；
[0016]图2为本技术实施例一的真空等离子清洗腔体的整体结构示意图二；
[0017]图3为本技术实施例一的真空等离子清洗腔体的整体结构示意图三；
[0018]图4为本技术实施例一的真空等离子清洗腔体的剖视图一；
[0019]图5为本技术实施例一的真空等离子清洗腔体的剖视图二；
[0020]图6为本技术实施例一的真空等离子清洗腔体中电极组件的结构示意图；
[0021]图7为本技术实施例一的真空等离子清洗腔体中滚筒和动力组件的结构示意图。
[0022]标号说明：
[0023]1、滚筒；11、筋条；12、窗口；
[0024]2、电极组件；21、陶瓷柱；22、电极板；221、通孔；23、电极馈入轴；
[0025]3、气体管道；31、出气孔；
[0026]4、腔壳；41、真空吸孔；
[0027]5、腔体门；51、视窗玻璃；
[0028]6、滚轴；
[0029]7、动力组件；71、驱动件；72、第一传动件；73、第二传动件；74、密封磁流体轴承；
[0030]8、挡板；81、绝缘垫；
[0031]9、密封圈。
具体实施方式
[0032]为详细说明本技术的
技术实现思路
、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。
[0033]请参照图1至图7，一种真空等离子清洗腔体，包括滚筒1、电极组件2、气体管道3、腔壳4以及用于封闭所述腔壳4的腔体门5；所述滚筒1转动安装于所述腔壳4内；所述气体管道3固设于所述滚筒1的一端；所述电极组件2贯穿所述腔壳4的侧壁并伸入所述滚筒1内；所述腔壳4的侧壁上还开设有真空吸孔41。
[0034]从上述描述可知，本技术的有益效果在于：本真空等离子清洗腔体通过真空吸孔41进行抽真空，随后令气体管道3向腔壳4内注入工艺气体，并利用电极组件2与滚筒1内壁面放电产生等离子体即可清洗滚筒1内部的材料；腔壳4内的滚筒1在转动过程中可带动滚筒1内部的材料翻滚，令材料表面的清洗效果更均匀，尤其对粉末状和颗粒状的材料表面的清洗效果提升更明显。
[0035]进一步的，所述气体管道3围成圆环状，且所述气体管道3靠近所述滚筒1的一侧间隔地设有多个出气孔31。
[0036]由上述描述可知，气体管道3的结构有利于工艺气体均匀地充斥滚筒1内部，进而
使材料表面的清洗效果更均匀。
[0037]进一步的，所述滚筒1的内周面上设有多个筋条11，多个筋条11围绕所述滚筒1的周向均布。
[0038]由上述描述可知，在滚筒1的内周面设置筋条11更有利于带动滚筒1内部的材料进行翻滚。
[0039]进一步的，所述电极组件2包括陶瓷柱21、电极板22和电极馈入轴23；所述电极板22设于所述滚筒1内，所述陶瓷柱21和所述电极馈入轴23均与所述电极板22的一端连接，且所述陶瓷柱21远离所述电极板22的一端固定连接于所述腔壳4的侧壁上，所述腔壳4的侧壁上设有供所述电极馈入轴23伸出的安装孔。
[0040]由上述描述可知，电极组件2的结构简单，利于生产装配；且电极板22与腔壳4绝缘连接，可防止漏电。
[0041]进一步的，所述电极板22上开设有多个通孔221，多个所述通孔221阵列设置。
[0042]由上述描述可知，在电极板22上开设通孔221可增大电极板22与空气的接触面积，提升放电效率。
[0043]进一步的，还包括多个滚轴6，多个所述滚轴6平行安装于所述腔壳4内，所述滚筒1架设于所述多个所述滚轴6上，且所述滚筒1的轴向与所述滚轴6的轴向平行。
[0044]由上述描述可知，滚轴6用于承受滚筒1的重量，同时还可以减轻滚筒1在滚动过程中受到的阻力。
[0045]进一步的，还包括动力组件7，所述动力组件7包括驱动件71、安装于所述滚筒1上的第一传动件72以及与所述第一传动件72相配合的第二传动件73，所述第二传动件73设置本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空等离子清洗腔体，其特征在于：包括滚筒、电极组件、气体管道、腔壳以及用于封闭所述腔壳的腔体门；所述滚筒转动安装于所述腔壳内；所述气体管道固设于所述滚筒的一端；所述电极组件贯穿所述腔壳的侧壁并伸入所述滚筒内；所述腔壳的侧壁上还开设有真空吸孔。2.根据权利要求1所述的真空等离子清洗腔体，其特征在于：所述气体管道围成圆环状，且所述气体管道靠近所述滚筒的一侧间隔地设有多个出气孔。3.根据权利要求1所述的真空等离子清洗腔体，其特征在于：所述滚筒的内周面上设有多个筋条，多个筋条围绕所述滚筒的周向均布。4.根据权利要求1所述的真空等离子清洗腔体，其特征在于：所述电极组件包括陶瓷柱、电极板和电极馈入轴；所述电极板设于所述滚筒内，所述陶瓷柱和所述电极馈入轴均与所述电极板的一端连接，且所述陶瓷柱远离所述电极板的一端固定连接于所述腔壳的侧壁上，所述腔壳的侧壁上设有供所述电极馈入轴伸出的安装孔。5.根据权利要求4所述的真空等离子清洗腔体，其特征在于：所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗弦，
申请(专利权)人：广东澳地特电气技术有限公司，
类型：新型
国别省市：