一种晶圆激光刻蚀烟雾净化装置制造方法及图纸

技术编号:37391446 阅读:34 留言:0更新日期:2023-04-27 07:29
本实用新型专利技术公开了一种晶圆激光刻蚀烟雾净化装置,包括底座和水箱,所述底座的上表面固定安装有吸风机,所述吸风机的输入端连通设置有进烟管,所述进烟管的另一端设置有吸烟罩,所述吸风机的输出端连通设置有排烟管,所述排烟管的另一端设置在所述水箱内,所述水箱的底部连通设置有出水管,所述出水管上安装有出水阀门,所述水箱的顶部通过连接机构设置有净化箱。本实用新型专利技术通过吸风机、进烟管和吸烟罩对烟雾进行吸取,通过排烟管送入水箱内,利用水箱内部的水对烟雾中的灰尘杂质进行初步吸附,然后通过第一连接管和第二连接管将气体输入净化箱内,再利用过滤网和活性炭吸附板对气体中的杂质进行进一步的过滤和吸附,从而提高了烟雾净化的效果。高了烟雾净化的效果。高了烟雾净化的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆激光刻蚀烟雾净化装置


[0001]本技术涉及晶圆加工
,具体为一种晶圆激光刻蚀烟雾净化装置。

技术介绍

[0002]晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片,其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨,抛光,切片后,形成硅晶圆片,也就是晶圆。
[0003]目前在晶圆加工时,利用激光对晶圆进行刻蚀时,会产生烟雾,需要对烟雾进行净化处理,降低对环境的污染,传统的晶圆激光刻蚀烟雾净化装置在烟雾净化时仅采用一层净化,净化效果低,同时在净化后,为了防止影响净化效果,需要对净化箱进行及时清理。因此设计了一种晶圆激光刻蚀烟雾净化装置。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种晶圆激光刻蚀烟雾净化装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种晶圆激光刻蚀烟雾净化装置,包括底座和水箱,所述底座的上表面固定安装有吸风机,所述吸风机的输入端连通设置有进烟管,所述进烟管的另一端设置有吸烟罩,所述吸风机的输出端连通本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆激光刻蚀烟雾净化装置,包括底座(1)和水箱(2),其特征在于:所述底座(1)的上表面固定安装有吸风机(3),所述吸风机(3)的输入端连通设置有进烟管(4),所述进烟管(4)的另一端设置有吸烟罩(5),所述吸风机(3)的输出端连通设置有排烟管(6),所述排烟管(6)的另一端设置在所述水箱(2)内,所述水箱(2)的底部连通设置有出水管(7),所述出水管(7)上安装有出水阀门(8),所述水箱(2)的顶部通过连接机构(9)设置有净化箱(10),所述水箱(2)的顶部连通设置有第一连接管(11),所述净化箱(10)的底部连通设置有第二连接管(12),所述第一连接管(11)和所述第二连接管(12)通过锁紧组件(13)固定连接,所述净化箱(10)的内部设置有过滤网(14),所述过滤网(14)的上方设置有活性炭吸附板(15),所述净化箱(10)的顶部连通设置有出气管(16)。2.根据权利要求1所述的一种晶圆激光刻蚀烟雾净化装置,其特征在于:所述底座(1)的上表面焊接有支撑板(17),所述进烟管(4)贯穿所述支撑板(17)且与所述支撑板(17)固定连接。3.根据权利要求1所述的一种晶圆激光刻蚀烟雾净化装置,其特征在于:所述水箱(2)的底部设置有倾斜板(18),所述倾斜板(18)的底部设置...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡建军
申请(专利权)人:苏州英尔捷半导体有限公司
类型:新型
国别省市:

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