一种应用于超声波清洗中的滚轮结构制造技术

本实用新型专利技术涉及一种应用于超声波清洗中的滚轮结构，安装于装有溶液的清洗槽内，清洗槽的上下两侧分别设有至少一组超声波清洗机，滚轮结构包括阻水滚轮和若干上压滚轮，阻水滚轮和上压滚轮均为浮动滚轮；阻水滚轮与上压滚轮平行设置且与硅片的传送方向垂直，阻水滚轮分别设置于清洗槽的前壁和后壁处，每组阻水滚轮包括垂向叠放的两层或三层；若干上压滚轮排布于清洗槽内；清洗槽内的溶液的液位低于最上层的阻水滚轮的上表面，高于上压滚轮的下表面，硅片从上压滚轮和最下层的阻水滚轮的下方穿过。本申请中，阻水滚轮和上压滚轮均采用浮动滚轮，避免硅片漂浮继而跑偏，导致硅片损坏；同时采用垂向叠放的两层或三层阻水滚轮，避免溶液快速渗漏。溶液快速渗漏。溶液快速渗漏。

【技术实现步骤摘要】
一种应用于超声波清洗中的滚轮结构


[0001]本技术涉及硅片加工设备领域，尤其涉及一种应用于超声波清洗中的滚轮结构。

技术介绍

[0002]半导体器件生产中硅片必须经过严格的清洗，因为即使是微量污染也会导致器件失效。目前清除硅片表面污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。化学清洗即为令硅片经过清洁溶液，以除去原子、离子等不可见的污染；物理清洗包括擦洗、喷射、超声波等，以除去颗粒污染。现已出现将两种清洗方式相结合的情况，例如同时采用化学清洗和超声波清洗，但是由于超声波清洗中需要溶液具有较深的深度，而溶液深度过大则会导致槽体易漏液，以及浮力加大导致的硅片易漂浮、滚轮易损坏硅片等一系列问题。

技术实现思路

[0003]本技术提供一种应用于超声波清洗中的滚轮结构，以解决上述技术问题。
[0004]为解决上述技术问题，本技术提供一种应用于超声波清洗中的滚轮结构，安装于装有溶液的清洗槽内，所述清洗槽的上下两侧分别设有至少一组超声波清洗机，所述滚轮结构包括阻水滚轮和若干上压滚轮，所述阻水滚轮和上压滚轮均为浮动滚轮；所述阻水滚轮与所述上压滚轮平本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种应用于超声波清洗中的滚轮结构，安装于装有溶液的清洗槽内，所述清洗槽的上下两侧分别设有至少一组超声波清洗机，其特征在于，所述滚轮结构包括阻水滚轮和若干上压滚轮，所述阻水滚轮和上压滚轮均为浮动滚轮；所述阻水滚轮与所述上压滚轮平行设置且与硅片的传送方向垂直，所述阻水滚轮分别设置于所述清洗槽的前壁和后壁处，每组所述阻水滚轮包括垂向叠放的两层或三层；若干所述上压滚轮排布于所述清洗槽内；所述清洗槽内的溶液的液位低于最上层的所述阻水滚轮的上表面，高于所述上压滚轮的下表面，硅片从所述上压滚轮和最下层的所述阻水滚轮的下方穿过。2.如权利要求1所述的应用于超声波清洗中的滚轮结构，其特征在于，所述阻水滚轮包括第一滚轮轴、第一直齿轮以及第一套管，所述第一直齿轮固定于所述第一滚轮轴的端部，上下两层所述阻水滚轮通过所述第一直齿轮相互啮合传动；所述第一套管套设于所述第一滚轮轴上，且所述第一滚轮轴的外径与所述第一套管的内径之间设有第一间隙；所述第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：程强强，欧阳钊，冯华，
申请(专利权)人：釜川无锡智能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：