支撑装置和具有其的晶体生长设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种支撑装置和具有其的晶体生长设备，支撑装置包括：固定件，固定件为环形且在内侧限定支撑空间，固定件具有容纳腔，固定件上形成有连通口，连通口连通容纳腔与支撑空间；支撑件，支撑件在初始位置和支撑位置之间可活动地设于固定件，支撑件在初始位置时，支撑件位于容纳腔内，支撑件在支撑位置时，支撑件的穿过连通口伸入支撑空间用于支撑二次加料管。根据本实用新型专利技术的支撑装置，通过设置固定件和支撑件，使支撑件在不需要对二次加料管支撑时不凸出在晶体生长设备内壁外，从而避免在晶体生长设备工作过程中产生的粉尘颗粒物堆积到支撑件上，同时避免了支撑件突出于晶体生长设备内壁而对炉内工艺气体流动造成扰动的不利影响。成扰动的不利影响。成扰动的不利影响。

【技术实现步骤摘要】
支撑装置和具有其的晶体生长设备


[0001]本技术涉及晶体生长设备
，尤其是涉及一种支撑装置和具有其的晶体生长设备。

技术介绍

[0002]晶体生长设备内在晶体生长过程中，为了增加炉内投料量，一般会采用二次装料的工序，在此工序中，采用石英加料管，将硅料装入石英加料管内，然后吊装至晶体生长设备副室内，关闭副室后，达到加料条件后，二次加料器下降至设定高度，二次加料器的外部法兰会压在炉体内置的支撑装置上，支撑装置一般凸出固定在副室内壁上，这会导致副室内壁与水冷套无法光滑连接，突出来的支撑平台会在一定程度上影响工艺气体的流动，从而对晶体制备产生不利的影响，同时，在晶体生长过程中产生的粉尘颗粒物容易在支撑装置上堆积，在气流扰动的作用下，堆积的粉尘颗粒物容易在炉内飘散，从而影响晶体的制备。

技术实现思路

[0003]本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术在于提出一种支撑装置，所述支撑装置可以使晶体生长设备在生产制备单晶时炉内环境更加良好，气体流动更顺畅，生产工作更加稳定。
[0004]本技术还提出一种具有上述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种支撑装置，其特征在于，所述支撑装置用于支撑晶体生长设备的二次加料管，所述支撑装置包括：固定件，所述固定件为环形且在内侧限定支撑空间，所述固定件具有容纳腔，所述固定件上形成有连通口，所述连通口连通所述容纳腔与所述支撑空间；支撑件，所述支撑件在初始位置和支撑位置之间可活动地设于所述固定件，所述支撑件在所述初始位置时，所述支撑件位于所述容纳腔内，所述支撑件在所述支撑位置时，所述支撑件穿过所述连通口伸入所述支撑空间用于支撑所述二次加料管。2.根据权利要求1所述的支撑装置，其特征在于，所述支撑件包括多个，多个所述支撑件环绕所述支撑空间间隔布置。3.根据权利要求2所述的支撑装置，其特征在于，所述支撑件可转动地设于所述固定件上，所述支撑件具有支撑部，所述支撑件形成有第一缺口，所述第一缺口与所述支撑部在所述支撑件的旋转方向上间隔排布，其中，所述支撑件在所述初始位置时，所述第一缺口朝向所述连通口且不伸入所述支撑空间，所述支撑件在所述支撑位置时，所述支撑部穿过所述连通口伸入所述支撑空间。4.根据权利要求3所述的支撑装置，其特征在于，所述支撑部上形成有第二缺口，所述支撑件在所述支撑位置时，所述第二缺口朝向所述二次加料管。5.根据权利要求4所述的支撑装置，其特征在于，所述第一缺口为圆弧形缺口，所述第二缺口为圆弧形缺口。6.根据权利要求1所述的支撑装置，其特征在于，还包括驱动机构，所述驱动机构与所述支撑件相连用于驱动所述支撑件在所述初始位置和所述支撑位置之间活动。7.根据权利要求6所述的支撑装置，其特征在于，所述驱动机构包括：驱动电机和驱动齿轮，所述驱动电机通...

【专利技术属性】
技术研发人员：颜子棋，李向阳，冯参，
申请(专利权)人：中环领先徐州半导体材料有限公司，
类型：新型
国别省市：