超声波清洗方法技术

包括：清洗液涂布步骤(S101)，在保持于清洗载台的电子零件的表面涂布清洗液；剥离步骤(S103)，自安装于音响头的超声波扬声器将超声波照射至涂布了清洗液的电子零件的表面，使附着于表面的异物自表面剥离；以及吸引步骤(S104)，使自超声波扬声器产生的超声波在壳体与清洗载台的保持面之间的空隙集中，在壳体的中央下部形成压力比大气压低的低压区域，将自电子零件的表面剥离的异物与涂布于表面的清洗液吸引至低压区域。洗液吸引至低压区域。洗液吸引至低压区域。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】超声波清洗方法


[0001]本专利技术涉及一种使用超声波来对清洗对象物的表面进行清洗的超声波清洗方法。

技术介绍

[0002]要求去除附着于图像传感器等半导体元件的表面的异物。作为此种异物去除的方法，可利用使用液体二氧化碳(CO2)来去除半导体元件的异物的技术。所述方法是自喷射喷嘴向清洗对象物的表面喷射液体二氧化碳，使通过喷射时的绝热膨胀进行冻结而成为干冰的干冰粒子碰撞清洗对象物，并进行表面的异物的去除(例如，参照专利文献1)。
[0003]另外，也大多使用如下超声波清洗机：在清洗槽充满清洗液且使清洗对象物浸渍于清洗液中，对清洗液照射超声波来进行清洗对象物的清洗(例如，参照专利文献2)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本专利特开2000
‑
117201号公报
[0007]专利文献2：日本专利第6307684号说明书

技术实现思路

[0008]专利技术所要解决的问题
[0009]但是，如专利文献1中记载那样的方法中，需要使本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种超声波清洗方法，对清洗对象物的表面进行清洗，所述超声波清洗方法包括：准备步骤，准备包括清洗载台及音响头的音响式清洗装置，所述清洗载台在保持面保持所述清洗对象物，所述音响头与所述清洗载台隔开配置且包括具有指向性的多个超声波产生器、以及壳体，所述壳体以使自多个所述超声波产生器产生的多个超声波集中的方式安装有多个所述超声波产生器；清洗液涂布步骤，在保持于所述清洗载台的所述清洗对象物的所述表面涂布清洗液；剥离步骤，在所述清洗液涂布步骤之后，将自安装于所述音响头的多个所述超声波产生器产生的多个超声波照射至涂布有所述清洗液的所述清洗对象物的所述表面，使附着于所述表面的异物自所述表面剥离；以及吸引步骤，使自安装于所述音响头的多个所述超声波产生器产生的多个超声波在所述壳体与所述清洗载台的所述保持面之间的空隙集中，在所述空隙形成压力比大气压低的低压区域，将自所述清洗对象物的所述表面剥离的所述异物与涂布于所述表面的所述清洗液吸引至所述低压区域。2.根据权利要求1所述的超声波清洗方法，其特征在于，在所述准备步骤中准备的所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：麦可，
申请(专利权)人：雅马哈智能机器控股株式会社，
类型：发明
国别省市：