一种用于半导体制造中清洁及静电消除装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种用于半导体制造中清洁及静电消除装置，包括设置成倒置状U型结构的风淋单元，前后两侧设置有可以通入操作员的通道；底座安装在风淋单元左右两侧底部的间隙之间；清洁单元安装在底座靠近入口的一侧上；静电消除单元安装在底座靠近出口的一侧上；清洁单元和静电消除单元设置在同一路径上，且位于风淋单元内设置有一对。本实用新型专利技术用采用在风淋单元内集成风淋、清洁和除静电，同时风淋单元可以同时容纳两组清洁单元盒静电消除单元，一方面，在人体、带静电物体静电解除把手三者联成一线的瞬间将静电消除掉，最终实现静电快速清除的目的，另一方面，达到了解决人流过大，同时进行多人清洁的效果。同时进行多人清洁的效果。同时进行多人清洁的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种用于半导体制造中清洁及静电消除装置


[0001]本技术涉及半导体领域，尤其是涉及半导体静电消除领域，具体为一种用于半导体制造中清洁及静电消除装置。

技术介绍

[0002]在电子元件制造领域，静电往往会由于接触和摩擦等原因形成于电子元件的表面上，而形成的静电会对灰尘等细小颗粒产生吸引力，使其吸附于电子元件的表面，对其产生污染。然而，不少工艺对洁净程度要求较高，如微影和蚀刻等半导体加工工艺。此外，当静电累计到一定量之后，便会产生静电放电，对电子元件造成损坏，因此，有必要对电子元件进行静电消除。
[0003]另一方面，半导体企业随着发展不断壮大，人数也从原来的几百人扩大至几千人的规模，操作人员占大多数，每天人员的清洁也是一件耗时的事情，在提高产品生产质量的时候，也要考虑到员工效率的问题，因此，在当大量人员进行早班、交接班等人流大的时候，普通风淋机、除静电的工序也会占用较长时间，产生排队的现象。
[0004]现有技术中公开了一种风淋室，专利号CN201811537044.2，披露了第一风淋室、第二风淋室、壳体，所述第一风淋室后部设置有所述第二风淋室，所述第一风淋室和所述第二风淋室包括所述壳体，所述壳体内部设置有格栅底板，所述格栅底板下方设置有静电板，所述静电板下方设置有第二过滤网，所述第二过滤网下方设置有第二风机，所述静电板侧面设置有控制器，所述控制器远离所述静电板一侧设置有电压传感器，所述格栅底板两侧设置有格栅侧板。有益效果在于：本专利技术通过人体红外传感器检测是否有人出现，进而控制风淋工作的进行，避免了误操作现象的出现，减少了能源的浪费，同时还能及时提醒工作人员进行检修工作，提高了设备的使用可靠性。但是，上述结构的风淋室的结构还是用于取消身体上带有杂质，目的是粉尘等杂质吸附在静电板1上，并不是消除人体所带有的磁力，效果不同。

技术实现思路

[0005]鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种用于半导体制造中清洁及静电消除装置，用于解决现有技术的难点。
[0006]为实现上述目的及其他相关目的，本技术提供一种用于半导体制造中清洁及静电消除装置，包括：
[0007]风淋单元1，所述风淋单元1设置成倒置状的U型结构，前后两侧设置有可以通入操作员的通道2；
[0008]底座3，所述底座3安装在风淋单元1左右两侧底部的间隙之间；
[0009]清洁单元4，所述清洁单元4安装在底座3靠近入口的一侧上；
[0010]静电消除单元，所述静电消除单元安装在底座3靠近出口的一侧上；
[0011]所述清洁单元4和静电消除单元设置在同一路径上，且位于风淋单元1内设置有一
对。
[0012]根据优选方案，清洁单元4包括：
[0013]栅格底板41，所述栅格底板41设置在底座3对应安装清洁单元4的凹槽上；
[0014]清洁滚刷42，所述清洁滚刷42设置在栅格底板41的底部，清洁滚刷42的刷毛露出栅格底板41的间隙中；
[0015]清洗单元，所述清洗单元设置在位于清洁滚刷42的底部，清洗单元朝向上喷水进行清洁鞋底。
[0016]根据优选方案，清洁滚刷42和栅格底板41间隔且等间距分布。
[0017]根据优选方案，栅格底板41采用铝合金材质。
[0018]根据优选方案，清洗单元包括：
[0019]内循环水箱5，所述内循环水箱5安装在底座3内；
[0020]喷孔6，所述喷孔6安装在栅格底板41上，顶部穿过栅格底板41露出，底部通过管路与内循环水箱5的水泵连接。
[0021]根据优选方案，内循环水箱5保证水位始终处于最高水位平面。
[0022]根据优选方案，喷孔6在同一个栅格条上等间距设置有多个。
[0023]根据优选方案，静电消除单元包括：
[0024]静电消除装置7，所述静电消除装置7安装在底座3的顶板底部；
[0025]静电解除把手8，所述静电解除把手8安装在底座3的一侧上，底部与静电消除装置7电连接；
[0026]干鞋垫9，所述干鞋垫9安装在位于静电消除装置7正上方的底座3的上表面上。
[0027]根据优选方案，底座3对应干鞋垫9的安装设置有凹入的安装槽。
[0028]根据优选方案，静电解除把手8安装在一对所述清洁单元4和静电消除单元之间。
[0029]根据优选方案，风淋单元1入口的侧壁上安装有红外线感应器10。
[0030]根据优选方案，底座3的两侧高于清洁滚刷42的顶部设置。
[0031]本技术采用在风淋单元内集成风淋、清洁和除静电的目的，同时风淋单元可以同时容纳两组清洁单元盒静电消除单元，一方面，在人体、带静电物体静电解除把手三者联成一线的瞬间将静电消除掉，最终实现静电快速清除的目的，另一方面，达到了解决人流过大，同时进行多人清洁的效果，且两组人员都能在足够大的空间能还能有把手进行保护的效果。
[0032]下文中将结合附图对实施本技术的最优实施例进行更详尽的描述，以便能容易地理解本技术的特征和优点。
附图说明
[0033]图1显示为本技术的立体结构示意图；
[0034]图2显示为本技术的内部立体结构示意图；
[0035]标号说明
[0036]1、风淋单元；2、通道；3、底座；4、清洁单元,41、栅格底板，42、清洁滚刷；5、内循环水箱；6、喷孔；7、静电消除装置；8、静电解除把手；9、干鞋垫；10、红外线感应器。
具体实施方式
[0037]为了使得本技术的技术方案的目的、技术方案和优点更加清楚，下文中将结合本技术具体实施例的附图，对本技术实施例的技术方案进行清楚、完整的描述。附图中相同的附图标记代表相同的部件。需要说明的是，所描述的实施例是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本技术的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0038]与附图所展示的实施例相比，本技术保护范围内的可行实施方案可以具有更少的部件、具有附图未展示的其他部件、不同的部件、不同地布置的部件或不同连接的部件等。此外，附图中两个或更多个部件可以在单个部件中实现，或者附图中所示的单个部件可以实现为多个分开的部件。
[0039]除非另作定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本技术所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本技术专利申请说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不必然表示数量限制。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体制造中清洁及静电消除装置，其特征在于，包括：风淋单元(1)，所述风淋单元(1)设置成倒置状的U型结构，前后两侧设置有可以通入操作员的通道(2)；底座(3)，所述底座(3)安装在风淋单元(1)左右两侧底部的间隙之间；清洁单元(4)，所述清洁单元(4)安装在底座(3)靠近入口的一侧上；静电消除单元，所述静电消除单元安装在底座(3)靠近出口的一侧上；所述清洁单元(4)和静电消除单元设置在同一路径上，且位于风淋单元(1)内设置有一对。2.根据权利要求1所述的用于半导体制造中清洁及静电消除装置，其特征在于，所述清洁单元(4)包括：栅格底板(41)，所述栅格底板(41)设置在底座(3)对应安装清洁单元(4)的凹槽上；清洁滚刷(42)，所述清洁滚刷(42)设置在栅格底板(41)的底部，清洁滚刷(42)的刷毛露出栅格底板(41)的间隙中；清洗单元，所述清洗单元设置在位于清洁滚刷(42)的底部，清洗单元朝向上喷水进行清洁鞋底。3.根据权利要求2所述的用于半导体制造中清洁及静电消除装置，其特征在于，所述清洗单元包括：内循环水...

【专利技术属性】
技术研发人员：张浩，
申请(专利权)人：海太半导体无锡有限公司，
类型：新型
国别省市：