图形的形成方法和图形形成装置、器件的制造方法、导电膜布线、光电装置及电子机器制造方法及图纸

一种图形形成方法，通过在基板（１１）上喷出液体材料的液滴来形成膜图形（Ｗ），具有第１工序，由液滴在基板（１１）上形成膜图形（Ｗ）的中央图形（Ｗ１）；第２工序，相对形成的中央图形（Ｗ１），在一侧形成第１侧部图形（Ｗ２）；和第３工序，相对中央图形（Ｗ１），在另一侧形成第２侧部图形（Ｗ３）。根据本发明专利技术的图形形成方法，可抑制凸出等故障产生并实现幅度拓宽。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种通过在基板上配置液体材料的液滴来形成膜图形的图形形成方法和图形形成装置、器件的制造方法、导电膜布线、光电装置及电子机器。
技术介绍
以前，多将光刻法用作半导体集成电路等具有细微布线图形(膜图形)的器件的制造方法，但使用液滴喷出法的器件的制造方法被注目。该液滴喷出法具有液体材料的浪费少，容易进行配置在基板上的液体材料的量或位置的控制等优点。下述专利文献中公开了关于液滴喷出法的技术。专利文献1特开平11-274671号公报专利文献2特开2000-216330号公报但是，在以液体材料作为液滴配置在基板上的技术中，存在难以拓宽膜图形的幅度的问题。即，以膜图形的幅度拓宽为目的扩大一个液滴的体积或增多配置在基板上的液体材料整体的量时，产生积液(凸出)，担心这会成为断路或短路等故障的产生原因。
技术实现思路
本专利技术鉴于上述问题而完成的，其目的在于提供一种可抑制凸出等故障产生并实现幅度拓宽的图形形成方法及图形形成装置、器件的制造方法。另外，本专利技术的目的在于提供幅度宽而有利于电传导的导电膜布线，并提供一种难以产生布线部的断路或短路等故障的光电装置及使用其的电子机器。为了解决上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种图形形成方法，通过在基板上配置液体材料的液滴来形成膜图形，其特征在于：具有第１工序，由所述液滴在所述基板上形成所述膜图形的中央部；第２工序，相对所述形成的中央部形成一方侧部；和第３工序，相对所述形成的中央部形成另 一方侧部。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：平井利充，长谷井宏宣，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]