【技术实现步骤摘要】
本说明书涉及光掩模，具体涉及一种光掩模板二次曝光方法及光掩模板。
技术介绍
1、正常二次曝光过程中激光能量不会导致光掩模的石英层出现裂纹；二次曝光过程中，为了保障对位时有足够的信号，对位时使用的曝光能量无法调低，而图形区曝光能量是可定义值，还可通过能量稍降来改善，因此对位时使用的曝光能量要高于图形区曝光能量，可能高达三倍。对于一些光掩模板，由于该光掩模板空白区域透光性比较强，铬层及硅化钼层反射率较低，对位曝光能量透射到石英层的比例较高，容易导致光掩模板的石英层超出可承受范围而出现开裂。
技术实现思路
1、有鉴于此，本说明书实施例提供一种光掩模板二次曝光方法及光掩模板，在光掩模板第二次曝光前，对光掩模进行电子束诱导碳沉积，有助于降低激光透射率、提高反射率，使得进入石英层的激光能量降低到安全阈值以下，避免光掩模板的石英层产生裂纹，可以减少光掩模板的报废率以及提高对位成功率。
2、本说明书实施例提供以下技术方案：一种光掩模板二次曝光方法，包括：
3、对需要第二次曝光的光掩...
【技术保护点】
1.一种光掩模板二次曝光方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光掩模板二次曝光方法，其特征在于，所述光掩模板包括石英层、铬层及硅化钼层，所述铬层及硅化钼层设置于所述石英层上。
3.根据权利要求1所述的光掩模板二次曝光方法，其特征在于，所述电子束对光掩模板扫描诱导碳沉积包括：所述电子束对光掩模板的对位区域图形表面进行扫描。
4.根据权利要求3所述的光掩模板二次曝光方法，其特征在于，所述电子束扫描诱导碳沉积在低真空环境下进行。
5.根据权利要求1-4任一项所述的光掩模板二次曝光方法，其特征在于，所述光掩模板进行第
【技术特征摘要】
1.一种光掩模板二次曝光方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光掩模板二次曝光方法，其特征在于，所述光掩模板包括石英层、铬层及硅化钼层，所述铬层及硅化钼层设置于所述石英层上。
3.根据权利要求1所述的光掩模板二次曝光方法，其特征在于，所述电子束对光掩模板扫描诱导碳沉积包括：所述电子束对光掩模板的对位区域图形表面进行扫描。
4.根据权利要求3所述的光掩模板二次曝光方法，其特征在于，所述电子束扫描诱导碳沉积在低真空环境下进行。
5.根据权利要求1-4任一项所述的光...
【专利技术属性】
技术研发人员：罗嘉盈，施维，郑怀志，陆世林，柳仙蓉，
申请(专利权)人：广州新锐光掩模科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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