一种α型半水石膏的智能生产控制方法及系统技术方案

技术编号:37199146 阅读:14 留言:0更新日期:2023-04-20 22:56
本发明专利技术涉及生产控制技术领域,提供了一种α型半水石膏的智能生产控制方法及系统,所述方法包括:采集获得订单需求信息,需求解析获得需求解析结果;构建工艺流程集合,匹配流程参数,获得流程参数匹配结果,原材破碎,采集破碎结果图像,获得图像采集结果;破碎后,执行蒸压、烘干、粉磨处理,获得粉磨处理原材;二次炒制粉磨处理原材,获得α型半水石膏,质量测定生成质量测定结果,生成反馈控制参数,进行分参数优化,解决α型半水石膏的生产控制参数调整缺乏客观性,生产控制精度低技术问题,在α型半水石膏生产的全阶段进行控制参数反馈优化,实现生产控制全阶段自动调控,排除生产控制参数调整的个人主观误差,提高生产控制精度技术效果。技术效果。技术效果。

【技术实现步骤摘要】
一种
α
型半水石膏的智能生产控制方法及系统


[0001]本专利技术涉及生产控制相关
,具体涉及一种α型半水石膏的智能生产控制方法及系统

技术介绍

[0002]半水石膏广泛应用于工业、建筑业等各种行业,常见的,半水石膏分为α型和β型,α型半水石膏以二水石膏在高温、高压作用下,重结晶并脱去一又二分之一水分子产生,高温、高压与重结晶对半水石膏制品的性能存在影响。
[0003]由于在α型半水石膏生产工艺流程全阶段,存在多项生产控制参数,相关技术生产人员观察α型半水石膏制品,实现生产控制参数调整,但技术人员调整的生产控制参数存在个人主观误差,石膏的生产控制参数调整精度低,生产控制参数调整存在一定的滞后性。
[0004]综上所述,现有技术中存在α型半水石膏的生产控制参数调整缺乏客观性,生产控制精度低的技术问题。

技术实现思路

[0005]本申请通过提供了一种α型半水石膏的智能生产控制方法及系统,旨在解决现有技术中的α型半水石膏的生产控制参数调整缺乏客观性,生产控制精度低的技术问题。
[0006]鉴于上述问题,本申请实施例提供了一种α型半水石膏的智能生产控制方法及系统。
[0007]本申请公开的第一个方面,提供了一种α型半水石膏的智能生产控制方法,其中,所述方法包括:采集获得订单需求信息,对所述订单需求信息进行需求解析,获得需求解析结果;通过历史生产数据构建工艺流程集合,通过所述需求解析结果对所述工艺流程集合进行流程参数匹配,获得流程参数匹配结果;通过所述流程参数匹配结果控制粉碎控制装置进行原材破碎,通过图像采集装置进行破碎结果图像采集,获得图像采集结果;对破碎后的原材执行蒸压、烘干处理,将处理后的原材进行粉磨,获得粉磨处理原材;通过所述流程参数匹配结果控制温度控制装置进行所述粉磨处理原材的二次炒制,获得α型半水石膏;对所述α型半水石膏进行质量测定,生成质量测定结果;根据所述质量测定结果、所述图像采集结果和所述需求解析结果生成反馈控制参数,通过所述反馈控制参数进行所述流程参数匹配结果的参数优化。
[0008]优选的,所述方法还包括:对所述图像采集结果进行粉碎特征识别,获得粉碎特征识别结果;通过所述粉碎特征识别结果进行粒径分布统计,获得粒径分布集合;根据所述粒径分布集合获得粒径集中值和粒径极大值;根据所述粒径集中值和所述粒径极大值、所述流程参数匹配结果获得所述反馈控制参数。
[0009]优选的,所述方法还包括:通过所述流程参数匹配结果获得破碎粒度约束阈值;根据所述粒径极大值和所述
破碎粒度约束阈值生成第一反馈约束参数;通过所述流程参数匹配结果获得设定粒径集中值;根据所述粒径集中值和所述设定粒径集中值生成第二反馈约束参数;通过所述第一反馈约束参数和所述第二反馈约束参数获得所述反馈控制参数。
[0010]优选的,所述方法还包括:根据所述粒径分布集合进行破碎粒度集中度评价,获得集中度评价结果;通过所述集中度评价结果进行所述第二反馈约束参数的参数修正,获得修正第二反馈约束参数;通过所述修正第二反馈约束参数和所述第一反馈约束参数获得所述反馈控制参数。
[0011]优选的,所述方法还包括:根据所述质量测定结果和所述需求解析结果进行强度偏离分析,获得强度偏离分析结果;将所述强度偏离分析结果和所述图像采集结果输入智能温度调控模型,输出温度调控反馈数据;通过所述温度调控反馈数据获得所述反馈控制参数。
[0012]优选的,所述方法还包括:根据所述历史生产数据进行二次炒制控制稳定性评价,根据控制稳定性评价结果构建影响调整隐含层;将所述影响调整隐含层耦合至所述智能温度调控模型,当所述强度偏离分析结果和所述图像采集结果输入至所述智能温度调控模型,通过所述影响调整隐含层对所述图像采集结果进行处理;输出影响温控区间,其中,所述影响温控区间为所述影响调整隐含层的输出结果;将所述影响温控区间和所述强度偏离分析结果输入所述智能温度调控模型,输出获得所述温度调控反馈数据。
[0013]优选的,所述方法还包括:设定连续监测周期;通过所述连续监测周期进行所述α型半水石膏的连续监测反馈,生成连续监测反馈结果;将所述连续监测反馈结果发送至所述智能温度调控模型进行模型补偿。
[0014]本申请公开的另一个方面,提供了一种α型半水石膏的智能生产控制系统,其中,所述系统包括:需求解析模块,用于采集获得订单需求信息,对所述订单需求信息进行需求解析,获得需求解析结果;流程参数匹配模块,用于通过历史生产数据构建工艺流程集合,通过所述需求解析结果对所述工艺流程集合进行流程参数匹配,获得流程参数匹配结果;图像采集模块,用于通过所述流程参数匹配结果控制粉碎控制装置进行原材破碎,通过图像采集装置进行破碎结果图像采集,获得图像采集结果;粉磨处理模块,用于对破碎后的原材执行蒸压、烘干处理,将处理后的原材进行粉磨,获得粉磨处理原材;二次炒制模块,用于通过所述流程参数匹配结果控制温度控制装置进行所述粉磨处理原材的二次炒制,获得α型半水石膏;质量测定模块,用于对所述α型半水石膏进行质量测定,生成质量测定结果;参数优化模块,用于根据所述质量测定结果、所述图像采集结果和所述需求解析结果生成反馈控制参数,通过所述反馈控制参数进行所述流程参数匹配结果的参数优化。
[0015]本申请中提供的一个或多个技术方案,至少具有如下技术效果或优点:由于采用了采集获得订单需求信息,需求解析获得需求解析结果;通过历史生产数据构建工艺流程集合,通过需求解析结果,进行流程参数匹配,获得流程参数匹配结果,进行原材破碎,采集破碎结果图像,获得图像采集结果;对破碎后的原材执行蒸压、烘干、粉磨处理,获得粉磨处理原材;通过流程参数匹配结果,进行粉磨处理原材的二次炒制,获得α型半水石膏,质量测定生成质量测定结果,结合图像采集结果和需求解析结果生成反馈控
制参数,进行流程参数匹配结果的参数优化,在α型半水石膏生产的全阶段进行控制参数反馈优化,实现了生产控制全阶段自动调控,排除生产控制参数调整的个人主观误差,提高生产控制精度的技术效果。
[0016]上述说明仅是本申请技术方案的概述,为了能够更清楚了解本申请的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本申请的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举本申请的具体实施方式。
附图说明
[0017]图1为本申请实施例提供了一种α型半水石膏的智能生产控制方法可能的流程示意图;图2为本申请实施例提供了一种α型半水石膏的智能生产控制方法中输出温度调控反馈数据可能的流程示意图;图3为本申请实施例提供了一种α型半水石膏的智能生产控制方法中获得反馈控制参数可能的流程示意图;图4为本申请实施例提供了一种α型半水石膏的智能生产控制系统可能的结构示意图。
[0018]附图标记说明:需求解析模块100,流程参数匹配模块200,图像采集模块300,粉磨处理模块400,二次炒制模块500,质量测定模块600,参数优化模块700。
具体实施方式
[00本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种α型半水石膏的智能生产控制方法,其特征在于,所述方法应用于智能生产控制系统,所述方法包括:采集获得订单需求信息,对所述订单需求信息进行需求解析,获得需求解析结果;通过历史生产数据构建工艺流程集合,通过所述需求解析结果对所述工艺流程集合进行流程参数匹配,获得流程参数匹配结果;通过所述流程参数匹配结果控制粉碎控制装置进行原材破碎,通过图像采集装置进行破碎结果图像采集,获得图像采集结果;对破碎后的原材执行蒸压、烘干处理,将处理后的原材进行粉磨,获得粉磨处理原材;通过所述流程参数匹配结果控制温度控制装置进行所述粉磨处理原材的二次炒制,获得α型半水石膏;对所述α型半水石膏进行质量测定,生成质量测定结果;根据所述质量测定结果、所述图像采集结果和所述需求解析结果生成反馈控制参数,通过所述反馈控制参数进行所述流程参数匹配结果的参数优化。2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法包括:对所述图像采集结果进行粉碎特征识别,获得粉碎特征识别结果;通过所述粉碎特征识别结果进行粒径分布统计,获得粒径分布集合;根据所述粒径分布集合获得粒径集中值和粒径极大值;根据所述粒径集中值和所述粒径极大值、所述流程参数匹配结果获得所述反馈控制参数。3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述方法包括:通过所述流程参数匹配结果获得破碎粒度约束阈值;根据所述粒径极大值和所述破碎粒度约束阈值生成第一反馈约束参数;通过所述流程参数匹配结果获得设定粒径集中值;根据所述粒径集中值和所述设定粒径集中值生成第二反馈约束参数;通过所述第一反馈约束参数和所述第二反馈约束参数获得所述反馈控制参数。4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述方法包括:根据所述粒径分布集合进行破碎粒度集中度评价,获得集中度评价结果;通过所述集中度评价结果进行所述第二反馈约束参数的参数修正,获得修正第二反馈约束参数;通过所述修正第二反馈约束参数和所述第一反馈约束参数获得所述反馈控制参数。5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法包括:根据所述质量测定结果和所述需求解析结果进行强度偏离分析,获得强度偏离分析结果;...

【专利技术属性】
技术研发人员:宋小霞杨丹唐永波唐绍林万建东彭卓飞张婧秦必政唐炜
申请(专利权)人:一夫科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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