便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法及光掩模技术

本申请提供一种便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法及光掩模，涉及光掩模的技术领域，其步骤如下：在光掩模表面设置标尺，标尺以光掩模表面设置的定位线为基准，标尺每格度数的量级为微米级；蒙贴光罩护膜于光掩模的表面；通过显微镜观测光罩护膜的边沿在标尺上的读数，得出光罩护膜于光掩模表面蒙贴的位移量。通过设置标尺，利用光掩模上预先设置的标尺，对光罩护膜于光掩模表面蒙贴的位移量进行测量，只要借助显微镜辅助即可，无需使用标注差量测基台，降低了检测光罩护膜蒙贴位移量所需成本，进而降低了光掩模的整体成本。进而降低了光掩模的整体成本。进而降低了光掩模的整体成本。

【技术实现步骤摘要】
便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法及光掩模


[0001]本申请涉及光掩模
，具体涉及一种便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法及光掩模。

技术介绍

[0002]为了提高光掩模的良品率和使用寿命，通常光掩模的表面会蒙贴一层光罩护膜。光罩护膜的厚度和光掩模的厚度相近，现代投影式光刻机的聚焦深度在1微米至2微米，远远小于光掩模和光罩护膜的厚度，在曝光过程中，即使光罩护膜上附着有颗粒，也只会在晶圆表面形成一个较为模糊的图像，对局部光强产生的干扰较小，因此在光掩模表面蒙贴光罩护膜，可以有效的提高光掩模的良品率和使用寿命。
[0003]但光罩护膜蒙贴在光掩模上的位置偏差需要有严格的规格限制，光罩护膜的蒙贴需以光掩模表面上两侧的定位线为基准，一旦光罩护膜蒙贴的位置相比于定位线的偏差较大，则会在光掩模的抓取过程中，导致抓取机构和光掩模之间的错位，使得抓取机构对光掩模产生撞击，导致光掩模的损伤。光罩护膜的位置偏差，通常采用标注差量测基台进行量测，但标注差量测基台的价格过于昂贵，会较大的提升光掩模的整体成本。
[0004]因此需要提供一种检测光罩护膜在光掩模上蒙贴位移量的方法，能够取代标注差量测基台，对光罩护膜的蒙贴位移量进行检测，降低检测光罩护膜蒙贴位移量所需成本，进而降低光掩模的整体成本。

技术实现思路

[0005]有鉴于此，本说明书实施例提供一种便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法及光掩模，能够取代标注差量测基台，对光罩护膜的蒙贴位移量进行检测，降低检测光罩护膜蒙贴位移量所需成本，进而降低光掩模的整体成本。
[0006]本说明书实施例提供以下技术方案：
[0007]本说明书实施例提供一种便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法，步骤如下：
[0008]S1，在光掩模表面设置标尺，标尺以光掩模表面设置的定位线为基准，标尺每格度数的量级为微米级；
[0009]S2，蒙贴光罩护膜于光掩模的表面；
[0010]S3，通过显微镜观测光罩护膜的边沿在标尺上的读数，得出光罩护膜于光掩模表面蒙贴的位移量。
[0011]优选的，步骤S1包括：
[0012]S11，在光掩模表面上的每条定位线上均设置标尺；
[0013]S12，使每个标尺均在Y轴方向与对应定位线重叠。
[0014]优选的，步骤S3包括：
[0015]S31，通过显微镜观测光罩护膜的边沿在各个标尺上的读数，得出光罩护膜于光掩
模表面蒙贴的位移量。
[0016]优选的，标尺通过曝光机在光掩模表面描画形成。
[0017]本说明书实施例还提供一种便捷测量光罩护膜蒙贴位移量的光掩模，包括光掩模，光掩模的表面蒙贴有光罩护膜；
[0018]光掩模的表面设有标尺，标尺的长度方向沿Y轴方向设置，标尺至少与光掩模表面一侧的定位线在Y轴方向上重叠，标尺每格度数的量级均为微米级；
[0019]光罩护膜的边沿至少部分区域覆盖于标尺上。
[0020]优选的，光掩模表面于Y轴方向上的两侧各设置有两根定位线，定位线用于供光罩护膜定位；
[0021]标尺共有四个，四个标尺分别一一对应于四根定位线设置。
[0022]优选的，每个标尺均至少有部分区域在Y轴方向上完全重叠于对应的定位线。
[0023]优选的，每个标尺均在Y轴方向上完全重叠于对应的定位线，且标尺的两端分别与对应定位线的两侧于Y轴方向上对齐。
[0024]优选的，四个标尺的尺寸规格均完全一致，且每个标尺的最小刻度均为10微米。
[0025]优选的，标尺通过曝光机在光掩模表面描画形成。
[0026]与现有技术相比，本说明书实施例采用的上述至少一个技术方案能够达到的有益效果至少包括：
[0027]通过设置标尺，利用光掩模上预先设置的标尺，对光罩护膜于光掩模表面蒙贴的位移量进行测量，只要借助显微镜辅助即可，无需使用标注差量测基台，降低了检测光罩护膜蒙贴位移量所需成本，进而降低了光掩模的整体成本。
附图说明
[0028]为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0029]图1是本申请中的便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法流程示意图；
[0030]图2是本申请中的便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法的另一流程示意图；
[0031]图3是本申请中的获取光罩护膜边沿在标尺上读数的示意图；
[0032]图4是本申请中的便捷测量光罩护膜蒙贴位移量的光掩模的结构示意图；
[0033]图5是本申请中的定位线的放大示意图。
[0034]附图标记：1、光掩模；2、光罩护膜；3、定位线；4、标尺。
具体实施方式
[0035]下面结合附图对本申请实施例进行详细描述。
[0036]以下通过特定的具体实例说明本申请的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本申请的其他优点与功效。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。本申请还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本申请的精神
下进行各种修饰或改变。需说明的是，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0037]要说明的是，下文描述在所附权利要求书的范围内的实施例的各种方面。应显而易见，本文中所描述的方面可体现于广泛多种形式中，且本文中所描述的任何特定结构及/或功能仅为说明性的。基于本申请，所属领域的技术人员应了解，本文中所描述的一个方面可与任何其它方面独立地实施，且可以各种方式组合这些方面中的两者或两者以上。举例来说，可使用本文中所阐述的任何数目和方面来实施设备及/或实践方法。另外，可使用除了本文中所阐述的方面中的一或多者之外的其它结构及/或功能性实施此设备及/或实践此方法。
[0038]还需要说明的是，以下实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本申请的基本构想，图式中仅显示与本申请中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。
[0039]另外，在以下描述中，提供具体细节是为了便于透彻理解实例。然而，所属领域的技术人员将理解，可在没有这些特定细节的情况下实践。
[0040]专利技术人在实际生产中发现，当下光掩模上光罩护膜的位置偏差，需要采用标注差量测基台进行量测，但由于标注差量测基台的价格过于昂贵，会较大的提升光掩模的整体成本。
[0041]基于此，本说明书实施例提出了一种便捷测量光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法，其特征在于，步骤如下：S1，在光掩模表面设置标尺，所述标尺以光掩模表面设置的定位线为基准，所述标尺每格度数的量级为微米级；S2，蒙贴光罩护膜于光掩模的表面；S3，通过显微镜观测光罩护膜的边沿在标尺上的读数，得出光罩护膜于光掩模表面蒙贴的位移量。2.根据权利要求1所述的便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法，其特征在于，步骤S1包括：S11，在光掩模表面上的每条定位线上均设置标尺；S12，使每个所述标尺均在Y轴方向与对应定位线重叠。3.根据权利要求2所述的便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法，其特征在于，步骤S3包括：S31，通过显微镜观测光罩护膜的边沿在各个标尺上的读数，得出光罩护膜于光掩模表面蒙贴的位移量。4.根据权利要求1至3中任一项所述的便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法，其特征在于，所述标尺通过曝光机在光掩模表面描画形成。5.一种便捷测量光罩护膜蒙贴位移量的光掩模，其特征在于，包括光掩模，所述光掩模的表面蒙贴有光罩护膜；所述光掩模的表面设有标尺，所述标尺的长度方向沿Y轴...

【专利技术属性】
技术研发人员：田正洲，葛海鸣，包忍，
申请(专利权)人：广州新锐光掩模科技有限公司，
类型：发明
国别省市：