【技术实现步骤摘要】
一种硅片表面色差去除装置
[0001]本技术涉及硅片
,具体为一种硅片表面色差去除装置。
技术介绍
[0002]元素硅是一种灰色、易碎、四价的非金属化学元素,硅晶片又称晶圆片,是由硅锭加工而成的,通过专门的工艺可以在硅晶片上刻蚀出数以百万计的晶体管,被广泛应用于集成电路的制造。
[0003]经检索,中国专利授权号为CN 215299195 U的专利,公开了一种硅片清洗烘干装置,属于硅片清洗装置领域,该一种硅片清洗烘干装置,包括清洗机构和烘干机构,所述清洗机构包括清洗箱、螺纹杆、固定板、电机和第一水泵,所述清洗箱一端开通,所述螺纹杆两端转动连接在所述清洗箱内壁,所述烘干机构包括支架、电动推杆、盖板和热风机,所述支架固定在所述清洗箱顶面,所述电动推杆固定在所述支架一侧,所述盖板固定在所述电动推杆输出端,所述热风机固定在所述盖板一侧,所述热风机一端连接有风管,所述风管穿透所述盖板表面朝向所述清洗箱内部,该一种硅片清洗烘干装置利用底部循环泵对杂质进行吸附,使得清洗液始终保持较澄清清洗效果好;但依然存在的问题是现有的硅片 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种硅片表面色差去除装置,包括装置本体(1),其特征在于:所述装置本体(1)包括水槽(2)、清洗装置(3)和去除装置(4),所述水槽(2)上设置有清洗装置(3),所述水槽(2)一端设置有去除装置(4),所述去除装置(4)包括机架(41)、皮带(42)、安装块(43)、收卷辊(44)和限位板(45),所述机架(41)上端驱动连接有皮带(42),所述两端机架(41)上端均固定连接有安装块(43),所述两端机架(41)上均安装有三组安装块(43),且均为对称设置,所述安装块(43)之间连接有收卷辊(44)。2.根据权利要求1所述的一种硅片表面色差去除装置,其特征在于:所述皮带(42)上端固定连接有限位板(45),所述限位板(45)等间距设置有若干个。3.根据权利要求1所述的一种...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨长剑,陈斯奇,刘静彩,
申请(专利权)人:嘉兴昇望科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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