一种A向蓝宝石衬底抛光液及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种A向蓝宝石衬底抛光液及其制备方法。本发明专利技术的A向蓝宝石衬底抛光液按质量百分比计，由如下原料组分组成：改性硅溶胶5

【技术实现步骤摘要】
一种A向蓝宝石衬底抛光液及其制备方法


[0001]本专利技术涉及抛光液
，具体涉及一种A向蓝宝石衬底抛光液及其制备方法。

技术介绍

[0002]A向蓝宝石单晶α
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Al2O3具有很好的耐磨性，硬度仅次于金刚石的达莫氏9级，在高温下仍有良好的稳定性。因此，被越来越广泛的用作手机、手表屏幕、红外及远红外军用装备方面、高功率激光器的窗口、各种光学棱镜、光学窗口等领域。单晶蓝宝石的机械性质与其本身密度有关，单晶蓝宝石密度越大则机械性能越佳，A向蓝宝石晶片与C向蓝宝石晶片相比原子密度高，其硬度也较C向的高，但这也导致了A向蓝宝石晶片的化学机械抛光(CMP)加工工艺更加困难。
[0003]面蓝宝石晶片的CMP移除速率约为1.0
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1.2μm/h，化学机械抛光若要需完全去除此损伤层需耗时8
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10h，因此，随着A
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面蓝宝石晶片在手机、手表屏幕中的逐渐应用，开展大尺寸A
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面蓝宝石晶片的CMP优化工艺及降低抛光液成本的研究越来越重要。目前，普遍采用硅溶胶磨本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种A向蓝宝石衬底抛光液，其特征在于，按质量百分比计，由如下原料组分组成：改性硅溶胶5
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15％，抛光增速剂1
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10％，分散剂1
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5％，缓蚀剂1
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5％，pH调节剂1
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2％，其余为去离子水；所述改性硅溶胶包括硅溶胶内核，以及包覆在所述硅溶胶内核外的三聚氰胺外层。2.根据权利要求1所述的A向蓝宝石衬底抛光液，其特征在于，所述硅溶胶内核的粒径为100
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120nm。3.根据权利要求1所述的A向蓝宝石衬底抛光液，其特征在于，所述三聚氰胺外层的厚度为2nm。4.根据权利要求1
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3任一项所述的A向蓝宝石衬底抛光液，其特征在于，所述改性硅溶胶采用如下方法制备获得：搅拌条件下，将三聚氰胺加入至二氧化硅溶胶液中，持续搅拌均匀，即获得所述改性硅溶胶。5.根据权利要求4所述的A向蓝宝石衬底抛光液，其特征在于，所述二氧化硅溶胶液的固含量为35
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【专利技术属性】
技术研发人员：陈杏辉，袁黎光，杨小牛，王杰，
申请(专利权)人：广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院，
类型：发明
国别省市：