一种PVD拉丝产品的表面处理工艺制造技术

本发明专利技术申请提供了一种PVD拉丝产品的表面处理工艺，运用于PVD镀膜技术领域，包括包括以下步骤：S1、对产品表面进行喷砂处理，产品处理后进行清洗烘干，然后置入加热炉中进行加热，加热炉温度控制在40℃～50℃，加热完成后，将产品置入压力容器中进行表面中和处理，处理后再次进行清洗烘干备用；本申请采用多弧离子镀膜法和磁控溅射离子法两种真空镀膜方式的结合，分别为产品镀上铬膜和氧化皓膜，其中多弧离子镀膜法为化学镀镍后的产品表面形成一层铬膜，与产品表面贴合力良好，然后通过磁控溅射离子法为产品再镀上一层氧化皓膜，而氧化皓膜整体颗粒细腻致密，颗粒小，因此提高了产品的美观度，既提高了产品质量。既提高了产品质量。

【技术实现步骤摘要】
一种PVD拉丝产品的表面处理工艺


[0001]本申请涉及PVD镀膜
，特别涉及一种PVD拉丝产品的表面处理工艺。

技术介绍

[0002]PVD技术是指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。目前PVD技术主要分为三类：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。
[0003]PVD拉丝产品是指产品经过拉丝，通过PVD真空镀膜后形成最终产品，PVD镀膜相比于电镀、热处理和化学渡法等，其成型的产品光泽度好，耐磨性高，抗腐蚀性优良，提高了产品品质和使用寿命。而PVD镀膜方式的选择与产品类型和靶材相关，目前常见的金属五金件表面装饰镀膜多采用离子镀膜方式，如专利号201210235403.5公开的PVD拉丝产品的表面处理工艺，包括以下步骤：1)抛光：对基材表面进行抛光处理；2)电镀镍：将抛光后的基材表面进行电镀镍；3)拉丝：将电镀后的基材表面进行拉丝处理；4)PVD镀铬：将处理后的基材置于PVD真空炉内，采用多弧离子镀膜法在基材表面镀铬层；5)镀PVD膜：继续采用多弧离子镀膜法在基材的铬层表面上镀装饰膜层，其步骤4)和步骤5)均采用单一的多弧离子镀膜，多弧离子镀膜的主要原理是基于冷阴极真空弧光放电理论 ，点燃真空电弧后，阴极靶材表面上出现一些不连续、大小和形状多样、明亮的斑点,它们在阴极表面迅速地做不规则的游动,一些斑点熄灭时又有些斑点在其他部位形成，维持电弧的燃烧。阴极斑点的电流密度达104~105A/cm2,并且以1000m/s的速度发射金属蒸气，其中每发射10个电子就可发射1个金属原子,然后这些原子再被电离成能量很高的正离子（如Ti+）,正离子在真空室内运行时与其他离子结合（如与N～形TiN），沉积在工件表面形成涂层，其虽然具有结合力良好的优势，但是针孔多，且颗粒大，因此会影响产品表面的美观性，同时产品结构复杂时，会影响产品的镀膜效果，鉴于此，本申请提出一种PVD拉丝产品的表面处理工艺。

技术实现思路

[0004]本申请的目的是提供一种PVD拉丝产品的表面处理工艺，旨在解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本申请提供如下技术方案：本申请提供一种PVD拉丝产品的表面处理工艺，包括以下步骤：S1、对产品表面进行喷砂处理，产品处理后进行清洗烘干，然后置入加热炉中进行加热，加热炉温度控制在40℃～50℃，加热完成后，将产品置入压力容器中进行表面中和处理，处理后再次进行清洗烘干备用；S2、将步骤S1中的产品置入化学池中进行化学镀镍，其中镀镍时间15min～25min，镀镍液PH为4～4.8，温度为80℃～95℃，镀镍结束后，对产品进行清洗处理备用；S3、将镀镍后产品表面进行拉丝处理；S4、将步骤S3中的产品放入PVD真空炉内，采用多弧离子镀膜法在产品表面镀铬层；
S5、经步骤S4获得产品放入至PVD真空炉内，采用磁控溅射离子法在产品表面镀氧化锆膜层。
[0006]进一步地，所述步骤S1中，采用硼砂对产品表面进行处理，其中硼砂的粒径小于120nm，且经喷砂处理后的清洗为去油剂浸泡洗结合清水冲洗两种清洗方式。
[0007]进一步地，所述步骤S1中酸碱中和后的清洗与步骤S2中镀镍结束后的清洗均为超声波清洗，其中步骤S1的超声波清洗的声波频率为70HZ～90HZ，步骤S2的超声波清洗的声波频率为130HZ～150HZ。
[0008]进一步地，当步骤S1和S2中的产品经超声波清洗后，在120℃～140℃的高温烘烤箱中烘烤10min～15min。
[0009]进一步地，所述步骤S4中，当产品位于PVD真空炉后，需先对产品进行烘烤，烘烤温度为150℃～190℃，然后进行离子轰击清洗，冲洗时长为3min～5min，真空环境为6
×
10
‑1Pa—7
×
10
‑1Pa，偏压电源电压为200V～300V，占空比设置为60％～80%。
[0010]进一步地，所述步骤S4中，工作气体为氩气，氩气流速为70～150Sccm，铬靶弧电流为80A～100A，电压为40V～50V，沉积时间6min～8min，偏压100～250V，占空比60%～70%，靶材为圆柱铬靶。
[0011]进一步地，所述步骤S5中，溅射气体为氧气，氧气流量为300Sccm～350Sccm，中频电源电流设定为15A～25A，靶材为圆柱锆靶，镀膜温度为150
‑
200℃，镀膜时间为3min～8min，占空比为40%～80%，电压为200V～600V。
[0012]本申请提供了一种PVD拉丝产品的表面处理工艺，具有以下有益效果：本申请采用多弧离子镀膜法和磁控溅射离子法两种真空镀膜方式的结合，分别为产品镀上铬膜和氧化皓膜，其中多弧离子镀膜法为化学镀镍后的产品表面形成一层铬膜，与产品表面贴合力良好，然后通过磁控溅射离子法为产品再镀上一层氧化皓膜，而氧化皓膜整体颗粒细腻致密，颗粒小，因此提高了产品的美观度，既提高了产品质量，因此本申请提高产品镀膜的充分性，保证形成的镀膜层具有更好的致密性。
具体实施方式
[0013]应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。
[0014]下面将结合本申请实施例对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0015]本申请提出的一种PVD拉丝产品的表面处理工艺，包括以下步骤：S1、对产品表面进行喷砂处理，产品处理后进行清洗烘干，然后置入加热炉中进行加热，加热炉温度控制在40℃～50℃，加热完成后，将产品置入压力容器中进行表面中和处理，处理后再次进行清洗烘干备用；步骤S1中，采用硼砂对产品表面进行处理，其中硼砂的粒径小于120nm，且经喷砂处理后的清洗为去油剂浸泡洗结合清水冲洗两种清洗方式；本申请中，产品针对的是五金产品，产品材质可以为铜、不锈钢等，其中采用喷砂处理的方式对产品表面进行清洁和获得一定的粗糙度，目的是为了后面镀膜时，增加了产
品和涂层之间的附着力，延长了涂膜的耐久性，当然也可以提高工件表面的机械性能，而为了避免产品表面粗糙度过大，因此选用粒径小于120nm的硼砂，且部分硼砂还可以渗入产品的间隙内，其中本申请中的中和处理是指在碱性环境下进行酸性中和，且整个中和在压力容器中进行，其中碱性环境为强碱溶液的雾化环境，这样经过处理后，可以得到初步产品。
[0016]S2、将步骤S1中的产品置入化学池中进行化学镀镍，其中镀镍时间15min～25min，镀镍液PH为4～4.8，温度为80℃～95℃，镀镍结束后，对产品进行清洗处理备用；步骤S2为常规的化学镀镍工艺，但步骤S1中酸碱中和后的清洗与步骤S2中镀镍结束后的清洗均为超声波清洗，其中步骤S1的超声波清洗的声波频率为70HZ～90HZ，步骤S2的超声波清洗的声波频率为130本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种PVD拉丝产品的表面处理工艺，其特征在于，包括以下步骤：S1、对产品表面进行喷砂处理，产品处理后进行清洗烘干，然后置入加热炉中进行加热，加热炉温度控制在40℃～50℃，加热完成后，将产品置入压力容器中进行表面中和处理，处理后再次进行清洗烘干备用；S2、将步骤S1中的产品置入化学池中进行化学镀镍，其中镀镍时间15min～25min，镀镍液PH为4～4.8，温度为80℃～95℃，镀镍结束后，对产品进行清洗处理备用；S3、将镀镍后产品表面进行拉丝处理；S4、将步骤S3中的产品放入PVD真空炉内，采用多弧离子镀膜法在产品表面镀铬层；S5、经步骤S4获得产品放入至PVD真空炉内，采用磁控溅射离子法在产品表面镀氧化锆膜层。2.根据权利要求1所述的一种PVD拉丝产品的表面处理工艺，其特征在于，所述步骤S1中，采用硼砂对产品表面进行处理，其中硼砂的粒径小于120nm，且经喷砂处理后的清洗为去油剂浸泡洗结合清水冲洗两种清洗方式。3.根据权利要求1所述的一种PVD拉丝产品的表面处理工艺，其特征在于，所述步骤S1中酸碱中和后的清洗与步骤S2中镀镍结束后的清洗均为超声波清洗，其中步骤S1的超声波清洗的声波频率为70HZ～90HZ，步骤S2的超声波清洗的声波频率为130HZ～150HZ。4.根据权利要求1所述的一种PVD拉丝产品的表面处理工...

【专利技术属性】
技术研发人员：浦东云，邹伟彥，
申请(专利权)人：金源康惠州实业有限公司，
类型：发明
国别省市：