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本说明书实施例提供一种光掩模板二次曝光方法及光掩模板，光掩模板二次曝光方法，包括：对需要第二次曝光的光掩模板进行电子束扫描诱导碳沉积；对上述碳沉积后的光掩模板进行第二次曝光。在光掩模板第二次曝光前，对光掩模进行电子束诱导碳沉积，电子束诱导碳...
该专利属于广州新锐光掩模科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广州新锐光掩模科技有限公司授权不得商用。

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