一种阵列式异方性导电胶膜及其制备方法技术

本发明专利技术属于异方性导电胶技术领域，涉及一种阵列式异方性导电胶膜料及其制备方法。本发明专利技术公开了一种阵列式异方性导电胶膜，所述阵列式异方性导电胶膜中导电粒子规则分布，在阵列式异方性导电胶膜的横截面上，相邻两列导电粒子间的水平距离为3～10微米，相邻两行中导电粒子间的垂直距离为1～10微米；所述阵列式异方性导电胶膜的横截面上，有N行导电粒子，N≥2。本发明专利技术还公开了一种阵列式异方性导电胶膜的制备方法。的制备方法。的制备方法。

【技术实现步骤摘要】
一种阵列式异方性导电胶膜及其制备方法


[0001]本专利技术属于异方性导电胶
，涉及一种阵列式异方性导电胶膜料及其制备方法。

技术介绍

[0002]目前，异方性导电胶膜(ACF)的金属导电球/导电粒子在异方性导电胶层的分布多为随机分布，在应用于精密电极产品时，由于部分区域导电粒子密度过大，存在造成相邻电极短路的风险；同时，部分区域导电粒子密度过小，由于这区域粒子不足，造成电路阻抗偏大，或者开路，进而造成电路失效。因此需要寻找一种使导电粒子在异方性导电胶层中均匀分布的方式，以保证应用过程中的有效性和使用寿命。
[0003]中国专利申请文本(公开号：CN110277186A)公开了通过将若干个导电球在挖有凹槽的基膜表面自然滚动以填充凹槽；中国专利申请文本(公开号：TW201909359A)公开了将多个各向异性导电球均匀地分布并填充在空腔中，腔外的各向异性导电球被刮掉。即现有技术中已经公开了采用挖孔的方式控制导电球位置，但是存在过程繁复、效率低的问题。中国专利申请文本(公开号：CN109273143A)公开了一种将多个异向性导电球利用洒球机均匀分布到半圆形凹洞模具上，施以一负压而抓取异向性导电球；但是其无法保证每个凹洞有填有导电球，容易出现空腔的问题，且洒球机会造成导电球的浪费。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是针对现有技术存在的上述问题，提出了一种导电粒子的交错分布的阵列式异方性导电胶膜。
[0005]本专利技术的目的可通过下列技术方案来实现：
[0006]一种阵列式异方性导电胶膜，所述阵列式异方性导电胶膜中导电粒子规则分布，在阵列式异方性导电胶膜的横截面上，相邻两列导电粒子间的水平距离为3～10微米，相邻两行中导电粒子间的垂直距离为1～10微米；所述阵列式异方性导电胶膜的横截面上，有N行导电粒子，N≥2。
[0007]作为优选，所述阵列式异方性导电胶膜的横截面上，有2～6行导电粒子。
[0008]进一步优选，所述阵列式异方性导电胶膜的横截面上，有N行导电粒子，第N行中的导电粒子与第N
‑
1行中的导电粒子交错分布。
[0009]作为优选，阵列式异方性导电胶膜的厚度为10～65微米。
[0010]作为优选，导电粒子的直径为2～18微米。
[0011]作为优选，所述的阵列式异方性导电胶膜中导电粒子的含量为0.1％～5％。
[0012]作为优选，所述导电粒子从辊压机上辊轮上的梯形圆柱体小孔内移印到预制的异方性导电胶膜中。
[0013]本专利技术还公开了一种阵列式异方性导电胶膜的制备方法，所述的制备方法包括：将除导电粒子外的所有原料制成异方性导电胶涂布液，涂布后干燥，得预制的异方性导电
胶膜；将其通过传送带转移至辊压机，其上辊轮外表面设置有弹性层，弹性层表面开有小孔，小孔内有1～3个导电粒子，再通过移印的方式将在小孔内的导电粒子转移到预制的异方性导电胶膜中，再次干燥，待完全干燥后切割、收卷、包装。
[0014]作为优选，所述上辊轮有三层结构，内层为刚性轮层，中间层为储料层，外侧为弹性层；储料层中导电粒子分次传输至弹性层的小孔中。
[0015]进一步优选，所述弹性层与储料层开孔连通。
[0016]进一步优选，上辊轮中刚性轮层与马达连接，实现转动；储料层用于储存导电粒子。
[0017]作为优选，所述小孔的形状为梯形圆柱体，横截面为正等腰梯形。
[0018]相比于常规的半圆结构，本专利技术的梯形圆柱体更利于导电粒子的传输和移印。
[0019]进一步优选，所述圆柱体的开口端的直径为5～30微米，与开口端对应的另一端的直径为5～20微米，圆柱体的高度为5～20微米。
[0020]作为优选，所述弹性层上分布有2～50行小孔阵列，相邻两行交错分布。
[0021]作为优选，所述阵列式异方性导电胶膜的制备过程在一体机中进行，所述一体机包括涂布单元、第一烘干单元、移印单元、第二烘干单元，还包括传送单元；其中第一烘干单元包括第1、2、3节烘箱，第二烘干单元包括第4、5节烘箱。
[0022]进一步优选，进入移印单元前，预制的异方性导电胶膜为半固态，固含量为80～90％。
[0023]作为优选，所述上辊轮中的弹性层材料包括橡胶、聚氨酯中的一种或多种。
[0024]作为优选，上辊轮、下辊轮均为刚性结构，材料包括不锈钢。
[0025]与现有技术相比，本专利技术具有以下有益效果：
[0026]1、本专利技术的阵列式异方性导电胶膜中导电粒子阵列式均匀分布，且在其横截面上有大于等于2行的导电粒子，相邻两行导电粒子交错分布，保证后续应用时的导电性能，并降低短路率至0.01～0.03％。
[0027]2、本专利技术采用梯形圆柱体形状的小孔沉积、移印导电粒子，相比于常规的半圆结构，能够更好地保证导电粒子转移到异方性导电胶膜中设定的位置，还能避免导电粒子粘附在小孔中导致空腔的发生。
[0028]3、本专利技术采用一体机，通过流水线式的设备完成阵列式异方性导电胶膜的制备，制备过程简单高效，可规模化生产。
附图说明
[0029]图1为本专利技术实施例1所述的阵列式异方性导电胶膜的横截面的示意图。
具体实施方式
[0030]以下是本专利技术的具体实施例，对本专利技术的技术方案作进一步的描述，但本专利技术并不限于这些实施例。
[0031]如未做特殊说明，则本专利技术采用的技术方案为常规手段，不再赘述。
[0032]本专利技术采用一种一体机，包括涂布单元、第一烘干单元、移印单元、第二烘干单元，还包括传送单元；其中第一烘干单元包括第1、2、3节烘箱，第二烘干单元包括第4、5节烘箱。
[0033]将除导电粒子外的所有原料制成异方性导电胶涂布液，经涂布机将涂布液涂布于基材上，进入第一烘干单元干燥，得固含量为80～90％的预制的异方性导电胶膜；接着将预制的异方性导电胶膜经传送带传输至辊压机。
[0034]移印单元的辊压机包括不锈钢制成的上辊轮、下辊轮，上辊轮外表面还设置有厚度为30～50微米的弹性层，弹性层表面开有小孔，且相邻两行交错分布；小孔的形状为梯形圆柱体，横截面为正等腰梯形，所述圆柱体的开口端的直径为5～30微米，与开口端对应的另一端的直径为5～20微米，圆柱体的高度为5～20微米；
[0035]弹性层材料包括橡胶、聚氨酯中的一种或多种。
[0036]每个小孔内有1～3个导电粒子，导电粒子从上辊轮中的中间储料层分次传输至弹性层的小孔中；
[0037]保持下辊轮不动，转动上辊轮，将规则分布的小孔中的导电粒子通过移印的方式转移到预制的异方性导电胶膜中，重复2～6次，获得在垂直方向上(异方性导电胶膜横截面)，有2～6行导电粒子的阵列式异方性导电胶膜；
[0038]然后转动下辊轮，重复上述移印过程。
[0039]然后进入第二烘干单元，待阵列式异方性导电胶膜干燥后切割、收卷、包装。
[0040]实施例1
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阵列式异方性导电胶膜，其特征在于，所述阵列式异方性导电胶膜中导电粒子规则行布，在阵列式异方性导电胶膜的横截面上，相邻两列导电粒子间的水平距离为3～10微米，相邻两行中导电粒子间的垂直距离为1～10微米；所述阵列式异方性导电胶膜的横截面上，有N行导电粒子，N≥2。2.根据权利要求1所述的阵列式异方性导电胶膜，其特征在于，阵列式异方性导电胶膜的横截面上，有2～6行导电粒子。3.根据权利要求1所述的阵列式异方性导电胶膜，其特征在于，所述阵列式异方性导电胶膜的横截面上，有N行导电粒子，第N行中的导电粒子与第N
‑
1行中的导电粒子交错行布。4.根据权利要求1所述的阵列式异方性导电胶膜，其特征在于，阵列式异方性导电胶膜的厚度为10～65微米；导电粒子的直径为2～18微米。5.根据权利要求1所述的阵列式异方性导电胶膜，其特征在于，所述的阵列式异方性导电胶膜中导电粒子的含量为0.1％～5％。6.一种如...

【专利技术属性】
技术研发人员：钱建峰，吴飞翔，李佳莹，
申请(专利权)人：宁波连森电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：