一种酸性条件下清洁硅结垢的方法技术

本发明专利技术涉及硅垢处理技术领域，具体为一种酸性条件下清洁硅结垢的方法，包括将氯化铵10％、氢氟酸10％、氟化氢氨30％与剩余量的水稀释至1

【技术实现步骤摘要】
一种酸性条件下清洁硅结垢的方法


[0001]本专利技术涉及结垢处理
，具体为一种酸性条件下清洁硅结垢的方法。

技术介绍

[0002]膜浓缩和蒸发处理均属于一种浓缩的技术，而在浓缩过程中，每种成分的浓度都会上升，当浓缩到成分饱和浓度的时候，该成分就会析出。往往废水中会含有不同种类的浓度的盐分和有机物等，每种盐分的溶解度不一样，在浓缩过程中，有些溶解度低的物质会优先析出，不可避免的在膜孔表面结垢，影响产水性能，或在蒸发器表面结垢，影响换热效率。因此，当发生这种情况时，会采用不同的化学药剂对结垢的设备清洗，结垢的成分和种类比较多，常见的如碳酸钙，氢氧化镁，二氧化硅等。碳酸钙和氢氧化镁的结垢通过酸洗可以去除，而常规的处理二氧化硅结垢的方式，需要在碱性条件下去除，然后高倍数的浓缩膜不能在碱性条件下运行的，因此，需要开发出一种能在酸性条件下清洗二氧化硅结垢的方法。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种酸性条件下清洁硅结垢的方法，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0004]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
[0005]一种酸性条件下清洁硅结垢的方法，包括以下步骤：
[0006]步骤1：制备清洗液
[0007]将氯化铵10％、氢氟酸10％、氟化氢氨30％与剩余量的水稀释至1
‑
5％的浓度，pH值为3
‑
7，稀释后的混合物温度为30
‑
50℃；
[0008]步骤2：根据待清洗设备的结垢污染程度，选择不同的清洗方式，清洗过程中观察清洗液的水质情况；
[0009]所述清洗方式包括：
[0010]浸泡，利用步骤1制备的清洗液在待清洗设备内浸泡1
‑
8h；
[0011]低流量循环，利用循环泵将步骤1制备的清洗液在待清洗设备内循环运行，运行流量占比为10％
‑
50％，运行时间未1
‑
4h；
[0012]高流量循环，根据待清洗设备和循环泵能承受的最大循环流量运行4
‑
8h；
[0013]步骤3：清水冲洗
[0014]将清洗液从待清洗设备中排放出，并待清洗设备的冲洗排水阀门，用过滤后的清水将待清洗设备冲洗干净。
[0015]优选的，步骤2中，观察清洗液的水质情况包括清洗液的电导率、pH值、色度、硅含量。
[0016]优选的，步骤3中，冲洗时间为15
‑
60分钟。
[0017]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：该酸性条件下清洁硅结垢的方法，解决的酸性条件下清洗二氧化硅结垢的问题，且药剂成本低，环境污染小。
附图说明
[0018]图1为本专利技术的整体方法流程图。
具体实施方式
[0019]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0020]一种酸性条件下清洁硅结垢的方法，如图1所示，包括以下步骤：
[0021]步骤1：制备清洗液
[0022]将氯化铵10％、氢氟酸10％、氟化氢氨30％与剩余量的水稀释至1
‑
5％的浓度，pH值为3
‑
7，稀释后的混合物温度为30
‑
50℃；
[0023]步骤2：根据待清洗设备的结垢污染程度，选择不同的清洗方式，清洗过程中观察清洗液的水质情况，包括清洗液的电导率、pH值、色度、硅含量；
[0024]所述清洗方式包括：
[0025]浸泡，利用步骤1制备的清洗液在待清洗设备内浸泡1
‑
8h；
[0026]低流量循环，利用循环泵将步骤1制备的清洗液在待待清洗设备内循环运行，运行流量占比为10％
‑
50％，运行时间未1
‑
4h；
[0027]高流量循环，根据待清洗设备和循环泵能承受的最大循环流量运行4
‑
8h；
[0028]步骤3：清水冲洗
[0029]将清洗液从待清洗设备中排放出，并待清洗设备的冲洗排水阀门，用过滤后的清水将待清洗设备冲洗干净，冲洗时间为15
‑
60分钟，直至冲洗后的排水电导率值检测和冲洗水电导率值接近即判定冲洗干净。
[0030]通过上述内容不难看出，该方法解决的酸性条件下清洗二氧化硅结垢的问题，且药剂成本低，环境污染小。
[0031]以上显示和描述了本专利技术的基本原理、主要特征和本专利技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本专利技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的仅为本专利技术的优选例，并不用来限制本专利技术，在不脱离本专利技术精神和范围的前提下，本专利技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本专利技术范围内。本专利技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种酸性条件下清洁硅结垢的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：制备清洗液将氯化铵10％、氢氟酸10％、氟化氢氨30％与剩余量的水稀释至1
‑
5％的浓度，pH值为3
‑
7，稀释后的混合物温度为30
‑
50℃；步骤2：根据待清洗设备的结垢污染程度，选择不同的清洗方式，清洗过程中观察清洗液的水质情况；所述清洗方式包括：浸泡，利用步骤1制备的清洗液在待清洗设备内浸泡1
‑
8h；低流量循环，利用循环泵将步骤1制备的清洗液在待待清洗设备内循环运行，运行流量占比为10...

【专利技术属性】
技术研发人员：李桂平，张薇薇，张旸，陈德星，张其深，
申请(专利权)人：上海易湃富得环保科技有限公司，
类型：发明
国别省市：