一种废旧靶材再利用处理机构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种废旧靶材再利用处理机构，包括靶材本体，所述靶材本体的中部设置有消耗区域，所述靶材本体的四个转角处均设置有未消耗区域，所述靶材本体的内部设置有替换机构，所述替换机构包括第一空腔、拼接块、定位销、弹簧、第二空腔、插槽和定位孔。该废旧靶材再利用处理机构，通过设置第一空腔和第二空腔，便于替换消耗区域和未消耗区域的位置，使使用后的废旧靶材本体可以进行再次利用，当靶材本体使用完后，中间会出现消耗区域，将消耗区域从第一空腔内取出，再将第二空腔内的未消耗区域替补在第一空腔内，那么靶材本体可以再次利用，通过在消耗区域和未消耗区域的内部均设置两个拼接块，使两个拼接块可以插接到第二空腔内。空腔内。空腔内。

【技术实现步骤摘要】
一种废旧靶材再利用处理机构


[0001]本技术涉及靶材
，具体为一种废旧靶材再利用处理机构。

技术介绍

[0002]镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源，简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。
[0003]靶材在溅射镀膜的过程中，由于磁场出现磁界线，电子抨击靶材，使靶材表面形成弧状或者圆弧的一些形态，而现有的技术中，在使用完后直接整体报废，但是靶材溅射消耗的面积较小，利用率较低，造成较大的浪费，故而提出一种废旧靶材再利用处理机构来解决上述问题。

技术实现思路

[0004]针对现有技术的不足，本技术提供了一种废旧靶材再利用处理机构，具备提高靶材利用率等优点，解决了靶材在溅射镀膜的过程中，由于磁场出现磁界线，电子抨击靶材，使靶材表面形成弧状或者圆弧的一些形态，而现有的技术中，在使用完后直接整体报废，但是靶材溅射消耗的面积较小，利用率较本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种废旧靶材再利用处理机构，包括靶材本体(1)，其特征在于：所述靶材本体(1)的中部设置有消耗区域(2)，所述靶材本体(1)的四个转角处均设置有未消耗区域(3)，所述靶材本体(1)的内部设置有替换机构(4)；所述替换机构(4)包括第一空腔(401)、拼接块(403)、定位销(404)、弹簧(405)、第二空腔(406)、插槽(407)和定位孔(408)，所述靶材本体(1)的中部开设有第一空腔(401)，所述消耗区域(2)和未消耗区域(3)的内部均活动安装有数量为两个的拼接块(403)，每两个所述拼接块(403)相背离的一侧均固定安装有定位销(404)，每两个所述拼接块(403)相对的一侧之间均设置有数量为两个的弹簧(405)，所述靶材本体(1)的四个转角处均开设有第二空腔(406)，四个所述第二空腔(406)的两侧均开设有插槽(407)，每两个所述插槽(407)相背离的一侧均开设有数量为两个的定位孔(408)。2.根据权利要求1所述的一种废旧靶材再利用处理机构，其特征在于：四个所述未消耗区域(3)的形状和面积均与所述消耗区域(2)相等，四个所述第二空腔(406)均与所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：翟俊锋，乔建栋，
申请(专利权)人：苏州浩联光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：