基于基座式高对比度复合光栅的光学折射率传感器制造技术

本发明专利技术公开了一种基于基座式高对比度复合光栅的光学折射率传感器，包括光栅层、中间层和基底，从上到下依次为光栅层、中间层、基底，所述结构包括若干个周期性单元，每个周期性单元包括两个复合的高对比度光栅，所述光栅的光栅横截面为矩型。所述中间层是通过对二氧化硅进行局部刻蚀形成的基座式结构。本发明专利技术在传统高对比度光栅的基础之上增加了基座式结构和复合光栅结构，基座式结构增强了局域光场与检测物质的相互作用，复合光栅结构增强了对局域光场的束缚能力。通过设计基座式复合光栅结构、调整光栅的结构参数，实现对不同模式的调控。调控。

【技术实现步骤摘要】
基于基座式高对比度复合光栅的光学折射率传感器


[0001]本专利技术专利涉及微纳光学器件
，特别是涉及一种基于基座式高对比度复合光栅的光学折射率传感器。

技术介绍

[0002]近年来，微纳集成光学传感器被广泛应用于生物探测、环境检测、生化分析等领域。构建微纳集成光学传感器常用的功能单元有微环谐振器、光子晶体波导、亚波长光栅等。相比于其他功能单元，亚波长光栅结构是一种较好的选择，易于与入射光源垂直耦合。通过设计光栅单元结构，可以有效调控光栅的漏模谐振，增强漏模光场与检测液体的相互作用，提升光学传感器件的性能指标。但是传统的亚波长光栅结构难以实现高品质因子Q(Q
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factor)和高灵敏度S(sensitivity)的光学生物传感，近年来，一种特殊的亚波长结构高对比度光栅(High
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contrast grating，HCG)成为研究热点，特别是基于HCG的光学生物传感器备受人们关注。然而，普通的HCG难以实现高灵敏度和高品质因子的光学生物传感。构筑新型HCG微纳结构，利用微纳结构调控局域光场，增加局域光场本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于基座式高对比度复合光栅的光学折射率传感器，其特征在于，包括：复合光栅层和中间层、基底，从上到下依次为复合光栅层、中间层、基底，所述结构包括若干周期性单元，每个周期性单元包括两个光栅，所述光栅的光栅横截面为矩型。所述中间层是通过对二氧化硅进行局部刻蚀形成的基座式结构。2.根据权利要求1所述的基于基座式高对比度复合光栅的光学折射率传感器，其特征在于，所述复合光栅层采用高折射率材料，为Si或αSi。3.根据权利要求1所述的基于基座式高对比度复合光栅的光学折射率传感器，其特征在于，所述中间层采用低折射材料，为SiO2。4.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘秀红，张晴，胡劲华，
申请(专利权)人：河北工程大学，
类型：发明
国别省市：