一种硅晶圆洗剂的制备设备制造技术

技术编号:37596415 阅读:13 留言:0更新日期:2023-05-18 11:43
本发明专利技术涉及硅晶圆洗剂加工领域,具体公开了一种硅晶圆洗剂的制备设备,所述硅晶圆洗剂的制备设备包括硅晶圆洗剂制备设备主体和加热蛇形管,所述硅晶圆洗剂制备设备主体的外板设置有限位组件,所述限位圆形壳的两侧顶部开设有透气管,所述加热蛇形管安装于限位圆形壳的内部,所述限位圆形壳的顶部设置有防护组件,有益效果为:通过限位组件和防护组件,有利于操作人员能够较为便捷的拆装更换加热蛇形管较为省力,并且储存容器、伸缩杆、限位底块、硅胶头和限位块,有利于操作人员能够根据现场需求,较为便捷的对硅晶圆洗剂原料进行控量,同时伸缩外板、限位内板和宽板,有利于操作人员能够将需制备的物品和硅晶圆洗剂原料进行暂存。暂存。暂存。

【技术实现步骤摘要】
一种硅晶圆洗剂的制备设备


[0001]本专利技术涉及硅晶圆洗剂加工领域,具体为一种硅晶圆洗剂的制备设备。

技术介绍

[0002]硅晶圆洗剂的制备设备又称硅晶圆洗剂反应釜,而硅晶圆洗剂反应釜的广义理解即有物理或化学反应的容器,通过对容器的结构设计与参数配置,从而实现硅晶圆洗剂工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配制备功能。
[0003]硅晶圆洗剂的制备设备在使用过程中,虽然能够通过在搅拌轴的中心形成中心进料通道,能够直接将物料投放到反应釜的底部,避免物料粘附在搅拌轴的表面,但是忽略了该装置的加热蛇形管不具备便于拆装结构,导致操作人员后期在拆装加热蛇形管时需花费大量的时间,从而耽误了操作人员的工作效率,为此,我们提出一种硅晶圆洗剂的制备设备。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种硅晶圆洗剂的制备设备,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种硅晶圆洗剂的制备设备,所述硅晶圆洗剂的制备设备包括硅晶圆洗剂制备设备主体和加热蛇形管,所述硅晶圆洗剂制备设备主体的外板设置有限位组件,且限位组件包括限位圆形壳和透气管,所述限位圆形壳的两侧顶部开设有透气管,所述加热蛇形管安装于限位圆形壳的内部,所述限位圆形壳的顶部设置有防护组件,且防护组件包括圆形限位盖和螺纹扣,所述圆形限位盖的顶部两侧螺纹连接有螺纹扣,且螺纹扣设置有四个,所述限位圆形壳的外板设置有限位件。
[0006]优选的,所述硅晶圆洗剂制备设备主体的顶部一侧开设有进料端口,且硅晶圆洗剂制备设备主体与进料端口为一体化连接。
[0007]优选的,所述进料端口的内部后壁设置有储存容器,且储存容器的底部设置有伸缩杆。
[0008]优选的,所述伸缩杆的底部设置有限位底块,且伸缩杆与限位底块为固定连接。
[0009]优选的,所述限位底块的顶部两侧设置有硅胶头,且限位底块与硅胶头为一体化连接,用于对伸缩杆进行限位固定。
[0010]优选的,所述储存容器的两侧底部设置有限位块,且储存容器与限位块为一体化连接。
[0011]优选的,所述硅晶圆洗剂制备设备主体的底部设置有支撑座,且支撑座的一侧设置有伸缩外板。
[0012]优选的,所述伸缩外板的一侧设置有限位内板,且限位内板的顶部安装有宽板。
[0013]与现有技术相比,本专利技术的有益效果是:通过限位组件和防护组件,有利于操作人员能够较为便捷的拆装更换加热蛇形管较为省力,并且储存容器、伸缩杆、限位底块、硅胶
头和限位块,有利于操作人员能够根据现场需求,较为便捷的对硅晶圆洗剂原料进行控量,同时伸缩外板、限位内板和宽板,有利于操作人员能够将需制备的物品和硅晶圆洗剂原料进行暂存。
[0014]1、本专利技术限位组件和防护组件的设置,操作人员先将加热蛇形管放置在限位圆形壳内部开设的圆形槽里,之后操作人员再将圆形限位盖放置在限位圆形壳的顶部,这是圆形限位盖表面开设的四个螺纹孔会自动与限位圆形壳底部表面开设的底部螺纹孔进行对齐,对齐之后操作人员通过螺丝刀分别带动四个螺纹扣进行转动,直至四个螺纹扣分别贯穿四个圆形限位盖表面开设的四个螺纹孔,穿入限位圆形壳的内部,使得圆形限位盖能够限位固定在限位圆形壳的顶部,有利于操作人员能够较为便捷的拆装更换加热蛇形管较为省力,此操作方式较为便捷,缩短了操作时间,提高操作人员的工作效率。
[0015]2、本专利技术储存容器、伸缩杆、限位底块、硅胶头和限位块的设置,操作人员先通过储存容器前方的计量表,根据现场需求将硅晶圆洗剂原料适量倒入储存容器的内部,倒入一定量的硅晶圆洗剂原料后,操作人员通过两个伸缩杆手握储存容器一侧的把手往下移动,使得限位底块能够分别带动两个硅胶头,与两个限位块下表面开设的矩形槽分离,这时适量的硅晶圆洗剂原料会通过储存容器底部与限位底块顶部之间的空隙掉落到储存容器的内部,有利于操作人员能够根据现场需求,较为便捷的对硅晶圆洗剂原料进行控量,使得该装置使用范围更加广泛。
附图说明
[0016]图1为本专利技术一种硅晶圆洗剂的制备设备的正视结构示意图;
[0017]图2为本专利技术一种硅晶圆洗剂的制备设备的图1中A处放大结构示意图;
[0018]图3为本专利技术一种硅晶圆洗剂的制备设备的图1中B处放大结构示意图;
[0019]图4为本专利技术一种硅晶圆洗剂的制备设备的支撑座与伸缩外板立体结构示意图。
[0020]图中:1、硅晶圆洗剂制备设备主体;2、限位组件;201、限位圆形壳;202、透气管;3、加热蛇形管;4、防护组件;401、圆形限位盖;402、螺纹扣;5、限位件;6、进料端口;7、储存容器;8、伸缩杆;9、限位底块;10、硅胶头;11、限位块;12、支撑座;13、伸缩外板;14、限位内板;15、宽板。
具体实施方式
[0021]为了使本专利技术的目的、技术方案进行清楚、完整地描述,及优点更加清楚明白,以下结合附图对本专利技术实施例进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例,仅仅用以解释本专利技术实施例,并不用于限定本专利技术实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。
[0022]在本专利技术的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“中”、“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“顶”、“底”、“侧”、“竖直”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本专利技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本专利技术的限制。此外,术语“一”、“第一”、“第二”、“第三”、“第四”、“第五”、“第六”仅用于描述目的,而不能理
解为指示或暗示相对重要性。
[0023]在本专利技术的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0024]出于简明和说明的目的,实施例的原理主要通过参考例子来描述。在以下描述中,很多具体细节被提出用以提供对实施例的彻底理解。然而明显的是,对于本领域普通技术人员,这些实施例在实践中可以不限于这些具体细节。在一些实例中,没有详细地描述公知方法和结构,以避免无必要地使这些实施例变得难以理解。另外,所有实施例可以互相结合使用。
[0025]请参阅图1和图2,本专利技术提供一种技术方案:一种硅晶圆洗剂的制备设备,硅晶圆洗剂的制备设备包括硅晶圆洗剂制备设备主体1和加热蛇形管3,硅晶圆洗剂制备设备主体1的外板设置有限位组件2,且限位组件2包括限位圆形壳201和透气管202,限位圆形壳201的两侧顶部开设有透气管202,加热蛇形管本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅晶圆洗剂的制备设备,其特征在于:所述硅晶圆洗剂的制备设备包括硅晶圆洗剂制备设备主体(1)和加热蛇形管(3),所述硅晶圆洗剂制备设备主体(1)的外板设置有限位组件(2),且限位组件(2)包括限位圆形壳(201)和透气管(202),所述限位圆形壳(201)的两侧顶部开设有透气管(202),所述加热蛇形管(3)安装于限位圆形壳(201)的内部,所述限位圆形壳(201)的顶部设置有防护组件(4),且防护组件(4)包括圆形限位盖(401)和螺纹扣(402),所述圆形限位盖(401)的顶部两侧螺纹连接有螺纹扣(402),且螺纹扣(402)设置有四个,所述限位圆形壳(201)的外板设置有限位件(5)。2.根据权利要求1所述的一种硅晶圆洗剂的制备设备,其特征在于:所述硅晶圆洗剂制备设备主体(1)的顶部一侧开设有进料端口(6),且硅晶圆洗剂制备设备主体(1)与进料端口(6)为一体化连接。3.根据权利要求2所述的一种硅晶圆洗剂的制备设备,其特征在于:所述进料端口(6)的内部后壁设置有储...

【专利技术属性】
技术研发人员:郑明伟王国辉
申请(专利权)人:江苏芯诺半导体科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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