一种磁控溅射镀膜机的散热结构制造技术

本实用新型专利技术提供了一种磁控溅射镀膜机的散热结构，属于镀膜机技术领域。它解决了现有的磁控溅射镀膜机对磁控溅射靶的散热降温效果有限的问题。本磁控溅射镀膜机的散热结构，包括机壳和在机壳内沿机壳的周向间隔设置的若干个磁控溅射靶组件，磁控溅射靶组件包括设置在机壳上的定位座和固定在定位座上的溅射靶，溅射靶具有中空腔，本散热结构包括冷却液管，每个中空腔内均设置有所述的冷却液管。本磁控溅射镀膜机的散热结构实现对溅射靶的内部进行直接散热降温，显著提高对溅射靶的散热降温效果。降温效果。降温效果。

【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射镀膜机的散热结构


[0001]本技术属于镀膜机
，特指一种磁控溅射镀膜机的散热结构。

技术介绍

[0002]磁控溅射沉积薄膜原理为在阳极和阴极溅射靶材之间加上一定的电压，形成足够强度的静电场，然后再在真空室内通入较易离子化的惰性气体，在静电场的作用下产生气体离子化辉光放电，惰性气体电离并生产高能的惰性气体阳离子和二次电子，高能的惰性气体阳离子由于电场的作用会加速飞向阴极溅射靶表面，并以高能量轰击靶表面，使靶材表面溅射作用，被溅射出的靶原子沉积在基片上形成薄膜。
[0003]目前，中国专利网公开了一种多靶磁控溅射卷绕镀膜机【授权公告号：CN2433262Y】，包括卷绕室、镀膜室以及辅助装置，在镀膜室中围绕冷却辊设置多个磁控溅射靶，每两个磁控溅射靶之间设置有隔离槽，该隔离槽与抽气装置联通，在隔离槽上设有抽气孔与靶室相通，每一磁控溅射靶配有设置在隔离槽上的工艺气体布气管，设置在镀膜室中的多个磁控溅射靶，其中至少有两对孪生中频磁控溅射靶和至少三个直流磁控溅射靶，将隔离槽上排成一排的抽气孔的孔面积从抽气端起依次呈几何级数地逐渐增大，同时还在每个隔离槽上设置冷水管。
[0004]磁控溅射镀膜机在工作过程中，控溅射靶的温度不断升高，当磁控溅射靶温度过高的话，产生的辐射热容易导致基膜变形，影响镀膜，而上述多靶磁控溅射卷绕镀膜机只在隔离槽内设置冷水管，对磁控溅射靶的周围进行散热，进而对磁控溅射靶的进行间接散热降温，使得磁控溅射靶的降温效果有限。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是针对现有的技术存在上述问题，提出了一种磁控溅射镀膜机的散热结构，本技术所要解决的技术问题是：如何提高对磁控溅射靶的散热降温效果。
[0006]本技术的目的可通过下列技术方案来实现：
[0007]一种磁控溅射镀膜机的散热结构，包括机壳和在机壳内沿机壳的周向间隔设置的若干个磁控溅射靶组件，所述磁控溅射靶组件包括设置在机壳上的定位座和固定在定位座上的溅射靶，其特征在于，所述溅射靶具有中空腔，本散热结构包括冷却液管，每个中空腔内均设置有所述的冷却液管。
[0008]本结构采用在每个溅射靶的内部均设置冷却液管，通过往冷却液管内通入冷却液，冷却液流经冷却液管后，带走中空腔内的热量，实现对溅射靶的内部进行直接散热降温，显著提高对溅射靶的散热降温效果，另外，冷却液管的内置式结构不影响溅射靶的正常使用。
[0009]在上述的一种磁控溅射镀膜机的散热结构中，所述冷却液管沿溅射靶的轴向穿设在中空腔内。通过本结构的设置，使得冷却液管的长度填充在中空腔内，保证对溅射靶的内部具有较好的散热降温效果。
[0010]在上述的一种磁控溅射镀膜机的散热结构中，所述冷却液管呈U形，所述冷却液管具有U形端、进液端和出液端，所述U形端位于中空腔内的一端，所述进液端和出液端伸出中空腔的另一端外。通过本结构的设置，相当于在中空腔内设置有两根冷却管路，进一步个提高了对溅射靶内部的散热降温效果。
[0011]在上述的一种磁控溅射镀膜机的散热结构中，所述机壳的一端具有端板，所述端板上开设有若干个通孔，所述通孔与溅射靶一一对应，并且每个通孔均与相应的中空腔相连通。通过本结构的设置，通孔的设置方便进液端和出液端外接管路，实现所有进液端统一进液和所有出液端统一出液。
[0012]在上述的一种磁控溅射镀膜机的散热结构中，相邻的磁控溅射靶组件之间均设置有基座，所述基座固定在机壳的内壁上，每个基座上均固定有隔板。通过本结构的设置，基座的设置方便隔板在机壳上的安装和拆卸，隔板的设置将相邻的磁控溅射靶组件之间实现热隔离。
[0013]与现有技术相比，本技术的磁控溅射镀膜机的散热结构具有以下优点：本结构采用在每个溅射靶的内部均设置冷却液管，通过往冷却液管内通入冷却液，冷却液流经冷却液管后，带走中空腔内的热量，实现对溅射靶的内部进行直接散热降温，显著提高对溅射靶的散热降温效果，另外，冷却液管的内置式结构不影响溅射靶的正常使用。
附图说明
[0014]图1是本技术的立体结构示意图之一。
[0015]图2是本技术的立体结构示意图之二。
[0016]图3是本技术冷却液管的立体结构。
[0017]图中，1、机壳；2、磁控溅射靶组件；20、定位座；21、溅射靶；3、中空腔；4、冷却液管；40、U形端；41、进液端；42、出液端；5、端板；50、通孔；6、基座；7、隔板。
具体实施方式
[0018]以下是本技术的具体实施例并结合附图，对本技术的技术方案作进一步的描述，但本技术并不限于这些实施例。
[0019]如图1、图2和图3所示，本磁控溅射镀膜机的散热结构，包括机壳1和在机壳1内沿机壳1的周向间隔设置的若干个磁控溅射靶组件2，磁控溅射靶组件2包括设置在机壳1上的定位座20和固定在定位座20上的溅射靶21，溅射靶21具有中空腔3，本散热结构包括冷却液管4，每个中空腔3内均设置有的冷却液管4，本实施例中，冷却液管4沿溅射靶的轴向穿设在中空腔3内，冷却液管4呈U形，冷却液管4具有U形端40、进液端41和出液端42，U形端40位于中空腔3内的一端，进液端41和出液端42伸出中空腔3的另一端外。本结构采用在每个溅射靶21的内部均设置冷却液管4，通过往冷却液管4内通入冷却液，冷却液流经冷却液管4后，带走中空腔3内的热量，实现对溅射靶21的内部进行直接散热降温，显著提高对溅射靶21的散热降温效果，另外，冷却液管4的内置式结构不影响溅射靶21的正常使用。
[0020]如图2和图3所示，机壳1的一端具有端板5，端板5上开设有若干个通孔50，通孔50与溅射靶21一一对应，并且每个通孔50均与相应的中空腔3相连通。通孔50的设置方便进液端41和出液端42外接管路，实现所有进液端41统一进液和所有出液端42统一出液。
[0021]如图1所示，相邻的磁控溅射靶组件2之间均设置有基座6，基座6固定在机壳1的内壁上，每个基座6上均固定有隔板7。基座6的设置方便隔板7在机壳1上的安装和拆卸，隔板7的设置将相邻的磁控溅射靶组件2之间实现热隔离。
[0022]本文中所描述的具体实施例仅仅是对本技术精神作举例说明。本技术所属
的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本技术的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射镀膜机的散热结构，包括机壳(1)和在机壳(1)内沿机壳(1)的周向间隔设置的若干个磁控溅射靶组件(2)，所述磁控溅射靶组件(2)包括设置在机壳(1)上的定位座(20)和固定在定位座(20)上的溅射靶(21)，其特征在于，所述溅射靶(21)具有中空腔(3)，本散热结构包括冷却液管(4)，每个中空腔(3)内均设置有所述的冷却液管(4)。2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜机的散热结构，其特征在于，所述冷却液管(4)沿溅射靶的轴向穿设在中空腔(3)内。3.根据权利要求1或2所述的一种磁控溅射镀膜机的散热结构，其特征在于，所述冷却液管(4)呈U形，所述冷却液管(4)具有U形...

【专利技术属性】
技术研发人员：王爱民，凌大新，郑必福，徐文明，罗睿睿，陈建平，
申请(专利权)人：夜视丽新材料股份有限公司，
类型：新型
国别省市：