感光性组合物、感光性膜、使用该感光性组合物的永久图案形成方法和印制电路板技术

本发明专利技术提供兼顾优异的保存稳定性和高感光度、能够高精细地且高效地形成保护膜、绝缘膜等永久图案的感光性组合物、感光性膜、使用该感光性组合物的永久图案形成方法及通过该永久图案形成方法形成永久图案的印制电路板。因此，将至少含有粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发系化合物、热交联剂的该感光性组合物层叠在基体上，在２５℃下暗处放置２０分钟后，将利用显影液除去层叠在所述基体的感光性组合物的未曝光部分所需要的时间（最短显影时间）作为Ｔ↓［１］；相对于层叠在所述基体的感光性组合物将该感光性组合物在４０℃下暗处放置７２小时后，将利用显影液除去所述感光性组合物的未曝光部分所需要的时间（最短显影时间）作为Ｔ↓［２］时，满足０．５＜Ｔ↓［２］／Ｔ↓［１］＜３的关系。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及感光度、分辨率和保存稳定性优异，能够高效地形成高精 细图案(保护膜、层间绝缘膜和阻焊图案等)的感光性组合物、感光性膜、 使用该感光性组合物的永久图案形成方法及通过该永久图案形成方法形 成永久图案的印制电路板。
技术介绍
一直以来，在形成阻焊图案等永久图案时，使用在支承体上涂布感光 性组合物进行干燥从而形成有感光层的感光性膜。作为上述永久图案的制造方法，例如在形成有上述永久图案的覆铜层 叠板等的基体上层叠上述感光性膜而形成层叠体，对该层叠体的上述感光 层进行曝光，在该曝光后将上述感光层显影形成图案，之后进行固化处理 等，从而形成上述永久图案。在上述感光性组合物中，为了提高稳定性等，提出了含有下述高分子化合物的感光性组合物，所述高分子化合物为，在具有碳原子数1 6个 的脂肪族烃基的(甲基)丙烯酰单体与(甲基)丙烯酸的共聚物上加成具 有环氧基的(甲基)丙烯酸酯化合物后的高分子化合物(参照专利文献1 )。 另外，出于与上述提案基本相同的目的，提出了含有下述高分子化合 物的感光性组合物，所述高分子化合物为，在侧链具有羧基的共聚物上加 成具有脂环式环氧基的不饱和化合物后的高分子化合物(参照专利文献 2)。另外，为了提高耐热性或耐化学药品性等的性能，提出了在组合物中 含有具有不饱和双键且具有特定范围的酸值、分子量的粘合剂聚合物及具 有不饱和双键且具有特定的酸值、环氧等量的环氧树脂的感光性树脂组合物(参照专利文献3)。但是，在这些感光性组合物中，感光度和保存稳定性均不充分，特别 是在利用激光扫描曝光的图案潜像形成中具有以下问题由于曝光部的固 化不充分，而在碱显影工序中图像部被除去，或者在将感光性组合物膜化 制成长尺辊形状时，经时地发生端面的熔融，该熔融部分在层叠时落至层 叠体的曝光面，从而在曝光时引起曝光图案的断线等。另外，使用了碱可溶性环氧树脂的感光性组合物在镀金处理过程中与 基板的密合变得不良，观察到感光性组合物浮起，发生可见镀渗(日文； 力o含潜!9)的现象等问题。因此，通过含有规定的高分子化合物，仍然无法提供感光度、分辨率 和保存稳定性优异、能够高效地形成高精细永久图案(保护膜、层间绝缘 膜和阻焊图案等)的感光性组合物、感光性膜、使用上述感光性膜的图案 形成方法以及通过该永久图案形成方法形成有永久图案的印制电路板，现 状是期待进一步的改良开发。专利文献1:日本特开平3-172301号公报 专利文献2:日本特开平10-10726号公报 专利文献3:日本特开平7-199457号公报
技术实现思路
本专利技术鉴于该现状而完成，其课题在于解决以往的上述诸问题、达成 以下的目的。即，本专利技术的目的在于提供感光性组合物的经时的显影稳定 性优异、能够高效地形成高精细永久图案(保护膜、层间绝缘膜和阻焊图 案等)的感光性组合物、感光性膜、及使用上述感光性组合物和上述感光 性膜的永久图案形成方法以及通过该永久图案形成方法形成有永久图案 的印制电路板。作为用于解决上述课题的方法如下所述。即<1>一种感光性组合物，其为至少含有粘合剂、聚合性化合物、光聚 合引发系化合物、热交联剂的感光性组合物，其中，将该感光性组合物层 叠在基体上，在25。C于暗处放置20分钟后，将利用显影液除去层叠至上 述基体的感光性组合物的未曝光部分所需要的时间(最短显影时间)作为TP对于层叠至上述基体的感光性组合物，将该感光性组合物在4(TC于暗 处放置72小时后，将利用显影液除去上述感光性组合物的未曝光部分所 需要的时间(最短显影时间)作为丁2时，满足0.5<丁2/1\<3的关系。<2>根据上述<1>所述的感光性组合物，其中，粘合剂含有在侧链具有 酸性基团和乙烯性不饱和键的高分子化合物。<3>根据上述<1> <2>中任一项所述的感光性组合物，其中，粘合剂 为选自于催化剂共存下在高分子化合物的酸性基团的一部分加成含有环 状醚基的聚合性化合物后的高分子化合物和于催化剂共存下在高分子化 合物的环状醚基的一部分或全部上加成含有羧基的聚合性化合物后的高 分子化合物中的任一种高分子化合物，上述催化剂选自酸性化合物和中性 化合物中的任一种。<4>根据上述<1> <3>中任一项所述的感光性组合物，其中，粘合剂 含有侧链具有酸性基团、可含有杂环的芳香族基团、乙烯性不饱和键的高 分子化合物。<5>根据上述<2> <4>中任一项所述的感光性组合物，其中，高分子 化合物含有0.5 3.0meq/g的乙烯性不饱和键。<6>根据上述<2> <5>中任一项所述的感光性组合物，其中，高分子 化合物的侧链具有羧基，所述羧基在高分子化合物中的含量为1.0 4.0meq/g。<7>根据上述<2> <6>中任一项所述的感光性组合物，其中，高分子 化合物的质均分子量为10000以上且小于100000。<8>根据上述<2> <7>中任一项所述的感光性组合物，其中，高分子 化合物含有20mol。/。以上的下述结构式(I)所示的结构单元。<formula>formula see original document page 7</formula>结构式(I) 上述结构式(I)中，Rt、 R2、 R3表示氢原子或1价的有机基团。L 表示有机基团，也可以没有，Ar表示可含杂环的芳香族基团。<9〉根据上述<1> <8>中任一项所述的感光性组合物，其中，聚合性 化合物含有具有1个以上乙烯性不饱和键的化合物。<10>根据上述<1> <9>中任一项所述的感光性组合物，其中，聚合 性化合物含有至少l种具有(甲基)丙烯酰基的单体。<11>根据上述<1> <10>中任一项所述的感光性组合物，其中，光聚 合引发剂含有选自卤化烃衍生物、六芳基二咪唑、肟衍生物、有机过氧化 物、硫化合物、酮化合物、芳香族镜盐、金属茂类、酰基膦氧化物化合物 中的至少1种。<12>根据上述<1> <11>中任一项所述的感光性组合物，其中，热交 联剂为选自环氧化合物、氧杂环丁垸化合物、聚异氰酸酯化合物、使封端 剂与聚异氰酸酯化合物反应而获得的化合物以及蜜胺衍生物的任一种中 的至少1种。<13>根据上述<1> <12>中任一项所述的感光性组合物，其中，热交 联剂为碱不溶性。<14>根据上述<1> <13>中任一项所述的感光性组合物，其中，热交 联剂的交联基的摩尔比/粘合剂的酸性基团的摩尔比为0.1 1.5。<15>根据上述<1> <13>中任一项所述的感光性组合物，其中，热交 联剂的交联基的摩尔比/粘合剂的酸性基团的摩尔比为0.2 1.3。<16〉根据上述<1〉 <13>中任一项所述的感光性本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种感光性组合物，其为至少含有粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发系化合物以及热交联剂的感光性组合物，其特征在于，　Ｔ↓［１］和Ｔ↓［２］满足０．５＜Ｔ↓［２］／Ｔ↓［１］＜３的关系，所述Ｔ↓［１］为将该感光性组合物层叠在基体上，在２５℃于暗处放置２０分钟后，利用显影液除去层叠在上述基体的感光性组合物的未曝光部分所需要的时间（最短显影时间）；所述Ｔ↓［２］为相对于层叠在上述基体的感光性组合物将该感光性组合物在４０℃于暗处放置７２小时后，利用显影液除去上述感光性组合物的未曝光部分所需要的时间（最短显影时间）。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：高岛正伸，神川弘，藤牧一广，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]