【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种散热基材结构,应用于散热装置与中央处理器之间,以增加散热装置与中央处理器之间的贴合度,提高散热率。一般设置散热装置至中央处理器的方式是通过散热胶,使散热器的一面贴合于中央处理器的表面,但是因为目前中央处理器的运算能力日渐提高,所以散热胶的低导热率已不再能符合中央处理器的散热需求,因此市场上研发出一种新型的散热基材结构。这种新型的散热基材结构近似于散热胶的使用,且设置于散热装置10及中央处理器20间,请参见图3,这种散热基材结构大致上可分为两种结构如附图说明图1所示,其中一种结构是以铜板作为基板41,并在基板41的两面设置材料为具有高导热率性质的铟热传导层42,但是在使用时,因为中央处理器20有较高温度的区域,而此处的热传导层42会因高温而被镕融,且流向其它侧,所以在使用后,此处的热传导层42也就会变的较薄,甚至是消失,而无法使散热装置10与中央处理器20间有紧密的接触,所以这种散热基材结构并不适合重复使用,况且在散热基材结构被散热装置10及中央处理器20所夹置时,其受到两者的结合压力影响,所以热传导层42便会在熔融后,向受压较小处流动,并形成球 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。