一种国旗图案规范性的检测方法技术

本发明专利技术公开了一种国旗图案规范性的检测方法，涉及图形检测技术领域。本发明专利技术提供一种国旗图案规范性的检测方法，通过五角星图案检测模组和特征长度检定尺的设计及对应检测流程的设计，使得对国旗图案中各五角星图案的合规性检测以及各图案相对位置的合规性检测无需依赖人工经验或冗长复杂的测量流程，从而提高对国旗图案规范性的检测效率和检测精度。高对国旗图案规范性的检测效率和检测精度。高对国旗图案规范性的检测效率和检测精度。

【技术实现步骤摘要】
一种国旗图案规范性的检测方法


[0001]本专利技术涉及图形检测
，特别涉及一种国旗图案规范性的检测方法。

技术介绍

[0002]由于国旗要求具有良好的飘动性和飘动形态，绝大多数国旗采用柔弹性织物经染色（国旗红）、印花（黄五角星拔染印花）、整理（固色、定型等）、裁剪、缝制（缝边和旗杆套）制作而成，在加工的每道工序都有可能造成国旗制品达不到标准要求。
[0003]国旗是国家形象标志，具有庄严性和神圣性。在生产、制作国旗的过程中，务必确保每一面国旗合法、合规、达标。国旗制品的质量检验，也就构成了国旗加工制作的重要环节。
[0004]国旗形象的核心要素是颜色、图案、尺寸和五角星的位置，也是国旗成品检验的重点项目。在国旗标准要求的各项目中，国旗图案的检验，即五角星位置的检验是难度最高的。由于印花制版精确性误差，以及柔弹性织物在印花加工中的变形、错位，导致旗面上五颗五角星间相对位置的误差，五角星位置的误差程度及是否超出范围，是必须检验但实施难度又较高的项目。
[0005]在实现本专利技术的过程中，专利技术人发现相关技术至少存本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种国旗图案规范性的检测方法，其特征在于，所述检测方法包括：将目标国旗完全平铺展开后，获取所述目标国旗的当前国旗规格；根据所述目标国旗的当前国旗规格，确定当前国旗规格匹配的五角星图案检测模组和特征长度检定尺，所述五角星图案检测模组包括大五角星检测模板和小五角星检测模板，所述大五角星检测模板为具有由内至外三个同心圆轮廓线的透明圆盘，其中，所述大五角星检测模板的中圈同心圆轮廓线内接有大五角星轮廓线，所述中圈同心圆轮廓线直径为当前国旗规格对应大五角星标准外接圆直径，内圈同心圆轮廓线直径和外圈同心圆轮廓线直径分别为当前国旗规格对应大五角星最小外接圆直径和大五角星最大外接圆直径；所述小五角星检测模板为具有由内至外三个同心圆轮廓线的透明圆盘，其中，所述小五角星检测模板的中圈同心圆轮廓线内接有小五角星轮廓线，所述中圈同心圆轮廓线直径为当前国旗规格对应小五角星标准外接圆直径，内圈同心圆轮廓线直径和外圈同心圆轮廓线直径分别为当前国旗规格对应小五角星最小外接圆直径和小五角星最大外接圆直径；所述特征长度检定尺为透明长方形，所述特征长度检定尺由近及远依次刻有基准刻度线、大五角星误差范围刻度双线、第一小五角星误差范围刻度双线、第二小五角星误差范围刻度双线、第四小五角星误差范围刻度双线、第三小五角星误差范围刻度双线，其中，所述基准刻度线与所述大五角星误差范围刻度线的相对距离范围对应当前国旗规格下国旗左上角基点与大五角星中心点的允许误差距离范围，所述基准刻度线与第一小五角星误差范围刻度双线的相对距离范围对应当前国旗规格下国旗左上角基点与上方第一颗小五角星中心点的允许误差距离范围，所述基准刻度线与第二小五角星误差范围刻度双线的相对距离范围对应当前国旗规格下国旗左上角基点与上方第二颗小五角星中心点的允许误差距离，所述基准刻度线与第二小五角星误差范围刻度双线的相对距离范围对应当前国旗规格下国旗左上角基点与上方第二颗小五角星中心点的允许误差距离，所述基准刻度线与第四小五角星误差范围刻度双线的相对距离范围对应当前国旗规格下国旗左上角基点与最下方小五角星中心点的允许误差距离，所述基准刻度线与第三小五角星误差范围刻度双线的相对距离范围对应当前国旗规格下国旗左上角基点与由下至上第二颗小五角星中心点的允许误差距离；将所述大五角星检测模板覆盖于所述目标国旗的大五角星图案表面，调整所述大五角星检测模板的位置，使所述大五角星图案各个角尖距所述大五角星检测模板外圈同心圆轮廓线的距离一致后，将所述大五角星检测模板的圆心确定为所述大五角星图案中心点，当检测到所述大五角星图案的各个角尖均位于所述大五角星检测模板外圈同心圆轮廓线和内圈同心圆轮廓线之间时，确定所述目标国旗的大五角星图案合格；同理，对于所述目标国旗的各个小五角星图案，将所述小五角星检测模板覆盖于所述目标国旗的小五角星图案表面，调整所述小五角星检测模板的位置，使所述小五角星图案各个角尖距所述小五角星检测模板外圈同心圆轮廓...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱自荣，敖利民，姚末琴，谢胜，
申请(专利权)人：长兴宝福织造有限公司，
类型：发明
国别省市：