触控笔定位结构制造技术

本实用新型专利技术为一种触控笔定位结构，是包括一设置在电气装置的触控笔插槽的外环磁铁、以及设置在触控笔笔身的内磁铁，当触控笔插入电气装置的触控笔插槽时，通过外环磁铁与内磁铁的磁吸力或磁斥力，可将触控笔与触控笔插槽良好定位，相较于现有容易松脱的卡嵌结构或是磁吸结构，具有更佳的定位效果以及段落感。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种电气装置的触控笔的定位结构，特别是指利用磁铁原 理让触控笔定位的结构。
技术介绍
触控荧幕由于具备直观、软体灵活以及节省体积与成本等优点，目前正逐 渐取代键盘成为电子产品上常见的输入装置，虽然触控焚幕解决了许多人机介 面的问题带来了许多益处，但也连带的产生了一些新的使用上的问题。如图1及图2所示，通常触控焚幕都会搭配使用触控笔，并在电子产品1 如PDA、手机上设置一容置触控笔2的插槽3以及一定位用凸块4，而触控笔2 在相对位置则设置凹槽5,当触控笔2插入插槽3时，通过凸块4与凹槽5可以 相互卡"l矣而定位。上述利用凸块4与凹槽5可以相互卡接的构造在使用一段时间之后，容易 产生磨耗，造成触控笔无法紧密的固定在插槽内，不仅使用上不方便，携带时 也会因不小心的晃动而使触控笔掉落遗失。为解决上述问题，开始有厂商在出货时多附上一支触控笔以解决触控笔容 易掉落遗失的困扰，但问题的解决并不在于出货时附上多少支触控笔，而是应 改善触控笔与插槽中的定位装置使其不会产生磨耗并具有较佳的定位效果。如图3、图4所示，本领域技术人员也尝试利用磁铁的吸附原理创作出磁吸 附式定位结构以期改善凸块4与凹槽5的磨耗问题，所述磁吸附式定位结构包 括一设置在插槽中的磁吸元件6，以及一设置在触控笔笔杆的导磁元件7,通过 磁吸元件6与导磁元件7磁力吸附固定，确实可以改善以往卡榫定位装置容易 磨耗的问题。但是，仅利用磁吸方式的定位效果并不好，在PDA、手机有大幅甩 动或摆动的时候，触控笔还是会经常发生脱落的问题，因此磁吸附式定位结构 依旧没有办法解决触控笔容易掉落遗失的问题。因此，本创作人以累积多年相关产业的经验，创作出一种触控笔定位结构，所述触控笔定位结构相较于现有的卡榫定位装置或仅有磁吸附式的定位结构， 可以产生更佳的定位效果以及不会因为插拔次数过多，而产生定位结构磨耗的 问题。
技术实现思路
本技术的主要目的是为了克服上述现有技术的缺陷，提供一种利用磁 铁原理来让触控笔定位的结构，使用时不容易产生磨损所以具有更长的使用寿 命，而且具有更佳的定位效果。为达成上述目的，本技术提供一种触控笔定位结构，其包括至少一设 置在电气装置的触控笔插槽的外环磁铁、以及设置在触控笔笔身的内磁铁，其 中所述外环磁铁中央具有一穿孔而呈管状，设置在触控笔插槽底部上方，其 下缘与触控笔插槽底部保持适当间距，使触控笔插槽在外环磁铁下方形成一容置空间；外环磁铁的穿孔使触控笔底端的笔头得以穿过外环磁铁中央的穿孔后， 定位于容置空间内；所述外环磁铁顶端为N极，则外环磁铁底端为S极。所述内磁铁呈杆状设置在触控笔笔身内，其长度宜与外环磁铁的长度相等， 或略大于、小于外环磁铁；实施时，内磁铁可以为一体成型，或者可以利用复 数个小磁铁连接而成，以防止内磁铁太细不易制作。上述内磁铁与外环磁铁以 磁极极性相同方向排列，也即，内磁铁顶端为N极，底端为S极。当触控笔插入插槽，让内磁铁底端靠近外环磁铁顶端时，由于内磁铁底端 与外环磁铁顶端磁极相异，因此会产生磁吸力，让触控笔稍微停滞而产生第一 段吸力。此时，持续将触控笔往下压，使触控笔位移到内磁铁底端往外环磁铁底端 靠近时，由于内磁铁底端与外环磁铁底端极性相同，因此其磁斥力会产生将触 控笔反向排斥的推力，让向下行进的触控笔产生阻力。当使用者持续令触控笔位移到内磁铁底端恰通过外环磁铁底端时，由于内 磁铁长度与外环磁铁的长度相等，而且极性相同，加上内磁铁底端通过外环磁 铁底端，因此让内磁铁顶端及内磁铁底端都被外环磁铁排斥而产生双重的推力， 将触控笔向插槽底部推动。若将触控笔再持续将往下压，让内磁铁顶端靠近外环磁铁底端时，由于内 磁铁顶端与外环磁铁底端磁极相异，因此会产生磁吸力，让触控笔停滞而产生第二段吸力。由于前述外环磁铁是设置在触控笔插槽底部上方，其下缘与触控笔插槽底 部保持适当间距而形成容置空间，因此可以通过所述容置空间容置触控笔的笔 头，以完成触控笔的定位。前述容置空间的长度维持在前述内磁铁底端刚通过外环磁铁底端的位置，重推力的位置；如此一来，通过此向内的双重推力，可以防止触控笔自插槽中 脱落。为了达到上述目的及其它目的，本技术还提供一种触控笔定位结构， 包括一触控笔，所述的触控笔设置在一触控笔插槽内，还包括至少一外环磁 铁及一内环磁铁；所述外环磁铁设置在所述触控笔插槽底部上方，所述外环磁铁下缘与所述 触控笔插槽底部保持间距，所述触控笔插槽在所述外环磁铁下方形成一容置空 间；所述外环磁铁中央具有一穿孔，所述穿孔供所述触控笔笔头向下穿过；以 及所述的内磁铁设置在所述触控笔笔身内，所述内磁铁与所述外环磁铁以磁 极极性相同方向排列，所述触控笔笔头向下穿过所述外环磁铁，所述内磁铁顶 端靠近所述外环磁铁底端。所述容置空间的长度，维持在前述内磁铁顶端靠近外环磁铁底端，让触控 笔停滞而产生第二段吸力的位置。如此一来，使用者想抽出触控笔时，须先以 大于前述双重排斥力的力量，才能将触控笔抽出，当内磁铁顶端通过外环磁铁 顶端时，前述的阻力即形成辅助触控笔向外推出的推力，让触控笔得以顺利抽 出。本技术的有益效果在于，本技术利用磁铁原理定位，在压入触控 笔时可以明显感受到先磁吸后磁斥的两个段落感，而在抽出触控笔时也可以明 显感受到磁斥的段落感，并且相较于现有的卡榫定位装置或仅有磁吸附式的定 位结构，本技术可以产生更佳的定位效果以及没有因插拔次数过多，而产 生定位结构磨耗的问题，延长了触控笔的使用寿命。附图说明图1为现有的卡榫定位装置示意图；图2为现有的卡榫定位装置放大示意图； 图3为现有的磁吸附式定位结构示意图； 图4为现有的磁吸附式定位结构放大示意图； 图5为本技术的立体分解图6为本技术外环磁铁与内磁铁的动作示意图(一)； 图7为本技术外环磁铁与内磁铁的动作示意图(二)； 图8为本技术外环磁铁与内磁铁的动作示意图(三)； 图9为本技术外环磁铁与内磁铁的动作示意图(四)； 图10为本技术的实施例示意图； 图11为本技术的另一实施例示意图。附图标记说明10-电气装置；20-插槽；21-容置空间；30-外环磁铁； 31-穿孔；32-外环磁铁顶端；33-外环磁铁底端；40-触控笔；41-笔身； 42-笔头；50-内磁铁；51 -小磁铁；52-内^兹铁顶端；53-内》兹铁底端。具体实施方式以下结合附图，对本新型上述的和另外的技术特征和优点作更详细的说明。 如图5、图6所示，本技术触控笔定位结构包括至少一外环磁铁30以 及一内磁铁50;外环磁铁30设置在电气装置10的触控笔插槽20内、内磁铁50设置在触 控笔40笔身41内，其中所述外环磁铁30中央具有一穿孔31且呈管状，外环磁铁30设置在触控笔 插槽20底部上方，外环磁铁30下缘与触控笔插槽20底部保持适当间距，使触 控笔插槽20在外环》兹4失30下方形成一容置空间21;外环f兹铁30的穿孔31佳: 触控笔40底端的笔头42得以穿过，当穿过外环磁铁30中央的穿孔31后，定 位于容置空间内21;实施时，所述外环磁铁顶端32为N极，则外环磁铁底端 33为S极。所述内磁铁50呈杆状设置在触控笔40笔身内，其长度宜与外环磁铁30的 长度相等或，略本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种触控笔定位结构，包括一触控笔，所述的触控笔设置在一触控笔插槽内，其特征在于，还包括：至少一外环磁铁及一内磁铁；　所述外环磁铁设置在所述触控笔插槽底部上方，所述的外环磁铁下缘与所述触控笔插槽底部保持间距，所述触控笔插槽在所述外环磁铁 下方形成一容置空间；所述外环磁铁中央具有一穿孔，所述穿孔供所述触控笔笔头向下穿过；以及　所述内磁铁设置在所述触控笔笔身内，所述内磁铁与所述外环磁铁以磁极极性相同方向排列，所述触控笔笔头向下穿过所述外环磁铁后定位于所述容置空间内，所述内 磁铁底端的位置与所述外环磁铁底端位置为相同的高度。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：花如彬，许晋铭，华健成，
申请(专利权)人：伟成工业有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]