小型化平面微带过桥制造技术

小型化平面微带过桥，用于射频微波领域的微带线射频电路设计中。本发明专利技术的目的是提供一种适用于微带射频电路的过桥，使得两条微带线可以在平面结构内无干扰的交叉通过。过桥中的微带线设计参数固定，不需要额外的计算，且设计参数易于工程实现。其主要特点是：尺寸小，电长度仅为９０°×９０°；易于设计和实现，特性阻抗为常值；价格低，不需要额外的器件，且可以降低电路板的层数；平面结构，在不引入不连续性的情况下实现两条微带线的交叉。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于射频微波领域的微带线射频电路设计。
技术介绍
微带电路是射频电路设计中常用的实现方法。在微带电路布线的过程中，经常会 发生两条微带线交叉的情况。在工程实践中，两条微带线交叉时一般采用三维结构的多层 印刷电路板实现，其中的一条微带线需要通过过孔从其他层穿越另一条微带线，这势必带 来电路阻抗的不连续性，影响传输线的性能，增大辐射骚扰，降低电路的抗干扰能力。本发 明涉及一种平面微带过桥，可以让两条微带线在平面结构上无干扰的交叉通过。其小型化 设计及简单的实现结构使得本过桥易于在微带电路板上实现。平面结构降低了电路板的制 作成本，消除了不连续性。 对现有技术进行检索发现，目前并无相关专利申请和授权。对文献的检索中发现， Wight, J.S.等人在《IEEE Transactions on Microwave Theory andTechniques》期干lJ上提 出了一种平面过桥结构，但体积较大。Chen，Y.等人在《IEEE Transactions on Microwave Theory and Techniques》期刊上提出了一种对称结构的小型过桥，但设计公式较为庞杂。 Chiou.Y.C.等人在《IEEE Microwaveand Wireless Components Letters》期刊上提出了另 一种小型化的微带过桥，但同样具有复杂的设计公式，不易于工程实践应用。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种适用于微带射频电路的过桥，使得两条微带线可以在平 面结构内无干扰的交叉通过。过桥中的微带线设计参数固定，不需要额外的计算，且设计参 数易于工程实现。 本专利技术通过以下技术方案实现端口 (端口 l，端口 2，端口 3，端口 4)，横向轮廓微带线(Th)，纵向轮廓微带线CO，中心微带线(TJ，开路枝节微带线(T。s)。 所述的端口，为过桥与微带线的连接端口。其中，端口 l与端口 3构成一条通路，负责传送一条微带线；端口 2和端口 4构成另一条通路，负责传送另一条微带线。两条通路之间相互隔离，没有影响。 所述的横向微带线，共4段，为构成外围轮廓的四段横向排列的微带线。其电长度 为45° ，特性阻抗为50Q。 所述的纵向微带线，共2段，为构成外围轮廓的两段纵向排列的微带线。其电长度 为90° ，特性阻抗为50Q。 所述的中心微带线，为位于结构中心的纵向微带线。其电长度为90。，特性阻抗为 25 Q 。 所述的开路枝节微带线，共8段，为结构内部的8段开路枝节。其电长度为45。， 特性阻抗为50 Q。 本专利技术是一种小型化、新颖、简单、易于实现的平面过桥。其主要特点是尺寸小，电长度仅为9(T X90° ;易于设计和实现，特性阻抗为常值；价格低，不需要额外的器件， 且可以降低电路板的层数；平面结构，在不引入不连续性的情况下实现两条微带线的交叉。附图说明 图1是本专利技术小型化平面微带过桥的原理示意图 图2是本专利技术的3. 5GHz小型化平面微带过桥实施例实物图 图3是本专利技术的3. 5GHz小型化平面微带过桥实施例的仿真和测试图具体实施例方式下面结合附图对本专利技术的实施例作详细说明本实施例在以专利技术技术方案为前提 下进行实施，给出了详细的实施方式和具体操作过程，但本专利技术的保护范围不限于下述的 实施例。 如图2所示，本实施例为工作在3. 5GHz频段内的平面微带过桥。该过桥根据本发 明设计，包括介质基板，端口 ，微带线。 所述的介质基板相对介电常数为3. 48，厚度为20mil。 所述的输入端口、输出端口为过桥的4个连接端口，采用标准的SMA接头，特征阻 抗为50 Q 。 所述的微带线为50 Q和25 Q两种特性阻抗值，电长度在3. 5GHz频段内为90°和 45°两种长度值。权利要求小型化平面微带过桥，包括4个端口(端口1，端口2，端口3，端口4)，15段微带线。其特征是所述的微带过桥使两条微带线能够在平面结构内无干扰的交叉通过，2. 如权利要求1所述的小型化平面微带过桥，其特征是所述的微带过桥中微带线参 数固定，不需要额外的计算，且设计参数易于工程实现。3. 如权利要求1所述的小型化平面微带过桥，其特征是所述的横向微带线，共4段，为构成外围轮廓的四段横向排列的微带线，其电长度为45。，特性阻抗为50Q。所述的纵 向微带线，共2段，为构成外围轮廓的两段纵向排列的微带线，其电长度为90。，特性阻抗 为50Q。所述的中心微带线，为位于结构中心的纵向微带线，其电长度为90。，特性阻抗为 25 Q 。4. 如权利要求1所述的小型化平面微带过桥，其特征是所述的开路枝节，共8段，为结构内部的8段开路枝节。其电长度为45。，特性阻抗为50Q。5. 如权利要求1所述的小型化平面微带过桥，其特征是，该过桥中的传输线可以结合 本专利提出的设计方法所出的参数以及不同射频基板参数转化为实际的微带线， 状线， 共面波导，槽线等各种实际传输线结构的尺寸。全文摘要小型化平面微带过桥，用于射频微波领域的微带线射频电路设计中。本专利技术的目的是提供一种适用于微带射频电路的过桥，使得两条微带线可以在平面结构内无干扰的交叉通过。过桥中的微带线设计参数固定，不需要额外的计算，且设计参数易于工程实现。其主要特点是尺寸小，电长度仅为90°×90°；易于设计和实现，特性阻抗为常值；价格低，不需要额外的器件，且可以降低电路板的层数；平面结构，在不引入不连续性的情况下实现两条微带线的交叉。文档编号H01P3/08GK101752638SQ20101003433公开日2010年6月23日 申请日期2010年1月19日 优先权日2010年1月19日专利技术者于翠屏, 刘元安, 刘鑫, 吴利辉, 吴永乐, 楼建全, 武杰, 黎淑兰 申请人:北京邮电大学 本文档来自技高网...

【技术保护点】
小型化平面微带过桥，包括：４个端口（端口１，端口２，端口３，端口４），１５段微带线。其特征是：所述的微带过桥使两条微带线能够在平面结构内无干扰的交叉通过，

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘元安，刘鑫，黎淑兰，楼建全，于翠屏，武杰，吴利辉，吴永乐，
申请(专利权)人：北京邮电大学，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]