一种UV曝光光刻及纳米压印的袖珍型复合箱制造技术

本实用新型专利技术公开了一种UV曝光光刻及纳米压印的袖珍型复合箱；包括下箱体和上箱体；上箱体的内腔中从下到上依次设置有UV透明隔离膜、透明耐压板和UV曝光灯；下箱体的内腔的上部滑动设置有支撑板，下箱体的内腔的下端设置有微型加压器，支撑板的顶部从下到上依次设置有基材片、图形模板/压模；支撑板的内部设置有加热结构；下箱体的一侧外壁设置有便于将工作腔抽真空的抽气接头。本实用新型专利技术通过在上箱体中设置UV透明隔离膜和UV曝光灯，使其具有UV光刻功能；通过在上箱体中设置透明耐压板和在下箱体中设置具有电加热功能的支撑板及微型加压器，使其具有纳米压印机的功能；对于真正解决一机多用和降低价格具有重要意义。决一机多用和降低价格具有重要意义。决一机多用和降低价格具有重要意义。

【技术实现步骤摘要】
一种UV曝光光刻及纳米压印的袖珍型复合箱


[0001]本技术涉及UV光刻微米和亚微米以及纳米压印图形
，具体涉及一种UV曝光光刻及纳米压印的袖珍型复合箱。

技术介绍

[0002]半导体纳米及微米器件在当今的科技及通讯设备中使用的越来越普遍了，尤其是在5G、6G及智能高科技设备中；目前主要有UV光刻机或纳米压印机被广泛地应用于半导体器件、芯片及PCB板上进行快速大面积的纳米及微米图形的制作。现有的市场上UV光刻机及纳米压印机的功能单一，一般的UV及DUV光刻机只能对光刻胶曝光微米及亚微米图形，而纳米压印机缺少对光刻胶进行UV曝光的功能，UV光刻及纳米压印复合机种类很少或者体型大(不能方便携带)或者两功能箱体分离，因此它们适用的范围及应用都受局限。并且这些设备(除了小型的纳米压印机)几乎都还存在笨重、价格昂贵、以及需要安装在洁净室中等问题。另外EUV光刻机诚然可以曝光到纳米图形，但是它的价格更是非常昂贵，可以达到数十亿美元。
[0003]针对上述问题，为了克服目前此UV光刻机及纳米压印机两种设备不可互补性的情形，设计一种具有UV光刻及纳米压印功能的曝光箱，使其具有UV光刻微米图形及纳米压印纳米图形的复合功能，同时，也使其具有体积小、重量轻、价格低、可方便携带等，这对于真正解决一机多用和降低价格具有重要意义。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本技术的目的在于提供一种UV曝光光刻及纳米压印的袖珍型复合箱，通过在上箱体中设置UV透明隔离膜、UV透明耐压板和UV曝光灯，使其具有UV光刻微米及亚微米图形的功能；通过在上箱体中设置透明耐压板和在下箱体中设置具有电或电磁感应加热功能的支撑板及微型加压器，使其放在下箱体工作腔内的图形压模及涂有纳米压印胶的基材片进行加压加热固化或UV固化，使具有纳米压印机的功能；此袖珍型复合箱结构简单，整个复合箱体外加所有附属控制设备可以放入一个标准的实验室抽风厨内，所以这对于真正解决一机多用和降低价格使其小型实验室大众普及化具有重要意义。
[0005]本技术通过以下技术方案实现：
[0006]一种UV曝光光刻及纳米压印的袖珍型复合箱，包括下箱体和可开合的设置在所述下箱体上的上箱体；
[0007]所述上箱体的内腔中从下到上依次设置有UV透明隔离膜、透明耐压板和UV曝光灯；
[0008]所述下箱体的内腔的上部滑动设置有支撑板，所述下箱体的内腔的下端设置有便于滑动所述支撑板的微型加压器，所述支撑板的顶部从下到上依次设置有基材片、UV图形模板/压模；所述支撑板的内部设置有加热结构；所述支撑板将所述下箱体的内腔分隔为上部的工作腔和下部的容纳腔；
[0009]所述下箱体的一侧外壁设置有便于将工作腔抽真空的抽气接头。
[0010]进一步的；所述微型加压器为步进电马达缸、液压缸或气缸。
[0011]进一步的；所述透明耐压板采用UV透明的钢化玻璃或其它耐压玻璃制造。
[0012]进一步的；所述UV曝光灯的波长范围为200nm～400nm、频率为375THz～
[0013]750THz、光子能量为3eV～8eV。
[0014]进一步的；所述下箱体与所述上箱体间设置有密封环。
[0015]进一步的；所述加热结构为电加热盘或电磁感应加热器。
[0016]本技术的有益效果在于：通过在上箱体中设置UV透明隔离膜、UV透明耐压板和UV曝光灯，使其具有UV光刻微米及亚微米图形的功能；通过在上箱体中设置透明耐压板和在下箱体中设置具有电加热功能的支撑板及微型加压器，使其放在下箱体工作腔内的图形压模及涂有纳米压印胶的基材片进行加压加热固化或UV固化，使其具有纳米压印机的功能；对于真正解决一机多用和降低价格具有重要意义。
附图说明
[0017]图1为本技术UV曝光光刻及纳米压印的袖珍型复合箱的内部结构示意图。
具体实施方式
[0018]为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和显示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0019]因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
[0021]在本技术的上述描述中，需要说明的是，术语“一侧”、“另一侧”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、而以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0022]此外，术语“相同”等术语并不表示要求部件绝对相同，而是可以存在微小的差异。术语“垂直”仅仅是指部件之间的位置关系相对“平行”而言更加垂直，并不是表示该结构一定要完全垂直，而是可以稍微倾斜。
[0023]如图1所示，一种UV光刻及纳米压印的复合曝光箱，包括下箱体1和可开合的设置在下箱体1上的上箱体2；
[0024]上箱体2的内腔中从下到上依次设置有UV透明隔离膜22、透明耐压板21和UV曝光
灯23；
[0025]下箱体1的内腔的上部滑动设置有支撑板11，下箱体1的内腔的下端设置有便于滑动支撑板11的微型加压器12，支撑板11的顶部从下到上依次设置有基材片4、图形模板/压模3；支撑板11的内部设置有加热结构；支撑板11将下箱体的内腔分隔为上部的工作腔和下部的容纳腔；
[0026]下箱体11的一侧外壁设置有便于将工作腔抽真空的抽气接头13，便于通过管道连接真空泵；
[0027]工作时，将基材片放置在支撑板上，然后将二维图形UV模板放置在基材片的上端，合上上箱体，启动微型加压器使二维图形模板紧贴基材片，开启UV曝光灯，UV光透过图形模板对基材片上涂敷的光刻胶进行曝光后，拿出基材片进行化学冲洗后，就得到在基材片上的三维微米或亚微米图形；将三维图形压模放置在基材片的顶面部上，合上上箱体，开启微型加压器使三维图形模板紧贴基材片，开启真空泵抽出下箱体的工作腔内的空气，使工作腔达到所需要的真空度；再次开启微型加压器向上移动支撑板使将三维图形压模上的三维图形压入基材片上涂敷的压印胶，开启支撑板里的加热器或者UV曝光灯对基材片上的压印胶三维图形进行固化，然后泄去工作腔的真空，打开上箱体，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种UV曝光光刻及纳米压印的袖珍型复合箱，其特征在于：包括下箱体和可开合的设置在所述下箱体上的上箱体；所述上箱体的内腔中从下到上依次设置有UV透明隔离膜、透明耐压板和UV曝光灯；所述下箱体的内腔的上部滑动设置有支撑板，所述下箱体的内腔的下端设置有便于滑动所述支撑板的微型加压器，所述支撑板的顶部从下到上依次设置有基材片、图形模板/压模；所述支撑板的内部设置有加热结构；所述支撑板将所述下箱体的内腔分隔为上部的工作腔和下部的容纳腔；所述下箱体的一侧外壁设置有便于将工作腔抽真空的抽气接头。2.根据权利要求1所述的一种UV曝光光刻及纳米压印的袖珍型复合箱，其特征在于：所述微型加压器为步进电...

【专利技术属性】
技术研发人员：宗宝玉，张治国，何彬，宗芸玉，
申请(专利权)人：宗芸玉，
类型：新型
国别省市：