具有薄膜元件和薄膜图形的薄膜器件、及其制造方法技术

本发明专利技术涉及薄膜器件，该薄膜器件由形成在基板上的多个薄膜元件、覆盖这些薄膜元件而形成的透明绝缘膜、形成在该透明绝缘膜上的基底膜、及进而在其上形成的具有导电性的薄膜构成。上述基底膜由３层绝缘膜构成，该绝缘膜在上述透明绝缘膜的表面通过粘合、曝光、蚀刻来依次层叠具有感光性的干膜而形成。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在基板上形成有薄膜元件和其表面上具有薄膜图形 的薄膜器件及其制造方法。
技术介绍
在基板上设有薄膜晶体管或光传感器等薄膜元件的薄膜器件中， 在上述薄膜元件的表面，防止带电、或检测静电用的导电膜等薄膜图 形形成在基底膜上，该基底膜用于保护上述薄膜元件、且用于支持形 成在上层的薄膜图形。例如，在日本特开2003 — 91510号公报中所示的指纹认正装置 中，在构成光传感器的晶体管和表面静电去除电极之间设有绝缘保护 膜。该绝缘保护膜保护上述晶体管，并成为支持薄膜图形的静电去除 电极的基底膜。上述指纹认正装置中的静电去除电极膜由透明电极形成，其膜厚 薄到几百A到几千A左右。上述绝缘保护膜为了保护上述晶体管厚 到足够的厚度，例如其膜厚为从几pm到几十(im。上述静电去除电 极膜至少在上述晶体管的形成区域的周边区域被构图成预定的形状。 因此，在上述绝缘保护膜上形成的薄的静电去除电极膜不能追随上述 绝缘保护膜的从几到几十pm的膜厚部分的台阶，从而发生未被 覆盖的所谓台阶缺口 (段切tl)部。另外，为了通过光刻构图成规定的形状的图形，当使光致抗蚀剂 覆盖静电去除电极膜时，难以使光致抗蚀剂追随上述台阶来覆盖，从 而发生因光致抗蚀剂的脱落而引起的构图不良。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供一种降低设置在薄膜元件的上层的薄膜 图形发生的缺陷、合格率及可靠性高的薄膜器件及其制造方法。采用该专利技术的第l观点的薄膜器件，其特征在于，由如下构成-形成有薄膜元件的基板；基底膜，由至少一层绝缘膜构成，该绝缘膜配置在上述基板的薄 膜元件的上侧，通过由感光性树脂材料构成的薄膜的粘合、曝光及蚀刻而形成为预定的形状；及薄膜图形，在上述基底膜上形成为预定的形状。另外，采用该专利技术的第2观点的指纹检测器件，其特征在于，具备基板，形成有用于检测被检验者的指纹的多个光传感器和覆盖这 些光传感器的透明绝缘膜；基底膜，由多个绝缘膜构成，该多个绝缘膜通过由感光性树脂构 成的干膜分别形成为预定的形状，并分别层叠成大小相互不同、且端 面相互不一致，上述预定的形状包括在上述基板上形成的上述透明绝 缘膜上的与上述光传感器对应的部分；及静电保护膜，由透明导电膜构成，该透明导电膜在上述基底膜和 上述基板上的上述透明绝缘膜上被形成为预定的图形。进而，采用该专利技术的第3观点的薄膜器件的制造方法，其特征在 于，具备准备形成有薄膜元件的基板的工序；形成基底膜的工序，该基底膜由至少一层绝缘膜构成，该绝缘膜 在上述基板的上述薄膜元件的上侧粘合有由感光性树脂材料构成的 至少一个薄膜，并通过曝光及蚀刻而形成为预定的形状；及 在上述基底膜上将薄膜图形形成为预定的形状的工序。 若采用本专利技术的薄膜器件基板，可以降低设置在薄膜元件的上层的薄膜图形发生的缺陷，得到可靠性高的薄膜器件。另外，在本专利技术的薄膜器件基板的制造方法中，降低在薄膜元件 的上层设置的薄膜图形发生的缺陷，在不增加工时的情况下能够容易 地制造合格率及可靠性高的薄膜器件。附图说明图1是局部放大表示作为本专利技术的第1实施例的指纹认正装置的 示意剖面图。图2A 2D是分别示出作为上述第1实施例的指纹认正装置的制造方法中的层叠基底膜的第1层的工艺的工序说明图。图3A 3D是分别示出作为上述第1实施例的指纹认正装置的制 造方法中的层叠基底膜的第2层的工艺的工序说明图。图4A 4D是分别示出作为上述第1实施例的指纹认正装置的制 造方法中的层叠基底膜的第3层的工艺的工序说明图。图5是局部放大表示作为本专利技术的第2实施例的指纹认正装置的示意剖面图。图6A 6D是分别示出作为上述第2实施例的指纹认正装置的制 造方法中的层叠基底膜的第1层的工艺的工序说明图。图7A 7D是分别示出作为上述第2实施例的指纹认正装置的制 造方法中的层叠基底膜的第2层的工艺的工序说明图。图8A 8D是分别示出作为上述第2实施例的指纹认正装置的制 造方法中的层叠基底膜的第3层的工艺的工序说明图。具体实施方式 (第1实施例)图1是局部放大示出作为本专利技术的第1实施例的指纹认正装置的 示意剖面图，图2A 2D乃至图4A 4D是分别示出该指纹认正装置的制造工序的工序说明图。本实施例的指纹认正装置如图1所示那样构成。即，在设置有未 图示的电极布线的玻璃基板1上，多个光传感器2矩阵状地排列在预定的位置。覆盖这些光传感器2均匀地形成有透明绝缘膜3。在该透 明绝缘膜3的表面，层叠3层干膜4a、 4b、 4c而形成的基底膜4与 光传感器2的排列区域对应地设置成规定的图形。而后，从构成该3 层结构的基底膜4的图形上遍及其外侧，形成有静电保护用透明电极 5，并构图成预定形状的图形。透明绝缘膜3由氮化硅(SiN)构成，利用例如CVD (Chemical Vapor Deposition,化学气相沉积)法覆盖光传感器2，在玻璃基板1 表面均匀地形成。为了防止基板1的电极布线间或它们与静电保护用 透明电极5之间等的短路而设置有该透明绝缘膜3。基底膜4不仅作为支持静电保护用透明电极5的基底设置，还作 为加强或防止光传感器2的配设区域的劣化的保护层设置。使用相同 的感光性树脂材料以相同的厚度t形成了构成该基底膜4的3层干膜 4a、 4b、 4c。在本实施例中使用的感光性树脂材料是将透明性优良的 丙烯树脂作为基础聚合物，在其中混合聚合性单体、光聚合开始剂等 添加剂来调制，使照射光的部分固化而残留的负片型材料。层叠成3层的3片干膜4a、 4b、 4c中的第l层的第l干膜4a， 在透明绝缘膜3的表面形成预定的规定图形。在该第1干膜4a上， 至少覆盖其表面和端面而层叠有第2层的第2干膜4b。该第2干膜 4b的覆盖第1干膜4a的端面的端部41b由沿着第1干膜4a的端面的 立起部411b、和沿着绝缘膜3的表面仅延伸出尺寸L的延出部412b 构成。该延出尺寸L形成为比干膜的厚度t的值长的尺寸。然后，同样地覆盖其第2干膜4b的表面和端面，层叠第3层的 第3干膜3c。该第3干膜的覆盖第2干膜的端部41b的端部41c形成 为阶梯状，该阶梯状对应于干膜的层叠片数形成并具备与其相同数量的3个台阶。在此，形成的各台阶的高度大致等于对应的干膜的厚度， 在本实施例中，由于3片干膜4a、 4b、 4c形成为相同的厚度t，因此 各台阶的大小g也大致等于各干膜4a 4c的厚度t。从基板1上的形成第3干膜4c的区域遍及其外侧设置有静电保 护用透明电极5。为了去除放置在基底膜4上的指纹提取区域的手指 上所带的静电而设置有该静电保护用透明电极5。在此，静电保护用透明电极5通过对由ITO (indium tin oxide， 铟锡氧化物)等透明导电材料构成的厚度为几百A到几千A左右薄 膜进行光刻构图而形成。在本实施例中，如上所示，由于基底膜4的 端面形成为由大小都相等的3个台阶构成的阶梯状，因此利用减小的 各个台阶，不发生台阶缺口并能够使其追随薄的透明导电膜而 均匀容易地形成。另外，通过光刻对均匀地形成有透明导电膜进行构图作为静电保 护用透明电极5时，在透明导电膜上形成光致抗蚀剂，但由于该透明 导电膜表面的台阶也是与形成在第3干膜4c表面的阶梯状台阶大致 相等的台阶，因此能够容易使光致抗蚀剂追随各台阶均匀地形成。其 结果，不发生台阶本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜器件，其特征在于，包括：形成有薄膜元件的基板；基底膜，由至少一层绝缘膜构成，该绝缘膜配置在上述基板的薄膜元件的上侧，通过由感光性树脂材料构成的薄膜的粘合、曝光及蚀刻而形成为预定的形状；及薄膜图形，在上述基底膜上形成为预定的形状。

【技术特征摘要】
JP 2006-6-30 180760/20061.一种薄膜器件，其特征在于，包括形成有薄膜元件的基板；基底膜，由至少一层绝缘膜构成，该绝缘膜配置在上述基板的薄膜元件的上侧，通过由感光性树脂材料构成的薄膜的粘合、曝光及蚀刻而形成为预定的形状；及薄膜图形，在上述基底膜上形成为预定的形状。2. 如权利要求1所述的薄膜器件，其特征在于，上述基底膜由 依次层叠的绝缘膜构成，该绝缘膜通过由感光性树脂材料构成的多个 干膜的层叠膜形成，并依次层叠成各层的各干膜具有不同的大小、且 端面相互不一致。3. 如权利要求2所述的薄膜器件，其特征在于，在形成上述基 底膜的多个层的各绝缘膜中，上述基板侧的下层绝缘膜的面积比上层 绝缘膜小，覆盖上述下层绝缘膜而层叠了上层绝缘膜。4. 如权利要求2所述的薄膜器件，其特征在于，在形成上述基 底膜的多个层的各绝缘膜中，基板侧的下层绝缘膜的面积比上层绝缘 膜大，在上述下层绝缘膜上层叠了上层绝缘膜。5. 如权利要求4所述的薄膜器件，其特征在于，上述基底膜的 多个绝缘膜被去除了基板侧的下层绝缘膜端面的边缘部。6. 如权利要求l所述的薄膜器件，其特征在于， 在上述基板上形成有用于检测被检验者的指纹的多个光传感器和覆盖这些光传感器的透明绝缘膜；上述基底膜由形成在上述透明绝缘膜上的、实质上透明的多个干 膜的层叠膜形成；上述薄膜图形由在上述基底膜上形成为规定图形的透明导电膜 构成，并形成被检验者的手指与表面接触的静电保护膜。7. —种指纹检测装置，其特征在于，具备基板，形成有用于检测被检验者的指纹的多个光传感器和覆盖这些光传感器的透明绝缘膜；基底膜，由多个绝缘膜构成，该多个绝缘膜通过由感光性树脂构 成的干膜分别形成为预定的形状，并分别层叠成大小相互不同、且端 面相互不一致，上述预定的形状包括在上述基板上形成的上述透明绝缘膜上的与上述光传感器对应的部分；及静电保护膜，由透明导电膜构成，该透明导电膜在上述基底膜和 上述基板上的上述透明绝缘膜上被形成为预定的图形。8. 如权利要求7所述的指纹检测器件，其特征在于，在上述基 底膜的多个绝缘膜中，基板侧的下层绝缘膜的面积比上层绝缘膜小， 并覆盖上述下层绝缘膜而层叠了上层绝缘膜。9. 如权利要求7所述的指纹检测器件，其特征在于，在上述基 底膜的多个绝缘膜中，基板侧的下层绝缘膜的面积比上层绝缘膜大， 在上述下层绝缘膜上层叠上层绝缘膜。10. 如权利要求9所述的指纹检测器件，其特征在于，上述基底膜的多个绝缘膜被去除了基板侧的下层绝缘膜端面的边缘部。11. 一种薄膜器件的制造方法，其特征在于，具备 准备形成有薄膜元件的基板的工序；形成基底膜的工序，...

【专利技术属性】
技术研发人员：腰塚靖雄，
申请(专利权)人：卡西欧计算机株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]