一种用于护盘喷砂的护盘保护结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于护盘喷砂的护盘保护结构，其特征在于：包括护盘和护盘保护治具，所述护盘保护治具为壳体结构，护盘保护治具根据护盘的形状进行仿形设计，护盘保护治具扣合在护盘上对护盘上不需要喷砂的部位进行遮蔽，需要喷砂的部位进行裸露。本实用新型专利技术通过护盘保护治具替代高温胶带对需要熔射部位进行保护，护盘保护治具采用方形设计，使用仿形治具直接遮盖需要保护的部位，避免残胶与胶印的问题。胶印的问题。胶印的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种用于护盘喷砂的护盘保护结构


[0001]本技术属于喷砂保护
，具体涉及一种用于护盘喷砂的护盘保护结构。

技术介绍

[0002]喷砂为护盘洗净环节中的重要步骤，其目的是提高工件表面粗度，在机台运行中吸附更多的尘埃粒子，从而延长机台保养周期。由于喷砂是针对护盘上的部分使用面，而非使用面则无需喷砂，因此在喷砂作业前需对其喷砂射部分进行遮护，目前使用遮护胶带进行遮护，但由于遮护部分为非规则平面，遮护作业耗时、耗力、耗材料。人员贴胶带操作不方便，喷砂时胶带容易被砂材打碎，造成部品污染，且取下胶带的时候容易在部品表面残留胶印。
[0003]半导体制程中用到PVD、CVD、ETCH、PHOTO、CMP、扩散等工艺，其中PVD是利用物理气象沉积的方法将需要的金属物质以溅射的方式沉积到硅片表面。此工序会用到各种不同名称的PVD装置，HOT AL是其中一种较为常见的机台。在沉积金属物质的过程中，我们只希望金属物质沉积在硅片的表面，因此需要对机台内部其它构造进行遮蔽，其中护盘就是较为关键的部件，因为它是直接与硅片接触的部件。为了能够最大限度的吸附金属沉积物，在再生清洗过程中会使用喷砂工艺对其表面进行增粗处理。在喷砂增粗前需要对特定位置使用喷砂胶带进行遮蔽保护，避免砂砾溅到光滑表面。
[0004]经检索发现2020
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27公开的专利号为CN202020357734的中国技术专利公开了一种shutter plate装置部件溶射范围保护治具，属于溶射保护治具领域，包括盘体，所述盘体下侧外壁固定安装有固定圈，所述固定圈左右两侧内部固定安装有滑动槽，所述滑动槽内部转动安装有金属滚球，所述盘体左右两侧的固定圈中心内部固定安装有插槽，所述插槽内部活动有插杆。通过设置嵌入式转动结构、嵌入式固定结构和不锈钢材料，便于对保护治具的固定，提高了保护治具的实用性。但仍然无法解决上述技术问题。

技术实现思路

[0005]针对现有技术中存在的不足，本技术的目的在于提供一种结构简单、使用方便、制造成本低的用于护盘喷砂的护盘保护结构，通过护盘保护治具替代高温胶带对需要熔射部位进行保护，护盘保护治具采用方形设计，使用仿形治具直接遮盖需要保护的部位，避免残胶与胶印的问题。
[0006]为实现上述目的，本技术的技术方案为：一种用于护盘喷砂的护盘保护结构，包括护盘和护盘保护治具，所述护盘保护治具为壳体结构，护盘保护治具根据护盘的形状进行仿形设计，护盘保护治具扣合在护盘上对护盘上不需要喷砂的部位进行遮蔽，需要喷砂的部位进行裸露。
[0007]进一步的，所述护盘的外部为阶梯结构，护盘保护治具的内部设有与护盘的外部配合的阶梯结构。
[0008]进一步的，所述护盘包括从下到上依次设置的第一层台阶、第二层台阶和第三层台阶，第一层台阶、第二层台阶和第三层台阶的外径依次减小。
[0009]进一步的，所述护盘还包括喷砂面，喷砂面为圆环结构，喷砂面位于第三层台阶的内侧，喷砂面与第三层台阶的顶面平齐。
[0010]进一步的，所述第一层台阶、第二层台阶和第三层台阶均为圆形结构，第一层台阶的内径等于第二层台阶的外径，第二层台阶的内径等于第三层台阶的外径，第三层台阶的内径等于喷砂面的外径。
[0011]进一步的，所述护盘保护治具包括从下到上依次设置的第一层壳体、第二层壳体和第三层壳体，护盘保护治具与护盘配合时，第一层壳体、第二层壳体和第三层壳体分别套在第一层台阶、第二层台阶和第三层台阶的外部。
[0012]进一步的，所述第一层壳体、第二层壳体和第三层壳体均为圆形结构，第一层壳体的内壁直径大于第一层台阶的外壁直径，第二层壳体的内壁直径大于第二层台阶的外壁直径，第三层壳体的内壁直径大于第三层台阶的外壁直径。
[0013]进一步的，所述第一层壳体、第二层壳体和第三层壳体的顶面宽度分别大于第一层台阶、第二层台阶和第三层台阶的顶面宽度，第三层壳体顶面的内径等于第三层台阶的内径，喷砂面裸露在护盘保护治具外。
[0014]采用本技术技术方案的优点为：
[0015]1、本技术通过护盘保护治具替代高温胶带对需要熔射部位进行保护，护盘保护治具采用方形设计，使用仿形治具直接遮盖需要保护的部位，避免残胶与胶印的问题。
[0016]2、本技术使用仿形设计的护盘保护治具对护盘进行保护，对员工技能要求低，适合批量生产。
附图说明
[0017]图1为本技术护盘保护治具外部示意图；
[0018]图2为本技术护盘保护治具内部示意图；
[0019]图3为本技术护盘结构示意图。
[0020]图中：1、护盘；11、第一层台阶；12、第二层台阶；13、第三层台阶；14、喷砂面；2、护盘保护治具；21、第一层壳体；22、第二层壳体；23、第三层壳体。
具体实施方式
[0021]在本技术中，需要理解的是，术语“长度”；“宽度”；“上”；“下”；“前”；“后”；“左”；“右”；“竖直”；“水平”；“顶”；“底”“内”；“外”；“顺时针”；“逆时针”；“轴向”；“平面方向”；“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位；以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0022]如图1所示，一种用于护盘喷砂的护盘保护结构，其特征在于：包括护盘1和护盘保护治具2，所述护盘保护治具2为壳体结构，护盘保护治具2根据护盘1的形状进行仿形设计，护盘保护治具2扣合在护盘1上对护盘1上不需要喷砂的部位进行遮蔽，需要喷砂的部位进行裸露。本技术通过护盘保护治具替代高温胶带对需要熔射部位进行保护，护盘保护
治具采用方形设计，使用仿形治具直接遮盖需要保护的部位，避免残胶与胶印的问题。
[0023]护盘1的外部为阶梯结构，护盘保护治具2的内部设有与护盘1的外部配合的阶梯结构。护盘1包括从下到上依次设置的第一层台阶11、第二层台阶12和第三层台阶13，第一层台阶11、第二层台阶12和第三层台阶13的外径依次减小。
[0024]护盘1还包括喷砂面14，喷砂面14为圆环结构，喷砂面14位于第三层台阶13的内侧，喷砂面14与第三层台阶13的顶面平齐。第一层台阶11、第二层台阶12和第三层台阶13均为圆形结构，第一层台阶11的内径等于第二层台阶12的外径，第二层台阶12的内径等于第三层台阶13的外径，第三层台阶13的内径等于喷砂面14的外径。
[0025]护盘保护治具2包括从下到上依次设置的第一层壳体21、第二层壳体22和第三层壳体23，护盘保护治具2与护盘1配合时，第一层壳体21、第二层壳体22和第三层壳体23分别套在第一层台阶11、第二层台阶12和第三层台阶13的外部。第一层台阶11的顶面与第一层壳体21的内顶面贴合，第二层台阶12的顶面与第二层壳体22的内顶面贴合，第三层台阶13的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于护盘喷砂的护盘保护结构，其特征在于：包括护盘(1)和护盘保护治具(2)，所述护盘保护治具(2)为壳体结构，护盘保护治具(2)根据护盘(1)的形状进行仿形设计，护盘保护治具(2)扣合在护盘(1)上对护盘(1)上不需要喷砂的部位进行遮蔽，需要喷砂的部位进行裸露。2.如权利要求1所述的一种用于护盘喷砂的护盘保护结构，其特征在于：所述护盘(1)的外部为阶梯结构，护盘保护治具(2)的内部设有与护盘(1)的外部配合的阶梯结构。3.如权利要求2所述的一种用于护盘喷砂的护盘保护结构，其特征在于：所述护盘(1)包括从下到上依次设置的第一层台阶(11)、第二层台阶(12)和第三层台阶(13)，第一层台阶(11)、第二层台阶(12)和第三层台阶(13)的外径依次减小。4.如权利要求3所述的一种用于护盘喷砂的护盘保护结构，其特征在于：所述护盘(1)还包括喷砂面(14)，喷砂面(14)为圆环结构，喷砂面(14)位于第三层台阶(13)的内侧，喷砂面(14)与第三层台阶(13)的顶面平齐。5.如权利要求4所述的一种用于护盘喷砂的护盘保护结构，其特征在于：所述第一层台阶(11)、第二层台阶(12)和第三层台阶(13)均为圆形结构，第一层台阶(11)的内径等于第二层台阶(12)的外径，第二层台...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘其贵，夏虎燕，吴小杰，
申请(专利权)人：芜湖晶纯科技有限公司，
类型：新型
国别省市：