【技术实现步骤摘要】
本技术属于电子元件散热
,特别是指一种具有高比表面积散热片。
技术介绍
随著资讯半导体业的发展,半导体晶片不断朝向高频化发展,近年来例如中央处理器(CPU)等电子装置之处理速度更是一日千里,然而伴随而来的是高处理速度下产生的高温,如何有效的将鼋子装置热源(如会发热的电子主、被动元件,例如中央处理器、IC、整流器、电阻、电容、电感...等)产生的高温排出,使电子装置能在适当的工作温度下运转。以电脑为例,现有技术中所用散热器是装设在中央处理器上,用于协助排出中央处理器晶片产生的热量,请参阅图1所示,所用散热器大都包括有一散热片(A),该散热片(A)下方具有导热层(F),该导热层(F)是设于中央处理器(B)上面,并与中央处理器(B)贴合,前述散热片上设计具有适当形状的散热鳍片(C),散热片(A)上端另设有一风扇(D)用来产生封流气,以便吸收中央处理器(B)热量的散热鳍片(C)的热量以对流带离,自散热片排出,以降低温度。虽然留用的散热鳍片(C)已用导热、散热效果佳的铜、铝金属制成,然而由于导热及散热的效果尚难符合高速化高功率发展的需求,而其所需的庞大体积,在某些空 ...
【技术保护点】
一种高比表面积散热片,其特征在于:它具有均布孔隙的高比表面积散热层,其孔隙率为20-80%,该高比表面积散热层由高热导率非金属材料制成,或由高热导率非金属材料与金属材料混合制成。
【技术特征摘要】
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