一种粉体真空镀膜装置制造方法及图纸

技术编号:37547143 阅读:11 留言:0更新日期:2023-05-12 16:21
本发明专利技术涉及粉体改性设备技术领域,尤其涉及一种粉体真空镀膜装置。本发明专利技术的粉体真空镀膜装置,包括:真空室;镀膜源,设置于真空室内;粉体盘,用于装载待镀膜的粉体,设置于真空室内,粉体盘与真空室之间设置有翻料机构。本发明专利技术的镀膜源产生改性粒子,改性粒子与粉体盘的粉体粒子相互作用,并且覆盖在粉体粒子的表面,可以实现对粉体粒子的表面改性,翻料机构可调整粉体盘两端的相对高度,从而使得粉体盘中的粉体粒子在自重作用下翻滚运动,从而增加与改性粒子之间剪切作用,促进改进粒子和粉体粒子之间的结合,结合更均匀。结合更均匀。结合更均匀。

【技术实现步骤摘要】
一种粉体真空镀膜装置


[0001]本专利技术涉及粉体改性设备
,尤其涉及一种粉体真空镀膜装置。

技术介绍

[0002]粉体材料通常以颗粒、粉体的形式存在,可应用于粉末冶金、3D打印等过程中作为必不可少的基础原材料。对于粉体材料,同样可以通过真空镀膜处理,提升其表面硬度、耐腐蚀性及光学性能,其应用范围必将进一步扩大。
[0003]粉体材料使用时,通常会两种以上的粉体材料混合使用,粉体材料的均匀混合,是注塑加工、3D打印、粉末冶金等所有粉体材料成型领域的关键技术之一。常规的多种粉体混合方式有:机械或超声搅拌、球磨、滚压,通过喷雾干燥、气流磨制粉中,也会直接通入不同的原材料实现混合粉体制备。
[0004]常规方法混合粉体时,存在混合不均匀、混合体中不同材质或粒度的粉体混合的分布无法精确控制、混合过程中会出现粉体原材料破损、混合过程中存在杂质、混合后混合粉体存在结合力差等不足。
[0005]鉴于此,有必要提供一种粉体真空镀膜装置,以解决上述不足。

技术实现思路

[0006]为解决上述技术问题,本专利技术提供了一种粉体真空镀膜装置。本专利技术在粉体盘与真空室之间设置翻料机构,工作时,镀膜源产生改性粒子,改性粒子与粉体盘的粉体粒子相互作用,并且覆盖在粉体粒子的表面,可以实现对粉体粒子的表面改性,翻料机构可调整粉体盘两端的相对高度,从而使得粉体盘中的粉体粒子在自重作用下翻滚运动,从而增加与改性粒子之间剪切作用,促进改进粒子和粉体粒子之间的结合,结合更均匀。
[0007]本专利技术的目的是提供一种粉体真空镀膜装置。
[0008]根据本专利技术具体实施方式提供的粉体真空镀膜装置,包括:
[0009]真空室;
[0010]镀膜源,设置于所述真空室内;
[0011]粉体盘,用于装载待镀膜的粉体,设置于所述真空室内;
[0012]翻料机构,所述翻料机构设置于所述真空室的底部,所述翻料机构与所述粉体盘传动连接,用于带动所述粉体在所述粉体盘内翻滚镀膜。
[0013]根据本专利技术具体实施方式提供的粉体真空镀膜装置,所述翻料机构包括两组高度调节组件,两组所述高度调节组件相对设置于所述粉体盘的两端,每个所述高度调节组件与所述粉体盘的端部传动连接,用于调节所述粉体盘两端的相对高度。
[0014]根据本专利技术具体实施方式提供的粉体真空镀膜装置,每个所述高度调节组件包括:
[0015]丝杆,所述丝杆竖直设置;
[0016]传动件,所述传动件与所述丝杆螺纹连接;
[0017]伸缩件,所述伸缩件的一端与所述粉体盘的端部固定连接,所述伸缩件的另一端与所述传动件铰接。
[0018]根据本专利技术具体实施方式提供的粉体真空镀膜装置,所述翻料机构还包括旋转盘和内齿轮,每个所述丝杆的下端与所述旋转盘转动连接,所述内齿轮固定于所述真空室内,每个所述传动丝杆的下端还设置有行星齿轮,所述内齿轮与所述行星齿轮啮合传动连接。
[0019]根据本专利技术具体实施方式提供的粉体真空镀膜装置,所述旋转盘设置有转轴,所述转轴的顶端与所述旋转盘固定连接。
[0020]根据本专利技术具体实施方式提供的粉体真空镀膜装置,所述转轴远离所述旋转盘的一端设置有驱动电机,所述驱动电机的输出端与所述转轴传动连接。
[0021]根据本专利技术具体实施方式提供的粉体真空镀膜装置,每个所述丝杆上均设置有外螺纹,两个所述丝杆的所述外螺纹螺旋方向相反。
[0022]根据本专利技术具体实施方式提供的粉体真空镀膜装置,所述伸缩件包括枢轴件和多个导向套,所述枢轴件与所述传动件转动连接,所述枢轴件上对应所述导向套设置有滑杆,多个所述导向套固定于所述粉体盘的端部,所述滑杆的一端伸入所述导向套内与所述导向套滑动连接。
[0023]根据本专利技术具体实施方式提供的粉体真空镀膜装置,所述镀膜源为磁控溅射镀膜源、电弧离子镀膜源中的任意一种或两种的结合。
[0024]根据本专利技术具体实施方式提供的粉体真空镀膜装置,所述粉体盘为矩形,所述粉体盘上设置有用于容纳待镀膜粉体的容纳槽。
[0025]与现有技术相比,本专利技术的有益效果是:
[0026]1、本专利技术在粉体盘与真空室之间设置翻料机构,工作时,镀膜源产生改性粒子,改性粒子与粉体盘的粉体粒子相互作用,并且覆盖在粉体粒子的表面,可以实现对粉体粒子的表面改性,翻料机构可调整粉体盘两端的相对高度,从而使得粉体盘中的粉体粒子在自重作用下翻滚运动,从而增加与改性粒子之间剪切作用,促进改进粒子和粉体粒子之间的结合,结合更均匀。
[0027]2、本专利技术设置高度调节组件,并与粉体盘的端部传动连接,可以使得粉体盘内的粉体在粉体盘的两端之间来回往复翻滚,从而使得粉体粒子与改性粒子的结合更加充分,更均匀。
[0028]3、本专利技术设置有旋转盘以及内齿轮,其中旋转盘转动可带动粉体盘相对镀膜源旋转,调整粉体盘的粉体朝向,可促进粉体粒子与改进粒子充分的结合;内齿轮与行星齿轮啮合,在旋转盘转动过程中,可传动丝杆转动,进而可以调整传动件相对丝杆的位置,从而调节粉体盘两端的相对高度。
[0029]4、本专利技术的旋转盘通过转轴与驱动电机相连,驱动电机为旋转盘的转动提供动力,同时由于传动件需要在丝杆上向上运动或向下运动,要求丝杆的转动方向相反,因此只需要驱动电机传动转轴正向转动一定周期,然后传动转轴反向转动一定周期,即可实现粉体盘的两端往复的向下位移,从而是的粉体有粉体盘的一端位移至另一端,以此周期性往复。
[0030]5、本专利技术的伸缩件,可以适应两个传动件位移过程中的间距变化,从而可以保证调整粉体盘两端相对高度时更加稳定。
附图说明
[0031]图1为本专利技术实施例提供的粉体真空镀膜装置的结构示意图;
[0032]图2为本专利技术实施例提供的粉体盘的结构示意图。
[0033]附图中,各标号所代表的部件列表如下:
[0034]1、真空室;2、镀膜源;3、粉体盘;4、翻料机构;41、高度调节组件;411、丝杆;412、传动件;413、伸缩件;4131、枢轴件;4132、导向套、4133、滑杆;42、内齿轮;43、行星齿轮;44、旋转盘;45、转轴;46、驱动电机。
具体实施方式
[0035]为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将对本专利技术的技术方案进行详细的描述。显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所得到的所有其它实施方式,都属于本专利技术所保护的范围。
[0036]实施例
[0037]基于附图1

2,本专利技术提供一种粉体真空镀膜装置,包括:
[0038]真空室1;
[0039]镀膜源2,设置于真空室1内;
[0040]粉体盘3,用于装载待镀膜的粉体,设置于真空室1内;
[0041]翻料机构4,所述翻料机构4设置于所述真空室1的底部,所述翻料机构4与所述粉体盘3传本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种粉体真空镀膜装置,其特征在于,包括:真空室(1);镀膜源(2),设置于所述真空室(1)内;粉体盘(3),用于装载待镀膜的粉体,设置于所述真空室(1)内;翻料机构(4),所述翻料机构(4)设置于所述真空室(1)的底部,所述翻料机构(4)与所述粉体盘(3)传动连接,用于带动所述粉体在所述粉体盘(3)内翻滚镀膜。2.根据权利要求1所述的一种粉体真空镀膜装置,其特征在于,所述翻料机构(4)包括两组高度调节组件(41),两组所述高度调节组件(41)相对设置于所述粉体盘(3)的两端,每个所述高度调节组件(41)与所述粉体盘(3)的端部传动连接,用于调节所述粉体盘(3)两端的相对高度。3.根据权利要求2所述的一种粉体真空镀膜装置,其特征在于,每个所述高度调节组件(41)包括:丝杆(411),所述丝杆(411)竖直设置;传动件(412),所述传动件(412)与所述丝杆(411)螺纹连接;伸缩件(413),所述伸缩件(413)的一端与所述粉体盘(3)的端部固定连接,所述伸缩件(413)的另一端与所述传动件(412)铰接。4.根据权利要求3所述的一种粉体真空镀膜装置,其特征在于,所述翻料机构(4)还包括旋转盘(44)和内齿轮(42),每个所述丝杆(411)的下端与所述旋转盘(44)转动连接,所述内齿轮(42)固定于所述真空室(1)内,每个所述传动丝杆(411)的下端还设置有行星齿轮(43),所述内齿轮(42)与所述行星齿轮(43)啮合传动连...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨武保杨尚武窦国爱邓智林
申请(专利权)人:四川万邦胜辉新能源科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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