X射线或XUV射线发生装置制造方法及图纸

一种按本发明专利技术的Ｘ射线或ＸＵＶ射线发生装置２，它装有校准装置，用于校准在目标物１６上的荷电粒子的基本粒子射线束１２。按本发明专利技术的用于偏转基本粒子射线束１２的偏转装置，使基本粒子射线束１２的中心轴线１８经过第一偏转点２０和与第一偏转点２０在射线方向具有距离的第二偏转点２２，此时第一和第二偏转点２０、２２同在目标物１６上的基本粒子射线束１２的一个给定的或可给出的集聚点一起设置在该轴线上，同时基本粒子射线束通过偏转装置可在射线方向的一个偏转点２０、２２范围内偏转，它与其它偏转点２２、２０范围内基本粒子射线束１２的偏转无关联。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种如权利要求1所述的X射线或XUV(远紫外)射线发生装置。
技术介绍
此种装置用于产生X射线，例如公开文献US 3793549和GB 1057284的X射线发生装置，以及公开文献WO 2004/023512A1、US 3138729、EP0887639A1和US 4523327的XUV射线发生装置。对于XUV(远紫外)射线，其波长范围应当是大约0.25至大约20nm。这样的装置按照如图所示的方法，例如在检查电子器件，特别是印刷电路板，以及控制和调节光学元件时使用。公知的装置设有校准装置，用于校准在目标物上的荷电粒子的基本粒子射线束，其中所选的目标物的材料与所发射的射线的理想波长相适合。公知装置的一个缺点在于，在目标物上的基本粒子射线束的集聚点与所设定的射中点之间有一定的偏差，这样会影响通过透视器件所得到图片的质量，并且在测量和调整时以及在调整数据方面造成测量错误。
技术实现思路
本专利技术的任务是提供一种按权利要求1所述方式的装置，它可减少目标物上的基本粒子射线束的集聚点与所设定的射中点之间的偏差，由此改善了目标物上对基本粒子射线束集聚点的射线束的位置稳定性。本专利技本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种Ｘ射线或ＸＵＶ射线发生装置，它装有校准装置，用于校准在目标物上的荷电粒子的基本粒子射线束，它还装有用于偏转基本粒子射线束的偏转装置，使基本粒子射线束的中心轴线经过第一偏转点和在射线方向与第一偏转点具有距离的第二偏转点，其中偏转装置设有用于偏转基本粒子射线束的第一偏转单元，其中心轴线经过第一偏转点，偏转装置还设有用于偏转基本粒子射线束的与第一偏转单元在基本粒子射线束的射线方向具有距离的第二偏转单元，其中心轴线经过第二偏转点，其中基本粒子射线束通过偏转单元对一个偏转点的可偏转与对其它偏转点的偏转无关联，其特征在于，每个偏转单元（２６、３２）用于偏转沿着两条相互垂直的轴线（Ｘ轴线和Ｙ轴线）构成的...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：A莱哈德，
申请(专利权)人：科美特有限公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]