一种盖环及盖环保护治具制造技术

本实用新型专利技术公开了一种盖环及盖环保护治具，盖环包括盖环本体，盖环本体为圆环结构，盖环本体上设有外圈和内圈，外圈和内圈位于盖环本体的同一侧，外圈与内圈之间形成环形凹槽Ⅰ，盖环本体上内圈以内的环形面为装配面。盖环通过装配面安装在PVD装置的机台上。盖环保护治具包括治具本体，治具本体为圆环结构，治具本体上设有用于与盖环上外圈、内圈、环形凹槽和装配面配合的遮蔽面，盖环保护治具根据盖环形状进行仿形设计，盖环保护治具用于遮蔽盖环，对盖环上不需要熔射部位进行保护。本实用新型专利技术通过盖环保护治具替代高温胶带对不需要熔射部位进行保护，盖环保护治具采用方形设计，使用仿形治具直接填充需要保护的部位，避免残胶与胶印的问题。与胶印的问题。与胶印的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种盖环及盖环保护治具


[0001]本技术属于熔射保护
，具体涉及一种盖环及盖环保护治具。

技术介绍

[0002]半导体制程中用到PVD、CVD、ETCH、PHOTO、CMP、扩散等工艺，其中PVD是利用物理气象沉积的方法将需要的金属物质以溅射的方式沉积到硅片表面。此工序会用到各种不同名称的PVD装置，HOT AL是其中一种较为常见的机台。在沉积金属物质的过程中，我们只希望金属物质沉积在硅片的表面，因此需要对机台内部其它构造进行遮蔽，其中盖环就是较为关键的部件，因为它是直接与硅片接触的部件。为了能够最大限度的吸附金属沉积物，在再生清洗过程中会使用熔射工艺对其表面进行增粗处理。在熔射增粗前需要对特定位置使用高温胶带进行遮蔽保护，避免熔射焰流溅到光滑表面。
[0003]针对熔射部件遮蔽保护的常规做法是使用高温胶带对不需要熔射部位进行贴胶带保护，对于一些形状不规则的部件，人员贴胶带操作不方便，熔射时胶带容易被熔射焰流烧化，造成部品污染，且取下高温胶带的时候容易在部品表面残留胶印。
[0004]经检索发现2020
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06公开的专利号为CN202020520471的中国使用新型专利公开了一种盖环工件洗净防护周转机构，其包括底座的高度方向呈中空设置，伸缩件沿第一滑槽的长度方向可滑动设置于第一滑槽；承载盘沿底座的长度方向阵列设置；轨道设置于靠近第二滑槽的一侧，且其沿底座高度方向可滑动设置；以及滑动组件滑动设置于第三滑槽内，该滑动组件带动轨道上下滑动，且滑动组件可滑动设置于滑轨内；本技术通过与圆形工件相匹配的承载盘来承载工件，通过控制滑动组件使得承载盘由放置时的水平状态转动成竖直状态产生堆叠效果，不仅使得工件与工件之间相隔，不会产生相对摩擦，还能够避免使得堆叠后的工件与外界空气产生接触，提高熔射后的效果，避免产生不合格的产品。但仍然无法解决上述技术问题。

技术实现思路

[0005]针对现有技术中存在的不足，本技术的目的在于提供一种盖环及盖环保护治具，通过盖环保护治具替代高温胶带对需要熔射部位进行保护，盖环保护治具采用方形设计，使用仿形治具直接填充需要保护的部位，避免残胶与胶印的问题。
[0006]为实现上述目的，本技术的技术方案为：一种盖环，包括盖环本体，所述盖环本体为圆环结构，盖环本体上设有外圈和内圈，外圈和内圈位于盖环本体的同一侧，外圈与内圈之间形成环形凹槽Ⅰ，盖环本体上内圈以内的环形面为装配面。盖环通过装配面安装在PVD装置的机台上。
[0007]进一步的，所述装配面上设有装配孔，装配孔在装配面上沿圆周方向均匀分布。
[0008]进一步的，所述盖环本体上与外圈、内圈和装配面所在面相对的一面为工作面，工作面为平面，工作面的边缘与外圈之间设有圆角。
[0009]进一步的，所述盖环保护治具用于遮蔽盖环，盖环保护治具包括治具本体，治具本
体为圆环结构，治具本体上设有用于与盖环上外圈、内圈、环形凹槽Ⅰ和装配面配合的遮蔽面，盖环保护治具根据盖环形状进行仿形设计。
[0010]进一步的，所述遮蔽面包括第一遮蔽面、第二遮蔽面、第三遮蔽面和第四遮蔽面，第一遮蔽面与盖环上外圈的顶面贴合，第二遮蔽面与盖环上环形凹槽Ⅰ的底面贴合，第三遮蔽面与盖环上内圈的顶面贴合，第四遮蔽面与盖环上装配面贴合。
[0011]进一步的，所述治具本体上外部圆环和内部凸台，外部圆环与内部凸台位于治具本体的同一侧，外部圆环与内部凸台之间形成环形凹槽Ⅱ，环形凹槽Ⅱ的底面即为第三遮蔽面，盖环保护治具与盖环配合时，外部圆环插接在环形凹槽Ⅰ中，内圈插接在环形凹槽Ⅱ中。
[0012]进一步的，所述治具本体上外部圆环的底部设有翻边，翻边沿外部圆环的圆周设置，盖环保护治具与盖环配合时，翻边与外圈的顶面贴合，翻边的宽度等于外圈的厚度，翻边即为第一遮蔽面。
[0013]进一步的，所述内部凸台为圆形结构，内部凸台的顶面为圆环面，该圆环面的宽度大于等于装配面的宽度，盖环保护治具与盖环配合时，内部凸台的顶面与装配面贴合，内部凸台的顶面为第四遮蔽面。
[0014]进一步的，所述第四遮蔽面上设有凸起，凸起在第四遮蔽面沿圆周方向均匀分布，盖环保护治具与盖环配合时，凸起插接在盖环上的装配孔中。
[0015]采用本技术技术方案的优点为：
[0016]1、本技术通过盖环保护治具替代高温胶带对不需要熔射部位进行保护，盖环保护治具采用方形设计，使用仿形治具直接填充需要保护的部位，避免残胶与胶印的问题。
[0017]2、本技术盖环保护治具，防止在熔射作业过程中高温胶带滑落、偏移，造成熔射范围的不标准；使用此熔射盖环保护治具，对作业人员操作技能要求低，安装固定部件方便，适合批量生产。
附图说明
[0018]图1为本技术盖环保护治具整体结构示意图；
[0019]图2为本技术盖环保护治具正面示意图；
[0020]图3为本技术盖环正面示意图；
[0021]图4为本技术盖环背面示意图。
[0022]图中：1、盖环本体；11、外圈；12、内圈；13、环形凹槽Ⅰ；14、装配面；15、装配孔；16、工作面；2、治具本体；21、第一遮蔽面；22、第二遮蔽面；23、第三遮蔽面；24、第四遮蔽面；25、外部圆环；26、内部凸台；27、环形凹槽Ⅱ；28、凸起。
具体实施方式
[0023]在本技术中，需要理解的是，术语“长度”；“宽度”；“上”；“下”；“前”；“后”；“左”；“右”；“竖直”；“水平”；“顶”；“底”“内”；“外”；“顺时针”；“逆时针”；“轴向”；“平面方向”；“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位；以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0024]如图1所示，一种盖环及盖环保护治具，盖环包括盖环本体1，盖环本体1为圆环结构，盖环本体1上设有外圈11和内圈12，外圈11和内圈12位于盖环本体1的同一侧，外圈11与内圈12之间形成环形凹槽Ⅰ13，盖环本体1上内圈12以内的环形面为装配面14。盖环通过装配面14安装在PVD装置的机台上。盖环保护治具包括治具本体2，治具本体2为圆环结构，治具本体2上设有用于与盖环上外圈11、内圈12、环形凹槽13和装配面14配合的遮蔽面，盖环保护治具根据盖环形状进行仿形设计，盖环保护治具用于遮蔽盖环，对盖环上不需要熔射部位进行保护。本技术通过盖环保护治具替代高温胶带对不需要熔射部位进行保护，盖环保护治具采用方形设计，使用仿形治具直接填充需要保护的部位，避免残胶与胶印的问题。
[0025]装配面14上设有装配孔15，装配孔15在装配面14上沿圆周方向均匀分布。盖环本体1上与外圈11、内圈12和装配面14所在面相对的一面为工作面16，工作面16为平面，工作面16的边缘与外圈11之间设本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种盖环，其特征在于：包括盖环本体(1)，所述盖环本体(1)为圆环结构，盖环本体(1)上设有外圈(11)和内圈(12)，外圈(11)和内圈(12)位于盖环本体(1)的同一侧，外圈(11)与内圈(12)之间形成环形凹槽Ⅰ(13)，盖环本体(1)上内圈(12)以内的环形面为装配面(14)，盖环通过装配面(14)安装在PVD装置的机台上。2.如权利要求1所述的一种盖环，其特征在于：所述装配面(14)上设有装配孔(15)，装配孔(15)在装配面(14)上沿圆周方向均匀分布。3.如权利要求2所述的一种盖环，其特征在于：所述盖环本体(1)上与外圈(11)、内圈(12)和装配面(14)所在面相对的一面为工作面(16)，工作面(16)为平面，工作面(16)的边缘与外圈(11)之间设有圆角。4.一种盖环保护治具，其特征在于：如权利要求1至3任一项所述的一种盖环，所述盖环保护治具用于遮蔽盖环，盖环保护治具包括治具本体(2)，治具本体(2)为圆环结构，治具本体(2)上设有用于与盖环上外圈(11)、内圈(12)、环形凹槽Ⅰ(13)和装配面(14)配合的遮蔽面，盖环保护治具根据盖环形状进行仿形设计。5.如权利要求4所述的一种盖环保护治具，其特征在于：所述遮蔽面包括第一遮蔽面(21)、第二遮蔽面(22)、第三遮蔽面(23)和第四遮蔽面(24)，第一遮蔽面(21)与盖环上外圈(11)的顶面贴合，第二遮蔽面(22)与盖环上环形凹槽Ⅰ(13)的底面贴合，...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘其贵，夏虎燕，吴小杰，
申请(专利权)人：芜湖晶纯科技有限公司，
类型：新型
国别省市：