一种大线宽尺寸线扫光刻光源模组制造技术

本实用新型专利技术公开了一种大线宽尺寸线扫光刻光源模组，包括：LED光源，LED光源的左端设有均光镜组，第二垂直透镜，其设于均光镜组的左端，TIR透镜，其设于第二垂直透镜的左端，数字微反射镜，其设于TIR透镜的左端，本实用新型专利技术克服了现有技术的不足，通过设置有第二垂直透镜，其中均光镜组的左端设有第二垂直透镜，在光线进入均光镜组时产生高均匀光斑，其第二垂直透镜与均光镜组设于同一水平面，其均光镜组产生的高均匀光斑射入第二垂直透镜后将光斑变成平行光线，然后将光线导入TIR透镜，使其不易偏差。易偏差。易偏差。

【技术实现步骤摘要】
一种大线宽尺寸线扫光刻光源模组


[0001]本技术涉及光刻光源
，具体为一种大线宽尺寸线扫光刻光源模组。

技术介绍

[0002]光刻是平面型晶体管和集成电路生产中的一个主要工艺。而一种大线宽尺寸线扫光刻光源模组，是利用LED光源发出光线经过均光镜组产生高均匀光斑，经过TIR透镜，将光导入数字微反射镜，利用数字微反射镜产生的圆形光斑，经过TIR透镜转向给透镜组，如此将平行光斑变成放大光斑，最后再利用第一垂直透镜，将放大光斑转成平行垂直光线，然后投射在待光刻晶片或PCB板上；
[0003]针对已知的光刻光源模组，参考专利号：CN215219416U，现有的部分光刻光源模组在进行时一般都是使用LED光源发出的光线，而LED光源发出的光线经过均光镜组后容易产生高均匀光斑，使得光斑在进入TIR透镜时会产生偏差，而且，现有的部分光刻光源模组中的透镜组通常为固定状设置，而在需要调整光线角度时非常不便，容易出现光线投射不准的现象。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种大线宽尺寸线扫光刻光源模组，以解决上述
技术介绍
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种大线宽尺寸线扫光刻光源模组，其特征在于，包括：LED光源(1)，所述LED光源(1)的左端设有均光镜组(2)；第二垂直透镜(3)，其设于均光镜组(2)的左端；TIR透镜(4)，其设于第二垂直透镜(3)的左端；数字微反射镜(5)，其设于TIR透镜(4)的左端；透镜组(6)，其设于TIR透镜(4)的下方；第一垂直透镜(7)，其设于透镜组(6)的下方。2.根据权利要求1所述的一种大线宽尺寸线扫光刻光源模组，其特征在于，所述第一垂直透镜(7)的下方设有待光刻晶片(8)，且第一垂直透镜(7)、透镜组(6)与TIR透镜(4)均设于同一直线上。3.根据权利要求1所述的一种大线宽尺寸线扫光刻光源模组，其特征在于，所述均光镜组(2)用于将产生高均匀光斑。4...

【专利技术属性】
技术研发人员：周亚兴，唐孝生，庄益祯，游证杰，
申请(专利权)人：奇格半导体重庆有限责任公司，
类型：新型
国别省市：