基板清洗装置制造方法及图纸

技术编号:3722112 阅读:138 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种基板清洗装置,适于清洗一沿着一移动方向来移动的基板,该基板清洗装置包括:    第一毛刷轮,沿着第一旋转轴线来旋转,用以刷洗该基板的第一表面,其中该第一旋转轴线与该移动方向的夹角大于0度且小于90度;以及    第一角度调整器,连接于该第一毛刷轮,用以调整该第一旋转轴线与该移动方向的夹角。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种清洗装置,特别是涉及一种利用毛刷轮来清洗基板表 面的装置。
技术介绍
由于平面显示技术的突飞猛进,其应用逐渐从计算机用屏幕延伸至家用电视。就薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)制作工艺而言,清洗步骤 经常连接于镀膜、光刻及蚀刻等步骤的前、中、后等时机,用以维持显示 器基板在生产过程中的表面洁净度。基板表面的清洗方式包括化学性及物理性的清洗方式。举例而言,利 用转动中的毛刷轮表面的纤毛来刷洗(scrub)基板表面以达到清洗目的者 属于物理性的清洗方式。毛刷刷洗(brush cleaning)通常应用于刚拆封后的 素玻璃基板的清洗,并广泛地应用于目前的湿式清洗设备。由于显示器基 板的尺寸的不断增加,大尺寸素玻璃基板的清洗步骤大多已采用毛刷刷洗, 所以毛刷刷洗装置的零组件具有很大的市场商机。在实际应用上,以滚轮式毛刷来清洗基板表面的可控制参数包括毛刷 接触基板的时间及压合力道。因此,为了提高基板表面的清洗度,可增加 毛刷接触基板的时间、增加毛刷接触基板的压合力道或同时增加时间及压 合力道。然而,若增加毛刷接触基板的时间,则势必造成清洗步骤所消耗的时 间过长,这不利于显示器的产能的提高;若增加毛刷接触基板的压合力道, 则增加基板作水平滑动的机率,这会提高基板发生滑片及迭片的机率,因 而不利于显示器的产能的提高。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种基板清洗装置,用以提高基板的清洗效能。本专利技术的另 一 目的在于4是供一种基板清洗装置,用以降低基板发生滑 片的机率。本专利技术的目的是这样实现的,即提供一种基板清洗装置,其适于清洗 一沿着一移动方向来移动的基板,该基板清洗装置包括一毛刷轮,其沿着 一旋转轴线来旋转,用以刷洗该基板的一表面,其中上述旋转轴线与上述移动方向的夹角大于0度且小于90度。基于上述,通过将毛刷轮的旋转轴线与基板的移动方向的夹角设定为 锐角,本专利技术的基板清洗装置可以提高基板的清洗效能及降低基板发生滑 片的机率。为让本专利技术的上述和其它目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举 多个实施例,并配合所附图式,作详细说明如下。附图说明图1A是本专利技术的第 一 实施例的 一种基板清洗装置的侧视图; 图IB是图1A的毛刷轮的俯视图; 图2A是本专利技术的第二实施例的基板清洗装置的侧视图; 图2B是图2A的毛刷轮的俯视图;图3A是图2A的基板清洗装置于旋转毛刷轮后的侧视图; 图3B是图3A的毛刷轮的俯视图; 图4A是图3A的角度调整器的实施例;图4B是图4A的毛刷轮经由角度调整器调整倾斜角度后的示意图。主<table>table see original document page 5</column></row><table>118、 128:角度调整器118a:调整杆130:轨道200:制作工艺腔体Al、 A2:夹角Hl、 H2:旋转轴线M:移动方向具体实施方式图1A是本专利技术的第一实施例的一种基板清洗装置的側视图,而图IB 是图1A的毛刷轮的俯视图。请参考图1A及图IB,本专利技术的第一实施例的 一种基板清洗装置101是用来清洗一沿着一移动方向M来移动的基板10, 其中基板10可通过一基板输送装置的多个导引滚轮20或其它机构来沿着 移动方向M来作水平移动。在第一实施例中,基板清洗装置101并未包括上述的基板输送装置, 但在其它实施例中,基板清洗装置101及基板输送装置也可整合于单一设 备。基板清洗装置101包括一毛刷轮110,其沿着一旋转轴线H1而可枢转 地设置于基板10的输送路径的上方,并利用毛刷轮110上的纤毛来刷洗基 板10的表面12,以清洗基板10的表面12,其中旋转轴线HI与移动方向 M的夹角更设定大于0度且小于90度。为了提高清洗基板10的效能,基板清洗装置IOI更可包括一驱动马达 112,其耦接至毛刷轮IIO,用以驱使毛刷轮110沿着旋转轴线H1来旋转, 因而提高基板10的单位面积在单位时间内受到毛刷轮110的纤毛的摩擦次 数。上述的驱动马达112例如是经由一传动机构(未绘示)来耦接至毛刷 轮110的一端,而毛刷轮110的另一端则连接一轴承(未绘示),故驱动 马达112的转动动能可传递至毛刷轮110,用以驱使毛刷轮IIO作旋转。为了调整毛刷轮IIO接触基板10的压合力道,基板清洗装置101更可 包括一高度调整器114,用以调整毛刷轮110的轴心110a相对于基板10的 表面12的距离,因而调整毛刷轮110的纤毛受力形变后所施加在基板10 的表面12的力量。上述的高度调整器114例如为马达及线性移动机构的組合。为了提高清洗基板IO的效能,基板清洗装置101更可包括一液体喷洒 器116,其是面朝基板10的表面12来设置,用以喷洒液体至基板10的表 面12。上述的液体例如是清洗液或去离子水等。值得注意的是,毛刷轮110的旋转轴线Hl与移动方向M的夹角Al 已设定大于0度且小于90度,即夹角Al已设定为一锐角,所以基板10的 表面12受到毛刷轮110所接触的宽度将成为传统宽度的sec Al倍。因此, 通过这样的设置方式可以增加基板10的整个表面12的单位面积受到毛刷 轮110所刷洗的时间,因而提高基板10的清洗效能。值得注意的是,当正旋转中的毛刷轮110施加 一刷洗力F在基板10上 时,由于旋转轴线H1与移动方向M的夹角Al已设定为大于0度且小于 90度,即夹角A1已设定为一锐角,所以基板10在移动方向M上所受到刷 洗力F的分力为F x Sin Al,其小于刷洗力F。因此,通过这样的设置方式 可以降低基板10发生滑片的机率。在第一实施例中,基板清洗装置101更可包括另一毛刷轮120,其沿 着一旋转轴线H2而可枢转地设置于基板10的输送路径的下方,并利用毛 刷轮110上的纤毛来刷洗基板10的表面14,其中旋转轴线H2与移动方向 M的夹角A2大于0度且小于90度,即夹角A2为一锐角。如图1A所示,若在基板10的表面12上设有上述的毛刷轮110,而没 有其它的支撑构件的话,旋转轴线H2与旋转轴线H1可设定实质上相互平 行且位于同 一平面上,使得基板10的同 一 区段位于毛刷轮110及毛刷轮120 之间。此外,相似于上述的驱动马达112、高度调整器114及液体喷洒器116 对应于毛刷轮110的设置方式,基板清洗装置101更可包括一驱动马达122、 高度调整器124及液体喷洒器126,其对应于毛刷轮120的设置方式分别相 似于驱动马达112、高度调整器114及液体喷洒器116的对应于毛刷轮110 的设置方式,在此不再赘述。第一实施例的基板清洗装置101是毛刷轮110及毛刷轮120均已预先 固定的设计,但在下面的第二实施例中,毛刷轮110及120可相对于基板 10的移动方向M来调整其旋转轴线H1及旋转轴线H2与移动方向M的夹 角。图2A是本专利技术的第二实施例的基板清洗装置的侧视图,而图2B是图 2A的毛刷轮的俯视图。请参考图2A及图2B,除了可包括第一实施例的基 板清洗装置101所包括的构件以外,本专利技术的第二实施例的基板清洗装置 102更包括一角度调整器118,其连接于毛刷轮110,用以调整旋转轴线H1 与移动方向M的夹角Al。此外,基板清洗装置102更本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:蔡东璋
申请(专利权)人:财团法人工业技术研究院
类型:发明
国别省市:

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