【技术实现步骤摘要】
一种清洗光伏生产用石墨舟的微波等离子体干法刻蚀工艺
[0001]本专利技术涉及光伏太阳能电池生产工艺过程中的石墨舟清洗,具体涉及一种清洗光伏生产用石墨舟的微波等离子体干法刻蚀工艺。
技术介绍
[0002]在目前的太阳能硅基电池的生产过程中,广泛地使用了PECVD工艺(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)来沉积各种工艺薄膜,即等离子体增强化学的气相沉积法。其中PECVD工艺按照不同的沉积薄膜又分为:1)常规的电池表面的减反射膜即氮化硅薄膜(SiNx);2)PERC电池(Passivated Emitter and Rear Cell),意思是"钝化发射器和后部接触"的太阳能电池中的三氧化二铝(Al2O3)和氮化硅(SiNx)的复合薄膜或氮氧化硅(SiNO)薄膜;3)TOPcon(隧穿氧化层钝化接触,Tunnel Oxide Passivated Contact)太阳能电池中的非晶薄膜。
[0003]在PECVD的使用中,用到了石墨舟作为工装载具。石墨舟主要起到的作用是乘载 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种清洗光伏生产用石墨舟的微波等离子体干法刻蚀工艺,其特征在于,对内置有石墨舟的工艺腔体输入经远程微波等离子体系统作用产生的等离子体,并对工艺腔体内的石墨舟施加由射频电源产生的交变电场,通过交变电场驱动等离子体轰击石墨舟,实现清除石墨舟上沉积的薄膜。2.根据权利要求1所述的清洗光伏生产用石墨舟的微波等离子体干法刻蚀工艺,其特征在于,所述远程微波等离子体系统包括依次连接的直流电源、微波功率源、波导组件、隔离器、波导组件、等离子体腔;所述等离子体由工艺气体经等离子体腔时产生;所述工艺气体由供气系统供应;供气系统通过供气管路与工艺腔体连接;供气管路上设有气体流量控制器;且等离子体腔也设置在供气管路上;所述工艺腔体还配有真空抽气系统、氮气回填系统、压力控制系统、中央控制系统和尾气处理系统。3.根据权利要求2所述的清洗光伏生产用石墨舟的微波等离子体干法刻蚀工艺,其特征在于,所述微波功率源为2.45GHZ的微波功率源。4.根据权利要求2所述的清洗光伏生产用石墨舟的微波等离子体干法刻蚀工艺,其特征在于,所述工艺腔体中还设有:用于放置石墨舟的绝缘板;所述石墨舟放置在绝缘板上;所述射频电源直接作用在石墨舟电极孔上。5.根据权利要求4所述的清洗光伏生产用石墨舟的微波等离子体干法刻蚀工艺,其特征在于,所述直接作用在石墨舟电极孔上的射频电源,为40K...
【专利技术属性】
技术研发人员:陆银川,穆亚琦,
申请(专利权)人:常州阿普智能科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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