边缘三面检测的光学系统技术方案

技术编号:37443512 阅读:18 留言:0更新日期:2023-05-06 09:15
本发明专利技术的实施例公开了一种边缘三面检测的光学系统,其中光学系统包括:第一光路,其具有第一接收端及第一出射端,所述第一接收端被定位为接收来自所述第一边缘面的第一光线并将所述第一光线传送到所述第一出射端;第二光路,其具有第二接收端及第二出射端,所述第二接收端被定位为接收来自所述第二边缘面的第二光线并将所述第二光线传送到所述第二出射端;以及第三光路,其具有第三接收端及第三出射端,所述第三接收端被定位为接收来自所述侧表面的第三光线并将所述第三光线传送到所述第三出射端。根据本发明专利技术,其仅使用一个成像系统,即可在保证成像清晰度的情况下完成对产品的边缘区域三个表面同步进行表面缺陷检测。的边缘区域三个表面同步进行表面缺陷检测。的边缘区域三个表面同步进行表面缺陷检测。

【技术实现步骤摘要】
边缘三面检测的光学系统


[0001]本专利技术涉及表面缺陷检测领域,特别涉及一种边缘三面检测的光学系统。

技术介绍

[0002]形如液晶面板、晶圆及光学玻璃等产品的边缘区域需要进行检测以保证其整体质量,其中这些产品的边缘区域包括边缘面以及与边缘面连接的上下两个表面。
[0003]在对形如液晶面板、晶圆及光学玻璃等产品的边缘区域进行检测时,通常需要分别检测上述三个表面是否存在表面缺陷,由于三个表面处于不同方位,并不处于同一个平面上,甚至还有彼此背对的情形,最简单的办法是使用3个成像系统分别对三个表面分别成像,但这样会导致整体的视觉结构变得非常复杂且需要占用较大的空间,同时为了处理图像需要配置更多的电脑,设备费用昂贵的同时也浪费了更多的算力。因此,对于“如何仅使用一套成像系统同时对这三个表面清晰成像”这个问题一直是行业内亟待解决的痛点。
[0004]除此之外,在现有技术中,只能实现同时对两个表面进行表面缺陷检测,因此仍然无法满足对液晶平板、晶圆及光学玻璃等产品的边缘区域三个表面同步进行表面缺陷检测的需求。
>[0005]有鉴于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种边缘三面检测的光学系统,用于对待测产品的边缘部分进行缺陷检测,所述待测产品具有彼此相背离的第一表面、第二表面及侧表面,所述第一表面及所述第二表面在各自的周向边缘处分别具有第一边缘面及第二边缘面,所述侧表面连接在所述第一边缘面与第二边缘面之间,其特征在于,所述光学系统包括:第一光路,其具有第一接收端及第一出射端,所述第一接收端被定位为接收来自所述第一边缘面的第一光线并将所述第一光线传送到所述第一出射端;第二光路,其具有第二接收端及第二出射端,所述第二接收端被定位为接收来自所述第二边缘面的第二光线并将所述第二光线传送到所述第二出射端;以及第三光路,其具有第三接收端及第三出射端,所述第三接收端被定位为接收来自所述侧表面的第三光线并将所述第三光线传送到所述第三出射端;其中,所述第一出射端、所述第二出射端及所述第三出射端终止于一采集平面,定义:第一接收端与第一出射端间的光程为第一光程L1;第二接收端与第二出射端间的光程为第二光程L2;第三接收端与第三出射端间的光程为第三光程L3;则:所述第一光程L1、第二光程L2及第三光程L3三者光程相等。2.如权利要求1所述的光学系统,其特征在于,所述光学系统具有置物平面、第一方向及第二方向;所述第一方向与所述置物平面相垂直,所述第二方向与所述第一方向相垂直;其中,所述置物平面穿过所述待测产品的中心,以致所述第一边缘面距所述置物平面的距离与所述第二边缘面距所述置物平面的距离相等。3.如权利要求2所述的光学系统,其特征在于,所述第一光路包括第一上偏转面、第二上偏转面及第三上偏转面,所述第一上偏转面、第二上偏转面及第三上偏转面沿着所述第一光线的传送路径依次布置;其中,所述第一上偏转面被配置为将所述第一光线从所述第一方向偏转至所述第二方向;所述第二上偏转面被配置为将所述第一光线从所述第二方向偏转至所述第一方向;所述第三上偏转面被配置为将所述第一光线从所述第一方向偏转至所述第二方向。4.如权利要求3所述的光学系统,其特征在于,定义:所述第一光线沿着所述第一方向从所述第一边缘面出发至所述第一上偏转面的距离为l1;所述第一光线沿着所述第二方向从所述第一上偏转面出发至所述第二上偏转面的距离为l2;所述第一光线沿着所述第一方向从所述第二上偏转面出发至所述第三上偏转面的距离为l3;所述第一光线沿着所述第二方向从所述第三上偏转面出发至所述采集平面的距离为l4;则:所述第一光程L1的长度为L1=l1+l2+l3+l4。5.如权利要求3所述的光学系统,其特征在于,所述第二光路包括第一下偏转面、第二下偏转面及第三下偏转面,所述第一下偏转面、第二下偏转面及第三下偏转面沿着所述第二光线的传送路径依次布置;
其中,所述第一下偏转面被配置为将所述第二光线从所述第一方向偏转至所述第二方向;所述第二下偏转面被配置为将所述第二光线从所述第二方向偏转至所述第一方向;所述第三下偏转面被配置为将所述第二光线从所述第一方向偏转至所述第二方向。6.如权利要求5所述的光学系统,其特征在于,定义:所述第二光线沿着所述第一方向从所述第二边缘面出发至所述第一下偏转面的距离为l5;所述第二光线沿着所述第二方向从所述第一下偏转面出发至所述第二下偏转面的距离为l6;所述第二光线沿着所述第一方向从所述第二下偏转面出发至所述第三下偏转面的距离为l7;所述第二光线沿着所述第二方向从所述第三下偏转面出发至所述采集平面的距离为l8;则:所述第二光程L2的长度为L2=l5+l6+l7+l8。7.如权利要求5所述的光学系统,其特征在于,所述第三光路包括第一中偏转面、第二中偏转面、第三中偏转面及第四中偏转面,所述第一中偏转面、第二中偏转面、第三中偏转面及第四中偏转面沿着所述第三光线的传送路径依次布置;所述光学系统还具有第三方向,所述第一方向、第二方向及第三方向两两相互垂直;其中,所述第一中偏转面被配置为将所述第三光线从所述第二方向偏转至所述第三方向;所述第二中偏转面被配置为将所述第三光线从所述第三方向偏转至所述第二方向;所述第三中偏转面被配置为将所述第三光线从所述第二方向偏转至所述第三方向;所述第四中偏转面被配置为将所述第三光线从所述第三方向偏转至所述第二方向。8.如权利要求7所述的光学系统,其特征在于,定义:所述第三光线沿着所述第二...

【专利技术属性】
技术研发人员:请求不公布姓名
申请(专利权)人:苏州高视半导体技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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