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本实用新型涉及匀气装置领域，具体为一种适用于真空镀碳炉的匀气装置，包括两个平行布置的气管，所述气管一端均封闭，所述气管另一端均与分气罐连通，所述气管的侧壁上均匀分布有出气孔，且其中一所述气管侧壁上的出气孔所在位置与另一所述气管的位置错开。气...
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