一种药用蒙脱石X射线衍射图谱鉴别标准制造技术

本发明专利技术公开了一种药用蒙脱石的Ｘ射线衍射图谱鉴别标准，其特征在于蒙脱石Ｘ射线衍射图谱的特征谱线在约１．５ｎｍ和约０．４５ｎｍ波长处，图谱中其它杂质峰强度不得高于蒙脱石的第二个特征峰（约０．４５ｎｍ波长处），其中在约０．４０ｎｍ波长处和约０．３３ｎｍ波长处的两个杂质峰强度之和不得高于蒙脱石的第二个特征峰（约０．４５ｎｍ波长处）。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种药用蒙脱石的Ｘ射线衍射图谱鉴别标准，其特征在于蒙脱石Ｘ射线衍射图谱的特征谱线在约１．５ｎｍ和约０．４５ｎｍ波长处，图谱中其它杂质峰强度不得高于蒙脱石的第二个特征峰（约０．４５ｎｍ波长处），其中在约０．４０ｎｍ波长处和约０．３３ｎｍ波长处的两个杂质峰强度之和不得高于蒙脱石的第二个特征峰（约０．４５ｎｍ波长处）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张为胜，李诗标，许翠萍，徐东峰，张梅雪，
申请(专利权)人：济南康众医药科技开发有限公司，
类型：发明
国别省市：88[中国|济南]