一种适用于真空镀碳炉的匀气装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及匀气装置领域，具体为一种适用于真空镀碳炉的匀气装置，包括两个平行布置的气管，所述气管一端均封闭，所述气管另一端均与分气罐连通，所述气管的侧壁上均匀分布有出气孔，且其中一所述气管侧壁上的出气孔所在位置与另一所述气管的位置错开。气管上均匀分布有出气孔将气体均匀分散，充满整个空间。位于腔体内的工件表面能够相对的，更加均匀的覆盖镀层。并且由于气体扩散较快、较为均匀，不易出现由于工件位置不同而导致的表面镀层出现较厚或较薄的情况，从而使得镀层加工成型时间短，通气量小，且镀层厚度更易把控。有效解决了现有真空镀碳时间长，通气量和镀层物料用量大，以及镀层质量难以把控的技术问题。以及镀层质量难以把控的技术问题。以及镀层质量难以把控的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于真空镀碳炉的匀气装置


[0001]本技术涉及匀气装置领域，具体为一种适用于真空镀碳炉的匀气装置。

技术介绍

[0002]真空镀碳生产过程中需要将含有镀层物料的气体均匀的送至镀料空间中，以充满整个腔体，以形成腔体空间。但是目前的真空镀碳设备是直接通过气孔将气体排放至空腔内部，导致靠近气孔处的工件表面镀层较厚，而远离气孔处的镀层较薄，甚至镀层不完整。因此，需要较长时间的通气，并且镀层物料用量大，导致浪费。

技术实现思路

[0003]为解决现有真空镀碳时间长，通气量和镀层物料用量大的技术问题，以实现均匀通气，以及工件表面镀层均匀目的，本技术通过以下技术方案予以实现：
[0004]一种适用于真空镀碳炉的匀气装置，包括两个平行布置的气管，所述气管一端均封闭，所述气管另一端均与分气罐连通，所述气管的侧壁上均匀分布有出气孔，且其中一所述气管侧壁上的出气孔所在位置与另一所述气管的位置错开。
[0005]进一步的，所述气管远离分气罐的一端焊接有封闭端口的封板。
[0006]进一步的，所述气管之间设有加强件，所述加强件本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于真空镀碳炉的匀气装置，其特征在于，包括两个平行布置的气管(1)，所述气管(1)一端均封闭，所述气管(1)另一端均与分气罐(2)连通，所述气管(1)的侧壁上均匀分布有出气孔(3)，且其中一所述气管(1)侧壁上的出气孔(3)所在位置与另一所述气管(1)的位置错开。2.根据权利要求1所述的一种适用于真空镀碳炉的匀气装置，其特征在于：所述气管(1)远离分气罐(2)的一端焊接有封闭端口的封板(4)。3.根据权利要求2所述的一种适用于真空镀碳炉的匀气装置，其特征在于：所述气管(1)之间设有加强件(5)，所述加强件(5)上设有用于固定的槽口(6)。4.根据权利要求2所述的一种适用于真空镀碳炉的匀气装置，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹宇，魏守冲，
申请(专利权)人：磐石创新江苏电子装备有限公司，
类型：新型
国别省市：