【技术实现步骤摘要】
电路板结构
[0001]本专利技术涉及一种基板结构,尤其涉及一种电路板结构。
技术介绍
[0002]在现有电路板中,同轴穿孔(coaxial via)的设计在内部导体层与外部导体层之间需要有一层或一层以上的绝缘层来作阻绝,其中形成绝缘层的方式是通过压合增层的方式来达成。因此在同轴穿孔的两端会有阻抗不匹配且会出现电磁干扰(electromagnetic interference,EMI)屏蔽缺口,进而影响高频信号完整性。
技术实现思路
[0003]本专利技术是针对一种电路板结构,其可有效的阻止能量损失及减少噪声干扰,可具有较佳的信号完整性。
[0004]根据本专利技术的实施例,电路板结构包括基底、第三介电层、第四介电层、第一外部线路层、第二外部线路层、导电通孔、第一环型挡墙以及第二环型挡墙。基底具有开口,且包括第一介电层、第二介电层、第一内部线路层、第二内部线路层以及导电连接层。开口贯穿第一介电层。第一介电层具有彼此相对的第一表面与第二表面。第一内部线路层配置于第一表面上,而第二内部线路层配置于第二表面上。导电连接层覆盖开口的内壁且连接第一内部线路层与第二内部线路层。第二介电层填满开口,且第二介电层具有彼此相对的第三表面与第四表面。第三介电层覆盖第一内部线路层与第三表面。第四介电层覆盖第二内部线路层与第四表面。第一外部线路层配置于第三介电层上。第二外部线路层配置于第四介电层上。导电通孔贯穿第三介电层、第二介电层以及第四介电层,且电性连接第一外部线路层与第二外部线路层。第一环型挡墙配置于第三介电层 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种电路板结构,其特征在于,包括:基底,具有开口,且包括第一介电层、第二介电层、第一内部线路层、第二内部线路层以及导电连接层,其中所述开口贯穿所述第一介电层,所述第一介电层具有彼此相对的第一表面与第二表面,所述第一内部线路层配置于所述第一表面上,而所述第二内部线路层配置于所述第二表面上,所述导电连接层覆盖所述开口的内壁且连接所述第一内部线路层与所述第二内部线路层,而所述第二介电层填满所述开口,且所述第二介电层具有彼此相对的第三表面与第四表面;第三介电层,覆盖所述第一内部线路层与所述第三表面;第四介电层,覆盖所述第二内部线路层与所述第四表面;第一外部线路层,配置于所述第三介电层上;第二外部线路层,配置于所述第四介电层上;导电通孔,贯穿所述第三介电层、所述第二介电层以及所述第四介电层,且电性连接所述第一外部线路层与所述第二外部线路层;第一环型挡墙,配置于所述第三介电层内、围绕所述导电通孔且电性连接所述第一外部线路层以及所述第一内部线路层;以及第二环型挡墙,配置于所述第四介电层内、围绕所述导电通孔且电性连接所述第二外部线路层以及所述第二内部线路层。2.根据权利要求1所述的电路板结构,其特征在于,所述第一外部线路层、所述导电通孔以及所述第二外部线路层而定义出信号路径,而所述第一外部线路层、所述第一环型挡墙、所述第一内部线路层、所述导电连接层、所述第二内部线路层、所述第二环型挡墙以及所述第二外部线路层定义出接地路径,且所述接地路径环绕所述信号路径。3.根据权利要求2所述的电路板结构,其特征在于,所述第一外部线路层包括第一信号线路以及第一接地线路,而所述第二外部线路层包括第二信号线路以及第二接地线路,所述第一信号线路、所述导电通孔以及所述第二信号线路定义出所述信号路径,所述第一接地线路、所述第一环型挡墙、所述第一内部线路层、所述导电连接层、所述第二内部线路层、所述第二环型挡墙以及所述第二接地线路定义出所述接地路径。4.根据权利要求1所述的电路板结构,其特征在于,所述导电通孔包括贯孔、导电材料层以及填孔材料,所述贯孔贯穿所述第三介电层、所述第二介电层以及所述第四介电层,而所述导电材料层覆盖所述贯孔的内壁且电性连接所述第一外部线路层与所述第二外部线路层,所述填孔材料填满所述贯孔,且所述第一外部线路层与所述第二外部线路层分别覆盖所述填孔材料彼此相对的上表面与下表面。5.一种电路板结构,其特征在于,包括:第一基底,包括第一介电层、第一外部线路层、第一导电通孔以及第一内部线路层,其中所述第一外部线路层与所述第一内部线路层分别位于所述第一介电层的相对两侧上,所述第一导电通孔贯穿所述第一介电层且电性连接所述第一外部线路层与所述第一内部线路层;第二基底,包括第二介电层、第二外部线路层、第二导电通孔以及第二内部线路层,其中所述第二外部线路层与所述第二内部线路层分别位于所述第二介电层的相对两侧上,所述第二导电通孔贯穿所述第二介电层且电性连接所述第二外部线路层与所述第二内部线
路层;第三介电层,覆盖所述第一内部线路层;第四介电层,覆盖所述第二内部线路层;第一环型挡墙,配置于所述第三介电层内且电性连接所述第一内部线路层,其中所述第一环型挡墙在所述第一基底上的正投影围绕所述第一导电通孔;以及第二环型挡墙,配置于所述第四介电层内...
【专利技术属性】
技术研发人员:程石良,
申请(专利权)人:欣兴电子股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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