一种磁控溅射镀膜机的除尘结构制造技术

本实用新型专利技术提供了一种磁控溅射镀膜机的除尘结构，属于磁控溅射镀膜机技术领域。它解决了现有的镀膜机的除尘效率较低的问题。本磁控溅射镀膜机的除尘结构，磁控溅射镀膜机包括设置在机壳内的安装架，安装架上设有多个横向设置且可供基膜缠绕的输送辊和位于输送辊下方的冷却辊，本除尘结构包括设置在安装架上的至少一个离子风棒，离子风棒设置在冷却辊和输送辊之间，离子风棒与其中一个输送辊正对设置。本磁控溅射镀膜机的除尘结构能在基膜成型过程中，离子风棒也随着基膜的运动而不断的工作，并对移动的基膜进行表面的除尘，使得基膜的除尘效率更好。的除尘效率更好。的除尘效率更好。

【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射镀膜机的除尘结构


[0001]本技术属于磁控溅射镀膜机
，涉及一种磁控溅射镀膜机的除尘结构。

技术介绍

[0002]磁控溅射是物理气相沉积的一种，一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多种材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁控检测生产线在后处理之前需要经过长距离辊道传输，现有的立式磁控溅射生产线因为玻璃在传动过程中与橡胶传动轮进行摩擦产生静电，静电存在很大的安全隐患，现有的采用离子风机除静电装置，需要在运输轨道上安装多个离子风机，生产成本高，且耗能高。
[0003]针对上述存在的问题，人们研发出了各种各样的磁控溅射镀膜机的除尘结构：
[0004]如中国专利申请【授权公告号CN 208776820U】公开了一种用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，至少包括离子风棒以及与离子风棒连接的离子发生器，其中离子风棒安装在真空镀膜设备的腔室入口处。
[0005]上述结构是通过将离子风棒直接安装在真空镀膜设备的腔室入口处，由于离子风棒是设置在腔室入口处的，因此是对待镀膜基板进入真空镀膜设备前，对待镀膜基板上的静电和细小颗粒物进行去除，而不是针对于正在生产中的基膜进行除尘，而待镀膜基板上的基膜是缠绕在待镀膜基板上的，因此并没有对拉伸出的基膜进行进一步的除尘，导致了整体的除尘效果较差。

技术实现思路

[0006]本技术的目的是针对现有的技术存在上述问题，提出了一种磁控溅射镀膜机的除尘结构，本技术所要解决的技术问题是：如何解决现有的镀膜机的除尘效率较低的问题。
[0007]本技术的目的可通过下列技术方案来实现：
[0008]一种磁控溅射镀膜机的除尘结构，磁控溅射镀膜机包括设置在机壳内的安装架，所述安装架上设有多个横向设置且可供基膜缠绕的输送辊和位于输送辊下方的冷却辊，其特征在于，本除尘结构包括设置在安装架上的至少一个离子风棒，所述离子风棒设置在冷却辊和输送辊之间，所述离子风棒与其中一个输送辊正对设置。
[0009]工作原理：直接将离子风棒设置在安装架上，使得基膜在成型过程中，可同时启动离子风棒，离子风棒能在基膜成型过程中，将基膜上的静电和细小颗粒物去除，从而实现了局部的无尘，使得进入到冷却辊内的基膜的表面更干净，并且离子风棒属于现有的，可直接将现有的离子风棒安装在安装架的相应位置处，就能实现对基膜的局部除尘，并且基膜在成型过程中，离子风棒也随着基膜的运动而不断的工作，并对移动的基膜进行表面的除尘，使得基膜的除尘效率更好。
[0010]在上述的磁控溅射镀膜机的除尘结构中，所述离子风棒设置有两个，两个离子风
棒分别位于冷却辊的左右两侧。
[0011]通过设置有两个离子风棒，使得卷入冷却辊的基膜和冷却辊成型后的成型模都可以通过离子风棒进行局部除尘，不仅仅提升了基膜在成型之前的除尘效果，并且成型后的成型模也能进一步的实现除尘，进一步的提升了除尘结构的整体除尘效果。
[0012]在上述的磁控溅射镀膜机的除尘结构中，所述离子风棒均位于两个输送辊之间，且离子风棒与两个输送辊相互垂直设置。
[0013]通过将离子风棒均设置在两个输送辊之间，此时离子风棒的设置并不会对输送辊的设置造成影响，并且能增加离子风棒作用在基膜或者成型膜上的时间，进而使得基膜或者成型模的除尘效果更好。
[0014]在上述的磁控溅射镀膜机的除尘结构中，所述离子风棒与输送辊均平行设置，所述离子风棒与靠近离子风棒的两个输送辊之间的垂直距离为1～7cm。
[0015]通过设定该垂直距离，使得离子风棒与输送辊之间的距离刚好可以将输送辊上的基膜或成型膜进行除尘，并且不影响输送辊的运行。
[0016]最优距离为3.5cm。
[0017]在上述的磁控溅射镀膜机的除尘结构中，所述安装架包括可沿横向滑动的滑动座和与滑动座横向正对设置的安装板，所述输送辊均设置在滑动座和安装板之间，且输送辊的两端分别与滑动座和安装板连接。
[0018]滑动座是可以横向滑动的，因此在停机时，可将滑动座带动安装板同步滑出，此时可便于将离子风棒设置在安装架上，也便于后续的维修和检测。
[0019]在上述的磁控溅射镀膜机的除尘结构中，所述安装架在冷却辊的两侧分别设置有可将基膜通过多个输送辊输送到冷却辊上的放卷辊和可将冷却辊上成型后的成型模收集的收卷辊，其中一个离子风棒位于放卷辊的外侧，另一个离子风棒位于收卷辊的外侧。
[0020]两个离子风棒的位置设置，使得离子风棒的除尘效果更好。
[0021]与现有技术相比，本技术具有的优点：直接将现有的离子风棒安装在安装架的相应位置处，就能实现对基膜的局部除尘，并且基膜在成型过程中，离子风棒也随着基膜的运动而不断的工作，并对移动的基膜进行表面的除尘，使得基膜的除尘效率更好。
附图说明
[0022]图1是本技术装配后的部分结构示意图。
[0023]图2是本技术装配后的部分俯视图。
[0024]图3是图2中A
‑
A的剖视图。
[0025]图中，1、安装架；11、滑动座；12、安装板；2、输送辊；3、基膜；4、成型膜；5、离子风棒；6、放卷辊；7、收卷辊；8、冷却辊。
具体实施方式
[0026]以下是本技术的具体实施例并结合附图，对本技术的技术方案作进一步的描述，但本技术并不限于这些实施例。
[0027]如图1所示，本磁控溅射镀膜机的除尘结构，磁控溅射镀膜机包括设置在机壳内的安装架1，安装架1上设有多个横向设置且可供基膜3缠绕的输送辊2和位于输送辊2下方的
冷却辊8。
[0028]具体的说，如图1
‑
3所示，本除尘结构包括设置在安装架1上的两个离子风棒5，离子风棒5设置在冷却辊8和输送辊2之间，两个离子风棒5分别位于冷却辊8的左右两侧，离子风棒5与其中一个输送辊2正对设置，离子风棒5均位于两个输送辊2之间，且离子风棒5与两个输送辊2相互垂直设置，离子风棒5与输送辊2均平行设置，离子风棒5与靠近离子风棒5的两个输送辊2之间的垂直距离为1～7cm，最优垂直距离为3.5cm。
[0029]工作原理：直接将离子风棒5设置在安装架1上，使得基膜3在成型过程中，可同时启动离子风棒5，离子风棒5能在基膜3成型过程中，将基膜3上的静电和细小颗粒物去除，从而实现了局部的无尘，使得进入到冷却辊8内的基膜3的表面和从冷却辊8移出的成型膜4更干净，并且离子风棒5属于现有的，可直接将现有的离子风棒5安装在安装架1的相应位置处，就能实现对基膜3的局部除尘，并且基膜3在成型过程中，离子风棒5也随着基膜3的运动而不断的工作，并对移动的基膜3进行表面的除尘，使得基膜3的除尘效率更好。
[0030]如图1
‑
3所示，安装架1包括可沿横向滑动的滑动座11和与滑动座11横向正对设置的安装板12，输送辊2均设置在滑动座11和安装板12之间，且输送辊2的两端分别与滑动座11本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜机的除尘结构，磁控溅射镀膜机包括设置在机壳内的安装架(1)，所述安装架(1)上设有多个横向设置且可供基膜(3)缠绕的输送辊(2)和位于输送辊(2)下方的冷却辊(8)，其特征在于，本除尘结构包括设置在安装架(1)上的至少一个离子风棒(5)，所述离子风棒(5)设置在冷却辊(8)和输送辊(2)之间，所述离子风棒(5)与其中一个输送辊(2)正对设置。2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜机的除尘结构，其特征在于，所述离子风棒(5)设置有两个，两个离子风棒(5)分别位于冷却辊(8)的左右两侧。3.根据权利要求2所述的磁控溅射镀膜机的除尘结构，其特征在于，所述离子风棒(5)均位于两个输送辊(2)之间，且离子风棒(5)与两个输送辊(2)相互垂直设置。4.根据权利要求1或2或3所述的磁控溅射镀膜机的除尘结构，其特征在于，所述离子风...

【专利技术属性】
技术研发人员：王爱民，凌大新，郑必福，徐文明，罗睿睿，陈建平，
申请(专利权)人：夜视丽新材料股份有限公司，
类型：新型
国别省市：