AR保护膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种AR保护膜，包括依次层叠设置的CPI基材层、环氧树脂层、第一五氧化二铌涂层、第一氧化硅涂层以及防污涂层。本实用新型专利技术的AR保护膜，通过在CPI基材层上涂覆环氧树脂层、第一五氧化二铌涂层、第一氧化硅涂层以及防污涂层，从而提升了AR保护膜的硬度、耐磨性以及UV附着力。耐磨性以及UV附着力。耐磨性以及UV附着力。

【技术实现步骤摘要】
AR保护膜


[0001]本技术是关于一种保护膜，特别是关于一种AR保护膜。

技术介绍

[0002]AR保护膜是目前市面上较好的一种屏幕保护贴。当选用CPI材料作为基材层时，整个产品的耐磨性能以及硬度较差。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种AR保护膜，其具有优秀的耐磨性、较高的硬度。
[0004]为实现上述目的，本技术提供了一种AR保护膜，包括依次层叠设置的CPI基材层、环氧树脂层、第一五氧化二铌涂层、第一氧化硅涂层以及防污涂层。
[0005]在一个或多个实施方式中，所述AR保护膜还包括设于第一氧化硅涂层和防污涂层之间的第二五氧化二铌涂层。
[0006]在一个或多个实施方式中，所述第二五氧化二铌涂层的厚度为105～115nm。
[0007]在一个或多个实施方式中，所述AR保护膜还包括设于第二五氧化二铌涂层和防污涂层之间的第二氧化硅涂层。
[0008]在一个或多个实施方式中，所述第二氧化硅涂层的厚度为85～95nm。
[0009]在一个或多个实施方式中，所述CPI基材层的厚度为23～250μm。
[0010]在一个或多个实施方式中，所述环氧树脂层的折射率为1.50～1.57，且厚度为2～3μm。
[0011]在一个或多个实施方式中，所述第一五氧化二铌涂层的厚度为13～17nm。
[0012]在一个或多个实施方式中，所述第一氧化硅涂层的厚度为25～35nm。
[0013]在一个或多个实施方式中，所述防污涂层的厚度为10～20nm。
[0014]与现有技术相比，根据本技术的AR保护膜，通过在CPI基材层上涂覆环氧树脂层、第一五氧化二铌涂层、第一氧化硅涂层以及防污涂层，从而提升了AR保护膜的硬度、耐磨性以及UV附着力。
附图说明
[0015]图1是根据本技术一实施方式的AR保护膜的示意图；
[0016]图2是根据本技术另一实施方式的AR保护膜的示意图；
[0017]图3是根据本技术一实施方式的AR保护膜的波长
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反射率的数据图。
[0018]主要附图标记说明：
[0019]1、CPI基材层；2、环氧树脂层；3、第一五氧化二铌涂层；4、第一氧化硅涂层；5、第二五氧化二铌涂层；6、第二氧化硅涂层；7防污涂层。
具体实施方式
[0020]下面结合附图，对本技术的具体实施方式进行详细描述，但应当理解本技术的保护范围并不受具体实施方式的限制。
[0021]除非另有其它明确表示，否则在整个说明书和权利要求书中，术语“包括”或其变换如“包含”或“包括有”等等将被理解为包括所陈述的元件或组成部分，而并未排除其它元件或其它组成部分。
[0022]如图1所示，根据本技术一实施方式的AR保护膜，包括依次层叠设置的CPI基材层、环氧树脂层、第一五氧化二铌涂层、第一氧化硅涂层以及防污涂层。
[0023]需要说明的是，CPI基材层的材质为CPI材料，即塑胶类无色聚酰亚胺(Colorless Polyimide；CPI)。CPI基材层为透明的。具体的可以为科隆C
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50
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0。
[0024]环氧树脂层也是透明的，且环氧树脂层还可以起到增强AR保护膜硬度的作用。环氧树脂层可以由环氧树脂涂覆形成，具体的，环氧树脂可以为日本荒川化工的CHT
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X1
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NS。
[0025]防污涂层可以由苏州瑞康真空科技有限公司研发的AF喷涂药液制得，AF喷涂药液的有效成份为一种特殊分子设计的氟硅高聚物。起到防污的作用。
[0026]如图2所示，一具体实施方式中，AR保护膜还包括设于第一氧化硅涂层和防污涂层之间的第二五氧化二铌涂层。
[0027]具体的，第二五氧化二铌涂层的厚度为105～115nm。
[0028]进一步的，AR保护膜还包括设于第二五氧化二铌涂层和防污涂层之间的第二氧化硅涂层。
[0029]具体的，第二氧化硅涂层的厚度为85～95nm。
[0030]具体的，CPI基材层的厚度为23～250μm。
[0031]具体的，环氧树脂层的折射率为1.50～1.57，且厚度为2～3μm。
[0032]具体的，第一五氧化二铌涂层的厚度为13～17nm。
[0033]具体的，第一氧化硅涂层的厚度为25～35nm。
[0034]具体的，防污涂层的厚度为10～20nm。
[0035]第一氧化硅涂层和第二氧化硅涂层可以均由二氧化硅涂覆形成。
[0036]下面将结合具体的实施例详细介绍本专利技术的AR保护膜。
[0037]实施例1
[0038]选择CPI材料(科隆C
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0)作为CPI基材层，CPI基材层的厚度为50μm；在CPI基材层上通过涂布工艺涂一层折射率1.52的CHT
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X1
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NS树脂，形成厚度为2μm的环氧树脂层；在环氧树脂层上镀膜一层折射率为nd＝2.3的Nb2O5，形成厚度为14nm的第一五氧化二铌涂层；在第一五氧化二铌涂层上镀一层镀层折射率为nd＝1.46的SiO2，形成厚度为27nm的第一氧化硅涂层；在第一氧化硅涂层再镀一层折射率为nd＝2.3的Nb2O5，形成厚度为113nm的第二五氧化二铌涂层；在第二五氧化二铌涂层上再镀一层镀层折射率为nd＝1.46的SiO2，形成厚度为88nm的第二氧化硅涂层；最后在第二氧化硅涂层上再喷AF喷涂药液形成厚度为15nm的防污涂层，得到本专利技术的AR保护膜。
[0039]实施例2
[0040]选择CPI材料(科隆C
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0)作为CPI基材层，CPI基材层的厚度为50μm；在CPI基材层上通过涂布工艺涂一层折射率1.52的CHT
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X1
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NS树脂，形成厚度为2μm的环氧树脂层；在
环氧树脂层上镀膜一层折射率为nd＝2.3的Nb2O5，形成厚度为14nm的第一五氧化二铌涂层；在第一五氧化二铌涂层上镀一层镀层折射率为nd＝1.46的SiO2，形成厚度为27nm的第一氧化硅涂层；在第一氧化硅涂层再镀一层折射率为nd＝2.3的Nb2O5，形成厚度为113nm的第二五氧化二铌涂层；在第二五氧化二铌涂层上再镀一层镀层折射率为nd＝1.46的SiO2，形成厚度为88nm的第二氧化硅涂层；最后在第二氧化硅涂层上再喷AF喷涂药液形成厚度为15nm的防污涂层，得到本专利技术的AR保护膜。经测试，本实施例的AR保护膜的性能与实施例1中的AR保护膜的性能相近。
[0041]实施例3
[0042]选择CPI材料(科隆C
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0)作为CPI基材层，CPI基材层的厚度为50μm；在CPI基材层上通过涂布工艺涂一层折射本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种AR保护膜，其特征在于，包括依次层叠设置的CPI基材层、环氧树脂层、第一五氧化二铌涂层、第一氧化硅涂层以及防污涂层。2.如权利要求1所述的AR保护膜，其特征在于，所述AR保护膜还包括设于第一氧化硅涂层和防污涂层之间的第二五氧化二铌涂层。3.如权利要求2所述的AR保护膜，其特征在于，所述第二五氧化二铌涂层的厚度为105～115nm。4.如权利要求2所述的AR保护膜，其特征在于，所述AR保护膜还包括设于第二五氧化二铌涂层和防污涂层之间的第二氧化硅涂层。5.如权利要求4所述的AR保护膜，其特征在于，所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡业新，王雪利，顾豪栋，
申请(专利权)人：江苏日久光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：