光掩膜容器制造技术

本发明专利技术提供一种光掩膜容器，其能够牢固地保持光掩膜基板，抑制光掩膜基板收纳部的结露，清洁度优异，光掩膜基板表面不易附着污物(微粒)，且重量较轻，机械强度优异。该光掩膜容器的光掩膜基板收纳部由容器主体与盖体形成，该光掩膜容器用于将光掩膜基板在收纳于光掩膜基板收纳部中的状态下进行保存、运输，该光掩膜容器的特征在于，容器主体为由熔体流动速率(MFR)为0.6(g/10分钟)以下的高密度聚乙烯树脂形成的、由大致平板状的基部与自基部的端部沿大致直角的方向设置的侧壁部构成的箱状体，且所述容器主体为由内壁与外壁构成的双层中空结构体。中空结构体。中空结构体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光掩膜容器


[0001]本专利技术涉及用于保存、运输光掩膜基板的光掩膜容器。

技术介绍

[0002]近年来，在制造液晶显示器面板等显示装置时，会在具有洁净室的工场中制成光掩膜基板，并将制成的光掩膜基板运输至下一工序的工场中，进而制造液晶显示器面板等显示装置。
[0003]液晶显示器面板等显示装置为精密设备，在运输光掩膜基板时，若因表面附着有污物(微粒)或电气损坏等原因而使得基板电路或基板自身存在破损，则有时会变得无法制造显示装置。
[0004]此外，由于为了液晶显示器面板等显示装置的大画面化、或为了提升产率、节省人工而一次性烧结多个显示装置，要求光掩模基板的巨大化(大面积化)，需要其为750
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750mm以上的大小。此外，由于全球化的影响，从光掩膜基板的制造到液晶显示器面板等显示装置等最终产品的制造，不会仅在一间工场内进行，而会在国内外的较遥远的地方进行，因此光掩膜基板会被收纳于光掩膜容器中，并通过卡车、船舶、飞机等而运输。
[0005]因此，希望上述光掩膜容器能够牢固地保持光掩膜基板，能够在表面不附着污物(微粒)、且不产生破损的状态下进行运输，且希望其重量较轻，且机械强度优异。此外，在利用飞机进行空运时，由于会在减压下或低温下进行运输，希望不对光掩膜基板或光掩膜容器附加不必要的应力、以及能够抑制在光掩膜容器的光掩膜基板收纳部发生结露、且清洁度优异等。
[0006]因此，提出了各种适合运输的光掩膜容器。例如提出了以下的方案等：“一种掩膜盒，其用于在收纳有光掩膜基板的状态下进行搬运，其特征在于，具备：保持所述光掩膜基板的保持手段、设有该保持手段的基部、及以可自由装卸的方式安装在该基部上的覆盖所述光掩膜基板的盖部。”(例如，参照专利文献1)；“一种大型精密片状(半)成品用密封容器，其由具有彼此相接的密封用周缘部的大致对称结构的主体部与盖体部构成，其用于在内部收纳大型的精密片状成品或半成品(以下，统称为“精密片状(半)成品”)，其特征在于，所述主体部与盖体部由多个抗静电树脂板构成，所述多个抗静电树脂板各自彼此沿平面延伸并通过中间连接部而彼此接合，具有金属制加强带状体自外侧沿着接合部与树脂板气密性栓接的结构，在主体部的底部具有能够在彼此直交的X、Y及Z方向(即精密片状(半)成品的长、宽及厚度方向)上将精密片状(半)成品固定、支撑的固定支撑结构，所述固定支撑结构具有：用于在该固定支撑结构上载置精密片状(半)成品的支撑部、和对载置于该支撑部上的精密片状(半)成品的端边部施加至少厚度方向上的挤压力的固定支撑工具的组中的至少一组，固定支撑工具具有：固定于主体部底部的支腿部；以及在该支腿部对载置于支撑部上的精密片状(半)成品的端边部施加至少厚度方向上的挤压力而对精密片状(半)成品进行固定支撑的倒立位置、与能够将精密片状(半)成品载置于支撑部上的翻转打开位置之间，以能够旋转的方式进行枢转的可动部。”(例如，参照专利文献2)等。
[0007]然而，由于上述光掩膜容器的部件件数较多，会耗费用于制造各个部件的工时，因此具有以下缺点：在提高生产效率方面存在极限、维持品质稳定性需耗费大量时间、重量较大而不易搬运。现有技术文献专利文献
[0008]专利文献1：日本特开2008
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32915号公报专利文献2：日本专利第4476727号公报

技术实现思路

本专利技术要解决的技术问题
[0009]鉴于上述问题点，本专利技术的目的在于提供一种光掩膜容器，其重量较轻且机械强度优异，能够牢固地保持光掩膜基板，抑制光掩膜基板收纳部产生结露，清洁度优异，能够使光掩膜基板表面不易附着污物(微粒)，且安全、容易运输，并且容易制造，生产效率、品质稳定性高，价格低廉。解决技术问题的技术手段
[0010]即，本专利技术涉及以下内容：(1)一种光掩膜容器，该光掩膜容器的光掩膜基板收纳部由容器主体与盖体形成，该光掩膜容器用于将光掩膜基板在收纳于光掩膜基板收纳部中的状态下进行保存、运输，该光掩膜容器的特征在于，所述容器主体为由熔体流动速率(MFR)为0.6(g/10分钟)以下的高密度聚乙烯树脂形成的、由大致平板状的基部与自基部的端部沿大致直角的方向设置的侧壁部构成的箱状体，且所述容器主体为由内壁与外壁构成的双层中空结构体。(2)根据所述(1)所述的光掩膜容器，其特征在于，容器主体通过吹塑成型法而一体化成型。(3)根据所述(1)或(2)所述的光掩膜容器，其特征在于，在基部上形成有保持固定光掩膜基板的光掩膜基板保持部。(4)根据所述(1)～(3)中任一项所述的光掩膜容器，其特征在于，侧壁部具有中空部，侧壁部的厚度大于基部的厚度。(5)根据所述(1)～(4)中任一项所述的光掩膜容器，其特征在于，使基部的内壁和/或侧壁部的内壁向光掩膜基板收纳部侧(上方或内部)发生变形，一体化形成有具有中空部的光掩膜基板保持部。(6)根据所述(1)～(5)中任一项所述的光掩膜容器，其特征在于，盖体为由熔体流动速率(MFR)为0.6(g/10分钟)以下的高密度聚乙烯树脂形成的、由大致平板状的基部与自基部的端部沿大致直角的方向设置的侧壁部构成的箱状体，且所述盖体为由内壁与外壁构成的双层中空结构体。(7)根据所述(1)～(6)中任一项所述的光掩膜容器，其特征在于，容器主体及盖体中的至少一者的侧壁部的上端部沿侧向延伸设置，从而形成有把手部。(8)根据所述(1)～(7)中任一项所述的光掩膜容器，其特征在于，在容器主体及盖体中的至少一者上穿设有贯穿孔，同时在该贯穿孔上设置有过滤器，从而形成有抽气部。(9)根据(1)～(8)中任一项所述的光掩膜容器，其特征在于，在基部上形成有多条
肋条(rib)。(10)根据所述(1)～(9)中任一项所述的光掩膜容器，其特征在于，表面固有电阻值为108Ω以上且小于10
10
Ω。(11)根据所述(1)～(10)中任一项所述的光掩膜容器，其特征在于，在为基部的内壁的光掩膜基板收纳部侧上层叠有抗静电片或抗静电成型体。专利技术效果
[0011]本专利技术的光掩膜容器的构成如上所述，光掩膜容器容易制造且价格低廉，重量较轻且机械强度优异，能够牢固地保持光掩膜基板，能够在表面不附着污物(微粒)或不发生变形的状态下进行保存、运输。因此，即使在减压下或低温下进行保存、运输，也不会对光掩膜基板或光掩膜容器附加不必要的应力，可抑制光掩膜容器的光掩膜基板收纳部的结露，清洁度优异，故而能够适合利用飞机进行空运。
附图说明
[0012]图1为示出本专利技术的光掩膜容器的一个实例的示意剖面图。图2为示出本专利技术的光掩膜容器的容器主体的一个实例的平面图。图3为图2的A
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A剖面图。图4为图2的B
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B剖面图。图5为示出本专利技术的光掩膜容器的容器主体的不同实例的例子的平面图。图6为图5的C
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C剖面图。
具体实施方式
[0013]本专利技术的光掩膜容器中，由容器主体与盖体形成光掩膜基板收纳部，该光掩膜容器用于将光掩膜基板在收纳于光掩膜基板收纳部的状态下进本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光掩膜容器，所述光掩膜容器的光掩膜基板收纳部由容器主体与盖体形成，所述光掩膜容器用于将光掩膜基板在收纳于光掩膜基板收纳部中的状态下进行保存、运输，所述光掩膜容器的特征在于，所述容器主体为由熔体流动速率(MFR)为0.6(g/10分钟)以下的高密度聚乙烯树脂形成的、由大致平板状的基部与自基部的端部沿大致直角的方向设置的侧壁部构成的箱状体，且所述容器主体为由内壁与外壁构成的双层中空结构体。2.根据权利要求1所述的光掩膜容器，其特征在于，容器主体通过吹塑成型法而一体化成型。3.根据权利要求1或2所述的光掩膜容器，其特征在于，在基部上形成有保持固定光掩膜基板的光掩膜基板保持部。4.根据权利要求1～3中任一项所述的光掩膜容器，其特征在于，侧壁部具有中空部，侧壁部的厚度大于基部的厚度。5.根据权利要求1～4中任一项所述的光掩膜容器，其特征在于，使基部的内壁和/或侧壁部的内壁向光掩膜基板收纳部侧(上方或内部)发生变形，一体化形成有具有中空部的光掩膜基板保持部。6.根据权利要求1～5中...

【专利技术属性】
技术研发人员：中岛淳一，北条智也，福井孝志，田所淳人，堀内智孝，前田健人，福井干夫，
申请(专利权)人：株式会社网塑，
类型：发明
国别省市：