【技术实现步骤摘要】
本专利技术一般而言涉及场型电子发射体,更具体而言,涉及这样一种 系统,该系统用于限制场型电子发射体阵列中的电弧放电效应,聚焦由 发射体产生的电子束,以及控制发射体阵列中的各个发射体。场发射体 单元包括保护和聚焦方案,该方案用于最小化电子束的衰减以及允许将 电子束聚焦成期望的斑点尺寸。提供一种允许以最小数量的控制通道来 单独控制在阵列中的场发射体单元的控制系统。
技术介绍
场型电子发射体阵列中的电子发射是根据Fowler-Nordheim理论产 生的,所述Fowler-Nordheim理论使干净金属表面的场发射电流密度与 在该表面处的电场相联系。大多数场型电子发射体阵列通常包括由许多 场发射体器件组成的阵列。发射体阵列可以被微加工或纳米加工以便在 单个芯片上包含数万个发射体器件。当被正确驱动时,每个发射体器件 可以从该发射体器件的尖端部分发射电子束或电子流。场发射体阵列具 有许多应用,其中之一是用在场发射体显示器中,所迷显示器可以作为 平板显示器来实施。另外,场发射体阵列可以具有在微波管、x射线管、 以及其它微电子器件中作为电子源的应用。电子发射场发射体器件自身可 ...
【技术保护点】
一种多点x射线发生器(90),包括: 多个电子发生器(10),其被布置成形成电子发生器矩阵(88),所述电子发生器矩阵(88)包括电连接到所述多个电子发生器(10)的多个激励连接(92),并且其中每个电子发生器(10)被连接到一对所述 激励连接(92)以从其接收电位; 阳极靶(38),其被配置成在由所述多个电子发生器(10)所产生的多个电子束(28)撞击时产生x射线焦斑(39)的阵列,从而提供对象的断层摄影成像; 阳极护罩(40),其围绕所述阳极靶(38)定位 以捕获从所述阳极靶(38)输出的反向轰击离子;以及 其中每个电子发生器(10)还包 ...
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员:Y邹,ME维尔米利,LP因津纳,VB内库莱斯,JS普赖斯,Y曹,A卡亚法,
申请(专利权)人:通用电气公司,
类型:发明
国别省市:US[美国]
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