一种窄边框TFT阵列基板及显示装置制造方法及图纸

一种窄边框TFT阵列基板及显示装置，窄边框TFT阵列基板上设有配向膜，TFT阵列基板分为显示区和非显示区，非显示区内具有隔绝水氧的绝缘层沟槽；配向膜设置在绝缘层沟槽所围成的区域内；TFT阵列基板的非显示区的绝缘层沟槽靠近所述配向膜的一侧边设有一挡墙，阻止所述配向膜流入所述绝缘层沟槽内。挡墙成长条形状，环绕于配向膜的周边。本发明专利技术采用在绝缘保护层沟槽边缘设计挡墙的方案，阻止配向膜液流入沟槽导致面板边缘配向膜膜厚不均引起的边缘显示不均的不良问题，提高生产良率。提高生产良率。提高生产良率。

【技术实现步骤摘要】
一种窄边框TFT阵列基板及显示装置


[0001]本专利技术属于显示装置的
，具体是指一种窄边框TFT阵列基板及显示装置。

技术介绍

[0002]液晶显示屏的工作原理是依靠在两块能进行导电的玻璃(彩膜基板和TFT阵列基板)中间放入液晶分子，从而两个电极之间发生电场反应，液晶分子进行扭曲产生电磁效应现象，从而对光源投射和遮蔽的作用进行管制，在通过电源的控制按钮导致明暗现象产生，使得显示屏能够展现出影像的效果。在两块玻璃基板上安装上配向膜，是在已蒸上透明导电膜(ITO)的玻璃基板上，用PI涂液和转轮(roller)，在ITO膜上印出一条一条平行的沟槽，液晶分子可依此沟槽的方向横躺于沟槽内，达到使液晶呈同一方向排列的目的。
[0003]随着电子技术的不断发展，全面屏显示更受市场青睐，而要做到全面屏显示，就需要应用到窄边框设计，而窄边框的设计对于生产良率是一种考验。
[0004]对于LCD显示屏，非显示区(即框胶区)具有隔绝水氧的绝缘层沟槽，由于窄边框设计中的非显示区绝缘层沟槽离显示区更近(如图1和图2对比)，配向膜会流入框胶区的绝缘层沟槽中，会影响显示区的配向膜不均匀，造成边缘亮度不均，生产良率无法提高。如果采用粘度较高的配向膜，配向膜流动性低，影响不会很大。但是，目前的趋势是采用粘度低的配向膜，粘度低的配向膜流动性比较快，更快达到膜面平整，降低每一片玻璃生产时间，提升产能。而采用粘度低的配向膜，就会出现配向膜流速过快，更快流入框胶区的绝缘层沟槽中，造成显示区边缘亮度不均，影响生产良率。
专利技术内容
[0005]本专利技术所要解决的技术问题在于提供一种窄边框TFT阵列基板及显示装置，防止配向膜流入非显示区绝缘层沟槽，提高产品良率。
[0006]本专利技术是这样实现的:
[0007]一种窄边框TFT阵列基板，所述TFT阵列基板上设有配向膜，所述TFT阵列基板分为显示区和非显示区，所述非显示区内具有隔绝水氧的绝缘层沟槽；所述配向膜设置在所述绝缘层沟槽所围成的区域内；其特征在于：所述TFT阵列基板的非显示区的所述绝缘层沟槽靠近所述配向膜的一侧边上方设有一挡墙，阻止所述配向膜流入所述绝缘层沟槽内。
[0008]进一步地，所述挡墙的高度高于所述配向膜设置的高度。
[0009]进一步地，所述挡墙，呈长条形状，环绕于所述配向膜的周边。
[0010]进一步地，所述挡墙紧邻所述配向膜的边缘外侧设置。
[0011]一种显示装置，包括如上所述的一种窄边框TFT阵列基板。
[0012]本专利技术的优点在于：本专利技术采用在绝缘保护层沟槽边缘设计挡墙的方案，阻止配向膜液流入沟槽，使得边缘配向膜膜厚趋于平整，改善面板显示效果，避免了面板边缘配向膜膜厚不均引起的边缘显示不均的不良问题，提高生产良率。
附图说明
[0013]下面参照附图结合实施例对本专利技术作进一步的描述。
[0014]图1是现有技术的TFT阵列基板结构示意图。
[0015]图2是本专利技术的窄边框TFT阵列基板结构示意图。
[0016]图3是本专利技术的窄边框TFT阵列基板俯视图。
[0017]附图标记：
[0018]1、TFT阵列基板，2、配向膜，3、绝缘层沟槽，4、挡墙，5、绝缘保护层。
具体实施方式
[0019]如图2和图3所示，一种窄边框TFT阵列基板，所述TFT阵列基板1上设有配向膜2，所述TFT阵列基板分为显示区和非显示区，所述非显示区内具有隔绝水氧的绝缘层沟槽3；所述配向膜2设置在所述绝缘层沟槽3所围成的区域内；所述TFT阵列基板1的非显示区的所述绝缘层沟槽3靠近所述配向膜2的一侧边上方设有一挡墙4，阻止所述配向膜2流入所述绝缘层沟槽3内。
[0020]所述挡墙4的高度高于所述配向膜2设置的高度。
[0021]所述挡墙4，呈长条形状，环绕于所述配向膜2的周边。
[0022]所述挡墙4紧邻所述配向膜2的边缘外侧设置。
[0023]本专利技术实施例还提供一种显示装置，所述显示装置包括上述实施例的阵列基板。所述显示装置还包括彩膜基板及设置于阵列基板与彩膜基板之间的液晶层。所述显示装置可以为：液晶面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
[0024]本专利技术采用在绝缘保护层沟槽边缘设计挡墙的方案，阻止配向膜液流入沟槽，使得边缘配向膜膜厚趋于平整，改善面板显示效果，避免了面板边缘配向膜膜厚不均引起的边缘显示不均的不良问题，提高生产良率。
[0025]上述实施例和图式并非限定本专利技术的形态和式样，任何所属
的普通技术人员对其所做的适当变化或修饰，皆应视为不脱离本专利技术的专利范畴。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种窄边框TFT阵列基板，所述TFT阵列基板上设有配向膜，所述TFT阵列基板分为显示区和非显示区，所述非显示区内具有隔绝水氧的绝缘层沟槽；所述配向膜设置在所述绝缘层沟槽所围成的区域内；其特征在于：所述TFT阵列基板的非显示区的所述绝缘层沟槽靠近所述配向膜的一侧边上方设有一挡墙，阻止所述配向膜流入所述绝缘层沟槽内。2.如权利要求1所述的一种窄边框TFT阵列基...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴顺鹏，
申请(专利权)人：华映科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：