一种单晶硅片清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了单晶硅片加工技术领域的一种单晶硅片清洗装置，包括工作台，所述工作台的上表面中部设有传送带，且传送带上设有两组U型连接座，所述工作台的上表面且位于传送带的两侧安装有滑动连接的壳体，两组所述壳体顶部中间位置设有步进电机，且步进电机的输出端连接有螺纹杆，且螺纹杆上螺纹连接有螺纹套，所述螺纹套的两侧连接有限位组件，且螺纹套的前端面设有清洗板，所述清洗板的外表面设有毛刷，两组所述壳体的顶部通过支杆连接有支撑板，且支撑板上设有喷淋组件，所述喷淋组件包括喷头，本实用新型专利技术通过喷出的清洗液与移动的毛刷配合使用，能够实现对单晶硅片的双面清洗工作，解决了单晶硅片清洗不干净和清洗效率低的问题。低的问题。低的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种单晶硅片清洗装置


[0001]本技术涉及单晶硅片加工
，具体为一种单晶硅片清洗装置。

技术介绍

[0002]太阳能利用技术在研究开发、商业化生产、市场开拓方面都获得了长足发展。单晶硅片是制造半导体硅器件的原料，用于制大功率整流器、二极管、开关器件等的主要材料，在硅片加工过程中，单晶硅片易附着颗粒、有机物、金属或是吸附杂质分子，需要对其进行清洗。
[0003]现有的单晶硅片清洗方法是直接放入水槽中清洗，无法保证单晶硅片清洗干净，且不能对单晶硅片实现双面清洗，为此，我们提出一种单晶硅片清洗装置。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种单晶硅片清洗装置，以解决上述
技术介绍
中提出的单晶硅片清洗效果差和清洗效率低的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0006]一种单晶硅片清洗装置，包括工作台，所述工作台的上表面中部设有呈水平方向设置的传送带，且传送带上设有两组U型连接座，相邻所述U型连接座之间设有单晶硅片，所述工作台的上表面且位于传送带的两侧安装有滑动连接的壳体，两组所述壳体顶部中间位置设有步进电机，且步进电机的输出端连接有螺纹杆，所述螺纹杆的底端通过轴承连接在壳体的内腔底部，且螺纹杆上螺纹连接有螺纹套，所述螺纹套的两侧连接有限位组件，且螺纹套的前端面设有清洗板，所述清洗板的外表面设有毛刷，两组所述壳体的顶部通过支杆连接有支撑板，且支撑板上设有喷淋组件，所述喷淋组件包括喷头，所述喷头正对单晶硅片。
[0007]进一步的：所述限位组件包括两组滑套，两组所述滑套与螺纹套的两侧面连接，且两组所述滑套滑动连接在限位杆上，所述限位杆位于壳体的内腔两侧。
[0008]进一步的：所述喷淋组件还包括水箱，所述水箱位于前侧壳体的外侧面，且水箱通过进水管连通有水泵，所述水泵位于支撑板的上表面，且水泵的出水口通过出水管与喷头连通。
[0009]进一步的：所述工作台的上表面且位于传送带的两侧开设有移动槽，两组所述移动槽内滑动连接有移动座，且移动座的顶部安装有壳体。
[0010]进一步的：所述传送带、步进电机和水泵的电性端均电性连接外部电源和开关的电性端。
[0011]进一步的：所述壳体、螺纹杆和限位杆的外表面涂有防腐层。
[0012]进一步的：两组所述U型连接座的内壁设有橡胶垫。
[0013]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0014]本技术通过水泵将水箱内的清洗液输送到喷头内，喷头将清洗液喷出，使清
洗液从上到下流向单晶硅片，步进电机正反转工作后，可带动螺纹套在螺纹杆上移动，螺纹套通过滑套限位后，带动了清洗板上的毛刷上下移动，配合清洗液的冲洗能够完成对单晶硅片的双面清洗工作，解决了单晶硅片清洗不干净和清洗效率低的问题，实用性好。
附图说明
[0015]图1为本技术结构示意图；
[0016]图2为本技术侧视图；
[0017]图3为本技术壳体内部结构示意图。
[0018]图中：1、工作台；2、移动槽；3、移动座；4、传送带；5、壳体；6、水箱；7、进水管；8、水泵；9、出水管；10、支撑板；11、清洗板；12、U型连接座；13、毛刷；14、喷头；15、步进电机；16、螺纹杆；17、螺纹套；18、限位杆；19、滑套。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]实施例1：
[0021]请参阅图1
‑
3，本技术提供一种技术方案：一种单晶硅片清洗装置，包括工作台1，工作台1的上表面中部设有呈水平方向设置的传送带4，且传送带4上设有两组U型连接座12，相邻U型连接座12之间设有单晶硅片，工作台1的上表面且位于传送带4的两侧安装有滑动连接的壳体5，两组壳体5顶部中间位置设有步进电机15，且步进电机15的输出端连接有螺纹杆16，螺纹杆16的底端通过轴承连接在壳体5的内腔底部，且螺纹杆16上螺纹连接有螺纹套17，螺纹套17的两侧连接有限位组件，且螺纹套17的前端面设有清洗板11，清洗板11的外表面设有毛刷13，两组壳体5的顶部通过支杆连接有支撑板10，且支撑板10上设有喷淋组件，喷淋组件包括喷头14，喷头14正对单晶硅片，在使用前，工作台1可在密封空间使用，可对喷出后的清洗液进行回收处理，同时，传送带4做防水处理，工作台1上的用电设备电性连接外部电源和开关的电性端，清洗板11上下移动的宽度略大于单晶硅片的长度，将单晶硅片安装在相邻的U型连接座12之间，传送带4将单晶硅片输送到相邻壳体5之间后停止工作，滑动连接的壳体5向内侧方向移动，直至毛刷13贴合单晶硅片表面即可；
[0022]喷淋组件工作，通过喷头14将清洗液喷出，从上到下流下单晶硅片，步进电机15正反转工作后，带动了螺纹套17在螺纹杆16上移动，螺纹套17通过限位组件限位后，只能上下移动，即带动了清洗板11前端面的毛刷13在单晶硅片的表面来回移动，配合清洗液的作用后，实现了对单晶硅片的双面清洗，解决了单晶硅片清洗不干净和清洗效率低的问题。
[0023]请参照图1和图3，其中，优选的，限位组件包括两组滑套19，两组滑套19与螺纹套17的两侧面连接，且两组滑套19滑动连接在限位杆18上，限位杆18位于壳体5的内腔两侧，限位杆18固定连接在壳体5之间，通过滑套19的滑动连接限位了螺纹套17的转动。
[0024]请参照图1和图2，优选的，喷淋组件还包括水箱6，水箱6位于前侧壳体5的外侧面，且水箱6通过进水管7连通有水泵8，水泵8位于支撑板10的上表面，且水泵8的出水口通过出
水管9与喷头14连通，水箱6内有水或清洗液，水泵8工作后，能够将水箱6内的清洗液或水输送到喷头14内喷出。
[0025]请参照图1，优选的，工作台1的上表面且位于传送带4的两侧开设有移动槽2，两组移动槽2内滑动连接有移动座3，且移动座3的顶部安装有壳体5，通过移动座3与移动槽2的滑动连接可调节毛刷13的位置，直至毛刷13贴合单晶硅片为止。
[0026]请参照图1和图2，优选的，传送带4、步进电机15和水泵8的电性端均电性连接外部电源和开关的电性端。
[0027]实施例2：
[0028]参照图3，该实施例不同于第一个实施例的是：壳体5、螺纹杆16和限位杆18的外表面涂有防腐层，防腐层具有防腐作用，避免壳体5、螺纹杆16和限位杆18长期经受清洗液或水的冲刷而生锈。
[0029]请参照图1和图2，两组U型连接座12的内壁设有橡胶垫，橡胶垫具有保护作用，防止安装的单晶硅片出现损坏。
[0030]尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单晶硅片清洗装置，包括工作台(1)，其特征在于：所述工作台(1)的上表面中部设有呈水平方向设置的传送带(4)，且传送带(4)上设有两组U型连接座(12)，相邻所述U型连接座(12)之间设有单晶硅片，所述工作台(1)的上表面且位于传送带(4)的两侧安装有滑动连接的壳体(5)，两组所述壳体(5)顶部中间位置设有步进电机(15)，且步进电机(15)的输出端连接有螺纹杆(16)，所述螺纹杆(16)的底端通过轴承连接在壳体(5)的内腔底部，且螺纹杆(16)上螺纹连接有螺纹套(17)，所述螺纹套(17)的两侧连接有限位组件，且螺纹套(17)的前端面设有清洗板(11)，所述清洗板(11)的外表面设有毛刷(13)，两组所述壳体(5)的顶部通过支杆连接有支撑板(10)，且支撑板(10)上设有喷淋组件，所述喷淋组件包括喷头(14)，所述喷头(14)正对单晶硅片。2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片清洗装置，其特征在于：所述限位组件包括两组滑套(19)，两组所述滑套(19)与螺纹套(17)的两侧面连接，且两组所述滑套(19)滑动连接...

【专利技术属性】
技术研发人员：张靖，方艺霖，何飞，
申请(专利权)人：扬州永翔新能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：