一种Low-E磁控溅射镀膜生产装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种Low

【技术实现步骤摘要】
一种Low
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E磁控溅射镀膜生产装置


[0001]本技术涉及一种镀膜生产装置，特别涉及一种Low
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E磁控溅射镀膜生产装置，属于磁控溅射镀膜


技术介绍

[0002]Low
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E磁控溅射镀膜是将涂层材料做为靶阴极，利用氩离子轰击靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术，涂层材料一直保持固态，不形成熔池，磁控溅射制备法具有沉积速率高、基片温度低、成膜黏附性好、易控制、成本低、适合大面积制膜，其中申请号为“CN201820135335.8”的一种离线Low
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E镀膜玻璃生产线，能够通过对生产线合理布局与设计，达到适合大面积生产LowE镀膜玻璃的效果，本装置设计紧凑具有检测功能，能够保障产品质量，在进一步检索发现，申请号为“CN201711334377.0”的LOW
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E玻璃真空磁控溅射镀膜生产线，其能够实现各类镀膜的大批量、低成本生产，而且溅射沉积速率高，工艺通用性强，特别适合大规模工业化生产，但是上述两种类型的Low
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种Low
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E磁控溅射镀膜生产装置，包括密封箱(1)，其特征在于，所述密封箱(1)的顶端固定设有存料箱(2)，所述存料箱(2)底端的中部固定连通有连接管(4)，所述连接管(4)的底端与密封箱(1)顶端的中部固定连通，所述密封箱(1)顶端的一侧固定设有真空泵(5)，所述真空泵(5)的进口端固定连通有C形管(7)，所述C形管(7)的一端与密封箱(1)一侧的顶部固定连通，所述密封箱(1)顶端的另一侧固定设有温湿度计(8)，所述温湿度计(8)的探头固定设置在密封箱(1)内壁顶端的另一侧，所述连接管(4)的底端固定连通有出料喷头(9)，所述密封箱(1)内壁的一侧固定设有滑槽座(10)，所述滑槽座(10)内壁的一侧固定设有纵向电动液压缸(11)，所述纵向电动液压缸(11)的输出端固定连接有滑块(12)，所述滑块(12)滑动设置在滑槽座(10)的内部，所述滑块(12)的一侧固定设有横向电动液压缸(13)，所述横向电动液压缸(13)的输出端固定设有连接块(14)，所述连接块(14)的底端固定设有倒置电动液压缸(15)，所述倒置电动液压缸(15)的输出端固定设有潜水伺服电机(16)，所述潜水伺服电机(16)的输出轴固定套设有刮板(17)，所述密封箱(1)的底端设有底座组件(3)。2.根据权利要求1所述的一种Low
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E磁控溅射镀膜生产装置，其特征在于：所述底座组件(3)包括矩形框(31)和升降移动组件(6)，所述矩形框(31)设置在密封箱(1)的底部，所述矩形框(31)的两侧均滑动套设有U型框(32)，两个所述U型框(32)的顶端固定设有支撑板(33)，所述升降移动组件(6)设置在矩形框(31)的顶端和底端。3.根据权利要求2所述的一种Low
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E磁控溅射镀膜生产装置，其特征在于：所述升降移动组件(6)包括四个支撑电动液压缸(61)和四个支撑腿(62)，所述支撑板(33)底端的四角分别与相对应的支撑电动液压缸(61)的尾端固定连接，所述矩形框(31)顶端的四角分别与相对应的支撑电动液压缸(61)的输出端固定连接...

【专利技术属性】
技术研发人员：王祥，
申请(专利权)人：安徽中凌玻璃有限公司，
类型：新型
国别省市：