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本发明提供一种两面曝光装置，其不用进行麻烦的调整和控制就能够使基板的表面和背面在相同的曝光条件下曝光。从光源灯（１０）发出的光在通过椭圆镜（１１）会聚、并通过反射镜（１２）折回之后，在复眼透镜（１３）部分聚焦，并通过分光镜（２０）分成反射光...
该专利属于株式会社阿迪泰克工程所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社阿迪泰克工程授权不得商用。

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