两面曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种两面曝光装置，其不用进行麻烦的调整和控制就能够使基板的表面和背面在相同的曝光条件下曝光。从光源灯（１０）发出的光在通过椭圆镜（１１）会聚、并通过反射镜（１２）折回之后，在复眼透镜（１３）部分聚焦，并通过分光镜（２０）分成反射光和透射光，通过光源光闸（２１）控制光量，进而由准直镜（３）反射而成为平行光，并透过光掩模（５１）、光掩模（５２）照射到基板（５０）的表面侧和背面侧。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种使印刷布线基板的两面曝光的两面曝光装置。
技术介绍
在使印刷布线基板的表面和背面同时曝光的平行光两面同时曝光装 10置中，以往为了使表面和背面分别曝光，而设置了表面用和背面用的两 盏灯作为光源。但是，在现有的装置中，由于有两台光源装置，所以有时要根据各 个装置和灯的个体差异来改变表面和背面的曝光条件，存在用于在表面 和背面进行相同曝光的调整和控制困难、非常麻烦的问题。此外，由于要对1台曝光装置安装2台光源装置，因此存在成本高、装置大型化的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于解决上述现有技术存在的问题。为了达到上述目的，本专利技术的两面曝光装置的特征在于，其包括一个光源；分光体，其将上述光源的光的一半反射，使另一半透射；第一准直镜，其使上述分光体所反射的光照射向作为曝光对象的印刷布线基板的一面侧；第二准直镜，其使透过了上述分光体的光照射向作为曝 光对象的印刷布线基板的一面侧；第一光源光闸，其设置在上述分光体 25与第一准直镜之间，用于调节来自分光体的光量；以及第二光源光闸， 其设置在上述分光体与第二准直镜之间，用于调节来自分光体的光量。在以上的结构中，采用单一的光本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种两面曝光装置，其特征在于，该两面曝光装置包括：　一个光源；　分光体，其将上述光源的光的一半反射，使另一半透射；　第一准直镜，其使上述分光体所反射的光照射向作为曝光对象的印刷布线基板的一面侧；　第二准直镜，其使透过 了上述分光体的光照射向作为曝光对象的印刷布线基板的一面侧；　第一光源光闸，其设置在上述分光体与第一准直镜之间，用于调节来自分光体的光量；以及　第二光源光闸，其设置在上述分光体与第二准直镜之间，用于调节来自分光体的光量。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：浅见正利，
申请(专利权)人：株式会社阿迪泰克工程，
类型：发明
国别省市：JP[日本]