一种基于基体材料的微纳米转印材料及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种基于基体材料的微纳米转印材料，其组成包括：基材、纳米涂层组合物，所述纳米涂层组合物的制备原料包括：丙烯酸树脂、丙烯酸酯、助剂、含氟活性物质、光引发剂，得到的纳米涂层固化速度快、附着力好，硬度佳、通透性好，涂抹平整、光滑、有光泽度，同时赋予涂层优异的高水接触角，远高于现有技术，可以实现防指纹的功能，而且涂层的耐磨、耐磨、耐温稳定性好，具有柔和、高爽滑的手感，提升了该微纳米转印材料的使用感。此外，纳米涂层组合物为无溶剂体系，经济、绿色环保。而将其用于制备基于基体材料的微纳米转印材料的制备方法简单，加工成本低，适合大批量生产，可以广泛用于手机薄膜、装饰材料、TP麦拉等行业。TP麦拉等行业。

【技术实现步骤摘要】
一种基于基体材料的微纳米转印材料及其制备方法


[0001]本专利技术涉及的是微纳米转印材料的制备领域，C08J7/04，尤其涉及一种基于基体材料的微纳米转印材料及其制备方法。

技术介绍

[0002]微纳米转印技术为一种新型的微纳米加工技术，主要通过转印胶来简单、高效地制备具有微纳米结构纹理的器件。其中转印胶多为紫外光固化所得，在不同材料的基材表面，通过定制模具压印固化出具有镭射全息幻彩纹理、AG纹理、拉丝纹理、激光CD纹理、导光板AG扩散纹理等不同纹理效果，常将其用于电子设备表面，起到保护作用。但同时人们也会要求具有舒适的手感和高端的外观。而现有技术中主要通过添加爽滑助剂来降低摩擦系数，进而实现舒适手感和高耐磨的性能，通过尽可能提高水接触角来实现防指纹效果。但爽滑助剂的添加对其雾度、透光度等相关性能具有重要影响。
[0003]专利CN201610226513.3提供了一种LED
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UV固化的转印胶及其制备方法，包括改性环氧丙烯酸酯、脂肪族聚氨酯丙烯酸脂、特殊官能基丙烯酸酯、活性稀释剂、光引发剂、附着力促进剂，提高了转印本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于基体材料的微纳米转印材料，其特征在于，其组成包括：基材、纳米涂层组合物；所述纳米涂层组合物的制备原料包括：丙烯酸树脂、丙烯酸酯、助剂、含氟活性物质、光引发剂。2.如权利要求1所述的一种基于基体材料的微纳米转印材料，其特征在于，所述纳米涂层组合物的制备原料，按重量份计，包括：丙烯酸树脂25～70份、丙烯酸酯20～60份、助剂1～5份、含氟活性物质10～30份、光引发剂0.5～4份。3.如权利要求1或2所述的一种基于基体材料的微纳米转印材料，其特征在于，所述丙烯酸树脂选自聚氨酯丙烯酸树脂、含氟丙烯酸树脂、含氟聚氨酯丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂、环氧丙烯酸树脂、烯丙基酚醛树脂中的一种或多种。4.如权利要求1
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3任一项所述的一种基于基体材料的微纳米转印材料，其特征在于，所述丙烯酸树脂为聚氨酯丙烯酸树脂和环氧丙烯酸树脂；所述聚氨酯丙烯酸树脂和环氧丙烯酸树脂的重量份之比为(1～3)：1。5.如权利要求1所述的一种基于基体材料的微纳米转印材料，其特征在于，所述丙烯酸酯选自官能度为2～6的丙烯酸酯；所述丙烯酸酯选自三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、(2
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氧代
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1，1，3，3
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环戊烷四基)四(亚甲基)四丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、(2，4，6，8
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四甲基环四硅氧烷
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2，4，6，8
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四基)四(丙烷
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1，3
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二基)四丙烯酸酯、聚二季戊四醇五丙烯酸酯中的一种或多种。6.如权利要求5所述的一种基于基体材料的微纳米转印材料，其特征在于，所述丙烯酸酯为三羟甲基丙烷三...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭秀格，
申请(专利权)人：昆山惠士德新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：